本发明涉及一种加压素[-nh2]杂质的精制方法。
背景技术：
：加压素是由九个氨基酸残基组成的合成多肽，其化学结构为加压素的理论分子量1084.24。属于神经垂体激素，又叫血管升压素或后叶加压素，它有两种受体v1和v2。v1主要分布在血管平滑肌细胞膜上，通过受体-g蛋白-第二信使途径发挥作用，使血管收缩，血压升高。v2在肾脏远端小管和集合管上皮细胞，生理剂量可以促进肾脏远端小管和集合管对水的重吸收，发挥抗利尿作用。就一个药品而言，其中所含的少量杂质是引发药品副作用最重要的原因，因此对其纯度的检查是保证药品安全有效性的重要基础之一，而纯度检查的内容，根据各个药物的性质和特点有些不同，但基本上均要涉及各自的“有关物质”的检查研究。多肽类药物的“有关物质”主要来自合成多肽类药物过程中的工艺杂质和由于多肽不稳定而产生的降解产物、聚合物等杂质，尽管目前合成多肽的纯化工艺已经有了很大进步，但工艺杂质仍是“有关物质”的重要来源，这主要是由于合成多肽的一些工艺杂质(如缺失肽、断裂肽、氧化肽、二硫键交换的产物等)与药物本身的性质可能非常近似，从而给纯化造成了一定的难度。研究表明合成多肽中最常见的降解产物是脱酰胺产物、氧化产物、水解产物。在组成多肽的各种氨基酸中，天冬酰胺、谷胺酰胺和肽链c段酰胺易于发生脱酰胺反应(尤其是在ph值升高和高温条件下)。其中，加压素[-nh2]杂质是加压素在合成过程中常见的杂质，该杂质可以在加压素质量检测中作为杂质对照品，因此，制备纯度高的加压素[-nh2]杂质对加压素质量控制具有重要意义。目前多肽物质常见的纯化方法大都采用了制备型高效液相色谱法，该法是获得高纯度多肽目标分子的最有效的方法。一般多肽物质纯化制备工艺设计是先中低压色谱富集目标多肽，然后高压色谱精制，但是考虑到目标多肽加压素[-nh2]杂质的分子量约1kda，无合适的分子筛凝胶柱(其上样量小，流速低，处理量小，比较适合分子量大于10kda蛋白的脱盐)或超滤膜选择。而且中低压色谱中常用的分离方法有分子筛色谱法、离子交换色谱法和疏水相互作用色谱法，这些色谱方法中用到的填料的粒径通常从几十微米到几百微米不等，空隙尺寸多为几百纳米不等，无法得到高纯度的目标多肽。采用固相合成+稀释环化得到的加压素[-nh2]杂质粗品溶液浓度均比较稀，采用一般的反相色谱柱进行纯化，仅上样和转盐的过程中就产生大量的有机废液，不能直排或经污水站简单处理就可以重复利用，尤其是低浓度的样品纯化处理，废液量更大，危废的处理费用很高。因此，迫切需要开发新的适合纯化低浓度多肽及盐的经济有效的工艺。技术实现要素：本发明所要解决的技术问题在于为了克服现有技术中加压素[-nh2]杂质的精制过程中产生大量有机废液，且危废液量大，造成的废液处理成本高，不经济的缺陷，而提供了一种加压素[-nh2]杂质的精制方法。本发明精制加压素[-nh2]杂质的方法在纯化的过程中产生的废液大部分为废水，可经污水站简单处理就可以重复利用，经济环保。本发明是通过以下技术方案解决上述技术问题的：本发明提供了一种加压素[-nh2]杂质的精制方法，其包括下述步骤：采用高效液相反相色谱法将加压素[-nh2]杂质粗品溶液依次进行反相富集、反相转盐、反相纯化，即可；所述的高效液相反相色谱法的填料为超耐水填料；所述的反相富集、反相转盐、反相纯化均是在一步的反相洗脱过程中完成；所述的反相富集、反相转盐、反相纯化的条件如下：所述的流动相a为体积百分比为0.005～0.1％的乙酸/水溶液，所述的流动相b为体积百分比为0.005～0.1％的乙酸/乙腈，所述的样品c1为所述的加压素[-nh2]杂质粗品溶液，所述的流动相c2为5～50mmnh4ac-nh4oh水溶液，所述的流动相c2的ph为7.0～9.0，所述的洗脱液的流速为80～100ml/min；收集保留时间为85～94min的洗脱液即得到加压素[-nh2]杂质溶液。本发明中，在30～31min期间，将所述的洗脱液由所述的样品c1更换为所述的流动相c2。在50～51min期间，将所述的洗脱液由所述的流动相c2更换为所述的流动相a。