透明聚酰亚胺基底以及制备该基底的方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种透明聚酰亚胺基底及其制备方法，所述基底可以用作柔性显示器 基底。
【背景技术】
[0002] 近来，电子设备如柔性0LED、彩色EPD、塑料IXD、TSP和0PV等，已经作为可以容易 地扭曲和弯曲的下一代显示器而吸引了大量注意。为了制备这种可以容易地进行扭曲和弯 曲的柔性显示器，需要新型的基底来替代传统的玻璃基底。这种新型基底必须具有足够的 耐化学性、耐热性和透光性以保护显示器的部件。另外，这种新型基底必须耐用于在制备显 示器过程中所进行的清洗、剥离和蚀刻等中使用的溶剂，而且需要耐高温。
[0003] 多种塑料基底正在被考虑作为柔性显示器基底的备选项。在这些塑料基底中，透 明聚酰亚胺膜被认为是主要的备选项。
[0004] 为了改善被考虑作为柔性显示器基底的透明聚酰亚胺膜的耐溶剂性，通常，采用 在透明聚酰亚胺膜上形成丙烯酸类或环氧类有机固化膜的方法。然而，这种有机固化膜的 问题在于，其耐热性在超过200°c的高温或在300°C以上的高温下会发生劣化。
【发明内容】
[0005] 技术问题
[0006] 因此，本发明已完成以解决上述问题，本发明的一个目的是提供一种具有优异的 耐溶剂性和高耐热性的透明聚酰亚胺基底。
[0007] 本发明的另一个目的是提供一种制备具有优异的耐溶剂性和高耐热性的透明聚 酰亚胺基底的方法。
[0008] 技术方案
[0009] 为了实现上述目的，本发明的一方面提供一种透明聚酰亚胺基底，包括：透明聚酰 亚胺膜；和氧化硅层，该氧化硅层形成于所述透明聚酰亚胺膜的一面或两面上，并且该氧化 娃层包含具有由下式1表不的单兀结构的氧化娃：
[0010] [式 1]
[0011]
【主权项】
1. 一种透明聚酰亚胺基底，包括： 透明聚酰亚胺膜；和 氧化硅层，该氧化硅层形成于所述透明聚酰亚胺膜的一面或两面上，并且该氧化硅层 包含具有由下式1表示的单元结抝的氬仆硅，
其中，m和η各自独立地为O至10的整数。
2. 根据权利要求1所述的透明聚酰亚胺基底，其中，所述氧化硅层的厚度为0. 3? 2· 0 μ m〇
3. 根据权利要求1所述的透明聚酰亚胺基底，其中，所述氧化硅层的表面粗糙度（RMS) 为5nm以下。
4. 一种制备透明聚酰亚胺基底的方法，包括如下步骤： 将含有聚硅氮烷的溶液涂布在透明聚酰亚胺膜的一面或两面上，然后干燥该溶液，形 成聚硅氮烷层；以及 使所述聚硅氮烷层固化。
5. 根据权利要求4所述的方法，其中，所述聚硅氮烷包含由下式2表示的单元结构：
其中，m和η各自独立地为0至10的整数。
6. 根据权利要求5所述的方法，其中，所述聚硅氮烷的重均分子量为1，000?5, 000。
7. 根据权利要求4所述的方法，其中，所述聚硅氮烷层的厚度为0. 3?2. 0 μ m。
8. 根据权利要求4所述的方法，其中，在所述使聚硅氮烷层固化的步骤中，所述聚硅氮 烷层通过在200?300°C的温度下进行热处理而被热固化。
9. 根据权利要求4所述的方法，其中，在所述涂布含有聚硅氮烷的溶液的步骤中，所述 含有聚硅氮烷的溶液还包含UV固化剂， 并且，在所述使聚硅氮烷层固化的步骤中，所述聚硅氮烷层通过用具有312nm或365nm 的短波长的UV，以1500?4000J/m2的辐射强度照射而被固化。
10. 根据权利要求9所述的方法，其中，所述UV固化剂包括选自安息香醚光引发剂、二 苯甲酮光引发剂以及它们的混合物的任一种。
【专利摘要】本发明公开了一种透明聚酰亚胺基底，包括：透明聚酰亚胺膜；和氧化硅层，该氧化硅层形成于所述透明聚酰亚胺膜的一面或两面上，且包含氧化硅。
【IPC分类】G09F9-00, C08J7-04, C08J5-18, C08G73-10, B32B27-06
【公开号】CN104540884
【申请号】CN201280075265
【发明人】禹学龙, 郑鹤基, 朴相胤
【申请人】可隆工业株式会社
【公开日】2015年4月22日
【申请日】2012年6月25日
【公告号】EP2864402A1, WO2014003211A1