氟聚合物和包含氟聚合物的膜(III)的制作方法

技术特征：

技术总结
披露了具有低CWST值的氟聚合物和由该氟聚合物制备的多孔膜。该氟聚合物由聚合的式A‑X‑CH2‑B的单体单元组成，其中A为C6F13‑(CH2)2，X为O或S，和B为乙烯基苯基，以及该氟聚合物的重均分子量(Mw)为至少100Kd和/或玻璃化转变温度为至少33℃。该多孔膜适于使多种流体脱气。

技术研发人员：F·O·奥耶莫娃;H·艾特-哈多;Y·拉布瑞切
受保护的技术使用者：帕尔公司
技术研发日：2017.09.13
技术公布日：2018.03.23