依照本领域常规，上述时间区间不应理解为对洗脱条件的限定，时间长短可依高效液相色谱仪厂家型号的不同进行相应调整。本发明中，所述的洗脱步骤(4)中匀速变化的过程为每分钟在原洗脱液的基础上增加2％所述的流动相b，同时相应减少2％所述的流动相a。所述的洗脱步骤(5)中所述匀速变化的过程为每分钟在原洗脱液的基础上增加0.333％所述的流动相b，同时相应减少0.333％所述的流动相a。所述的加压素[-nh2]杂质粗品溶液的制备方法包括如下步骤：(1)采用固相合成法制得还原型加压素[-nh2]杂质粗品；(2)所述还原型加压素[-nh2]杂质粗品经溶解、稀释得还原型加压素[-nh2]杂质粗品溶液；(3)所述还原型加压素[-nh2]杂质粗品溶液经氧化过程得所述的加压素[-nh2]杂质粗品溶液。所述的固相合成法包括下述步骤：以rinkamidembha树脂为起始原料，以fmoc保护的氨基酸为单体，以hobt/dic为缩合剂，依次逐个接上氨基酸；加入切肽试剂进行切肽，加入甲基叔丁基醚进行沉淀，得还原型加压素[-nh2]杂质粗品。其中，所述的切肽试剂可为本领域常规，较佳地为体积比为90：7.5：2.5的tfa/tis/h2o。所述的溶解可为本领域常规，较佳地用体积百分比为50％的乙酸/水溶液进行溶解。所述的稀释可为本领域常规，较佳地用水稀释。所述的氧化过程可为本领域常规，较佳地用碱性物质将所述的还原型加压素[-nh2]杂质粗品溶液的ph调节至7.0～9.0，加入体积百分比为30％的双氧水进行氧化过程。所述双氧水的用量为0.5ml/1g还原型加压素[-nh2]杂质粗品。其中，所述的碱性物质可为本领域常规，较佳地为naoh。本发明中，所述的还原型加压素[-nh2]杂质粗品溶液中还原型加压素[-nh2]杂质粗品的浓度为0.1～4mg/ml，较佳地为0.5～2mg/ml，例如，0.8mg/ml、1mg/ml和1.5mg/ml。本发明中，所述的流动相a较佳地为体积百分比为0.02～0.05％的乙酸/水溶液。所述的流动相b较佳地为体积百分比为0.02～0.05％的乙酸/乙腈。所述的流动相c2较佳地为10～20mmnh4ac-nh4oh水溶液。所述的流动相c2的ph较佳地为7.5～8.5。本发明中，所述的加压素[-nh2]杂质粗品溶液中所述的加压素[-nh2]杂质的hplc纯度为60～85％，较佳地为70％～80％。所述的加压素[-nh2]杂质粗品溶液中所述的加压素[-nh2]杂质的结构为本发明中，所述的加压素[-nh2]杂质粗品溶液中的溶剂为含三氟乙酸和乙酸的水溶液。本发明中，所述的超耐水填料为ods-aq超耐水填料，较佳地为苏州纳微科技股份有限公司的ods-aq超耐水填料。所述的超耐水填料的孔径较佳地为7～10nm，所述的超耐水填料的粒径较佳地为10μm。本发明中，所述的高效液相反相色谱法的检测波长为220nm。其中，所述的洗脱步骤(5)结束后的100～101min，所述的洗脱液为80％所述的流动相a+20％所述的流动相b更换到50％所述的流动相a+50％所述的流动相b。101～113min，所述的洗脱液为50％所述的流动相a+50％所述的流动相b。通过快速提高所述的流动相b的比例，达到清洗色谱柱的目的。所述的反相富集为所述的洗脱步骤(1)，所述的反相转盐为所述的洗脱步骤(2)～(3)。具体地，所述的洗脱步骤(2)为用所述的nh4ac-nh4oh水溶液去除所述的加压素[-nh2]杂质粗品溶液中的三氟乙酸根的过程，所述的洗脱步骤(3)是去除所述的洗脱步骤(2)中的铵根离子的过程，所述的反相纯化为所述的洗脱步骤(4)和(5)，其中，所述的洗脱步骤(4)是去除较弱的吸附杂质的过程。所述的加压素[-nh2]杂质是一种多肽物质，在高ph条件下不稳定，易降解，尤其是碱环境下，本发明综合考察了所述的反相转盐的洗脱液ph和时间，以保证减少所述反相转盐过程中样品的破坏及损失。在某一较佳实施方式中，运用load&lock动态轴向压缩和静态锁紧技术，填料为所述的ods-aq超耐水填料，孔径10nm，粒径10μm，装填至柱床压力为1000psi，采用varian色谱装填系统，300g干粉状的所述的ods-aq超耐水填料，600ml异丙醇搅拌匀浆后，倒入内径50mm的load&lock4002制备柱，压缩比为1.5:1，载气为n2，调节所述载气压力使得油压表压力为1500psi，动态轴向压缩至柱床高度25cm，作为反相富集、反相转盐和反相纯化方案所用的制备柱。在符合本领域常识的基础上，上述各优选条件，可任意组合，即得本发明各较佳实例。本发明所用试剂和原料均市售可得。本发明的积极进步效果在于：(1)本发明采用在线富集的方法，利用超耐水填料的超耐水性能和吸附性能，先将加压素[-nh2]杂质粗品溶液中加压素[-nh2]杂质粗品吸附到固定相上进行富集，加压素[-nh2]杂质粗品和反相填料疏水结合。(2)本发明采用在线富集，可直接变换流动相后进行梯度洗脱纯化，得到最终的纯品，适合连续的生产。(3)本发明创新性地运用了反相富集、反相转盐和反相纯化经一步法制得加压素[-nh2]杂质的纯品，优化了生产工艺，适合工业化连续生产。(4)设计出超耐水填料的最新应用，柱平衡阶段、反相富集阶段和反相转盐阶段的洗脱液为水溶液，环保无污染，其流出液直接排至污水处理站，经简单处理后可回收利用，相对传统的制备工艺，大大的降低了危废的产生量，节约环保。具体实施方式下面通过实施例的方式进一步说明本发明，但并不因此将本发明限制在所述的实施例范围之中。下列实施例中未注明具体条件的实验方法，按照常规方法和条件，或按照商品说明书选择。下述实施例中，hplc法检测加压素[-nh2]杂质粗品和纯化后产品溶液中加压素[-nh2]杂质纯度的设备条件如下：仪器：agilent1260高效液相色谱仪色谱柱：watersxbridgec184.6×250mm，5μm流动相：a为体积百分比为0.1％tfa水溶液，b为体积百分比为0.1％tfa-50％的乙腈水溶液(tfa为三氟乙酸)流速为1.0ml/min，检测波长为210nm，柱温：25℃，洗脱梯度见下表，百分比为体积百分比。洗脱步骤洗脱时间洗脱液10～2min95％a+5％b22～12min95％a+5％b→85％a+15％b312～22min85％a+15％b422～30min85％a+15％b→77％a+23％b530～30.1min77％a+23％b→50％a+50％b630.1～35min50％a+50％b下述实施例中，加压素[-nh2]杂质粗品溶液的制备方法包括：(1)采用固相合成法制得还原型加压素[-nh2]杂质粗品；(2)所述还原型加压素[-nh2]杂质粗品经溶解、稀释得还原型加压素[-nh2]杂质粗品溶液；(3)所述还原型加压素[-nh2]杂质粗品溶液经氧化过程得所述的加压素[-nh2]杂质粗品溶液。所述的固相合成法包括下述步骤：以rinkamidembha树脂为起始原料，以fmoc保护的氨基酸为单体，以hobt/dic为缩合剂，依次逐个接上氨基酸；加入切肽试剂进行切肽，加入甲基叔丁基醚进行沉淀，得还原型加压素[-nh2]杂质粗品。所述的切肽试剂为体积比为90：7.5：2.5的tfa/tis/h2o。所述的溶解为用体积百分比为50％的乙酸/水溶液进行溶解。所述的稀释为用水稀释。所述的氧化为用碱性物质将所述的还原型加压素[-nh2]杂质粗品溶液的ph调节至7.0-9.0，加入体积百分比为30％的双氧水进行氧化过程。所述双氧水的用量为0.5ml/1g还原型加压素[-nh2]杂质粗品。所述的碱性物质为naoh。实施例1内径50mmload&lock4002制备柱装填运用load&lock动态轴向压缩和静态锁紧技术，填料为所述的ods-aq，孔径10nm，粒径10μm，装填至柱床压力为1000psi，采用varian色谱装填系统，300g干粉状的所述的ods-aq超耐水填料，600ml异丙醇搅拌匀浆后，倒入内径为50mm的load&lock4002制备柱，压缩比为1.5:1，载气为n2，调节所述载气压力使得油压表压力为1500psi，动态轴向压缩至柱床高度25cm，作为反相富集、反相转盐和反相纯化方案所用的制备柱。实施例2加压素[-nh2]杂质粗品溶液的反相富集、反相转盐和反相纯化仪器：variansd-1高压液相制备系统色谱柱：实施例1的制备柱load&lock400250×250mm，填料为ods-aq粒径为10μm，孔径为10nm。加压素[-nh2]杂质的结构式为还原型加压素[-nh2]杂质粗品溶液中还原型加压素[-nh2]杂质粗品的浓度为1mg/ml，加压素[-nh2]杂质粗品溶液中的溶剂为含三氟乙酸和乙酸的溶液。流动相a为体积百分比为0.02％的乙酸/水溶液，流动相b为体积百分比为0.02％的乙酸/乙腈，样品c1为加压素[-nh2]杂质粗品溶液，根据hplc法测定的hplc纯度为77.11％，流动相c2为10mm的nh4ac-nh4oh水溶液，流动相c2的ph为7.5。本实施例的反相富集、反相转盐和反相纯化条件如下：流速为100ml/min，检测波长为220nm，纯化洗脱梯度见下表所示，百分比为体积百分比；收集保留时间为85～94min的洗脱液即得到加压素[-nh2]杂质溶液。根据hplc法测定的hplc纯度为99.19％。实施例3加压素[-nh2]杂质粗品溶液的反相富集、反相转盐和反相纯化仪器：variansd-1高压液相制备系统色谱柱：实施例1的制备柱load&lock400250×250mm，填料为ods-aq粒径为10μm，孔径为10nm。加压素[-nh2]杂质的结构式为还原型加压素[-nh2]杂质粗品溶液中还原型加压素[-nh2]杂质粗品的浓度为1.5mg/ml，加压素[-nh2]杂质粗品溶液中的溶剂为含三氟乙酸和乙酸的水溶液。流动相a为体积百分比为0.05％的乙酸/水溶液，流动相b为体积百分比为0.05％的乙酸/乙腈，样品c1为加压素[-nh2]杂质粗品溶液，根据hplc法测定的hplc纯度为72.63％，流动相c2为20mm的nh4ac-nh4oh水溶液，流动相c2的ph为8.5。本实施例的反相富集、反相转盐和反相纯化条件如下：流速为100ml/min，检测波长为220nm，纯化洗脱梯度见下表所示，百分比为体积百分比；收集保留时间为85～94min的洗脱液即得到加压素[-nh2]杂质溶液。根据hplc法测定的hplc纯度为99.52％。实施例4加压素[-nh2]杂质粗品溶液的反相富集、反相转盐和反相纯化仪器：variansd-1高压液相制备系统色谱柱：实施例1的制备柱load&lock400250×250mm，填料为ods-aq粒径为10μm，孔径为10nm加压素[-nh2]杂质的结构式为还原型加压素[-nh2]杂质粗品溶液中还原型加压素[-nh2]杂质粗品的浓度为0.8mg/ml，加压素[-nh2]杂质粗品溶液中的溶剂为含三氟乙酸和乙酸的水溶液。流动相a为体积百分比为0.05％的乙酸/水溶液，流动相b为体积百分比为0.05％的乙酸/乙腈，样品c1为加压素[-nh2]杂质粗品溶液，根据hplc法测定的hplc纯度为74.86％，流动相c2为20mm的nh4ac-nh4oh水溶液，流动相c2的ph为7.5。本实施例的反相富集、反相转盐和反相纯化条件如下：流速为100ml/min，检测波长为220nm，纯化洗脱梯度见下表所示，百分比为体积百分比；收集保留时间为85～94min的洗脱液即得到加压素[-nh2]杂质溶液。根据hplc法测定的hplc纯度为99.22％。实施例5加压素[-nh2]杂质的质谱检测采用watersmicromasszq单重四级杆电喷雾质谱(esi-ms)测定实施例2、3和4得到的加压素[-nh2]杂质，测试条件为：采用电喷雾电离(esi)源，在正离子电离模式下进行质谱分析，毛细管电离电压3.0kv，取样锥孔电压35kv；离子源温度115℃，脱溶剂温度350℃，脱溶剂氮气流速700l/h，锥孔反吹氮气50l/h，四级杆扫面范围50.0～1500m/z。检测的结果为：分子离子峰[m+h]+质荷比(m/z)为1085.42，主要离子碎片峰[m+2h]2+质荷比(m/z)为543.21，都符合理论值(加压素[-nh2]杂质的相对分子质量为1085.25)。当前第1页12