柔性基板，其制备方式及其应用的制作方法
【专利摘要】一种柔性基板，包括聚合物薄膜基板，在所述聚合物薄膜基板一面设置第一金属铝层，所述聚合物薄膜的另一面交替设置第二金属铝层与聚酰亚胺薄膜层，且所述聚合物薄膜基板两端为金属铝层结构，所述聚合物薄膜基板的材料选自聚对苯二甲酸乙二醇酯，聚醚砜，聚萘二甲酸乙二醇酯及透明聚酰亚胺中至少一种。上述柔性基底具有低水氧渗透率。本发明还提供柔性基板的制备方法及其应用。
【专利说明】柔性基板，其制备方式及其应用
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种柔性基板、其制备方法，使用该基板的有机电致发光器件及其制 作方法。
【背景技术】
[0002] 有机电致发光器件（0LED)通常使用超薄玻璃，聚合物薄膜、金属薄片等作为柔性 衬底，比玻璃衬底的具有更轻薄、更耐冲击的优点，并且柔性器件的制备可以采用卷对卷方 式生产，从而大幅地降低制造成本。
[0003] 聚合物薄膜作为一种常用的柔性基板，其来源广泛，价格低廉，挠曲性能好，被广 泛应用到各种柔性器件的制备过程中。但是聚合物薄膜也存在一些缺点，如热稳定性能差， 其对水氧的渗透率较高。
【发明内容】
[0004] 基于此，有必要提供具有低水氧渗透率的柔性基板、其制备方法，使用该基板的有 机电致发光器件及其制作方法。
[0005] -种柔性基板，包括聚合物薄膜基板，在所述聚合物薄膜基板一面设置第一金属 铝层，所述聚合物薄膜的另一面交替设置第二金属铝层与聚酰亚胺薄膜层，且所述聚合物 薄膜基板两端为金属铝层结构，所述聚合物薄膜基板的材料选自聚对苯二甲酸乙二醇酯， 聚醚砜，聚萘二甲酸乙二醇酯及透明聚酰亚胺中至少一种。
[0006] 在其中一个实施例中，所述聚合物薄膜基板的厚度为0. 1mm?1mm。
[0007] 在其中一个实施例中，所述第一金属错层厚度为50nm?100nm。
[0008] 在其中一个实施例中，所述第二金属错层厚度为15nm?40nm，所述聚酰亚胺薄膜 层厚度为70nm?150nm。
[0009] 在其中一个实施例中，所述交替设置第二金属铝层与聚酰亚胺薄膜层中，第二金 属铝层的层数大于等于3,所述聚酰亚胺薄膜层的层数大于等于2。
[0010] 一种柔性基板的制备方法，包括以下步骤：
[0011] 提供聚合物薄膜基板，将聚合物薄膜基板放入真空镀膜系统中，在真空度为 l(T3Pa?l(T5Pa的条件下，在所述聚合物薄膜基板的一面蒸发制备第一金属铝层；
[0012] 接着在所述聚合物薄膜基板的另一面交替蒸镀制备第二金属铝层及聚酰亚胺薄 膜层，且所述聚合物薄膜基板两端为金属铝层结构；
[0013] 蒸镀金属铝层在真空度为IX 1〇_3?IX l〇_5Pa的真空镀膜系统中进行，蒸发速度 为 0· 2nm/s ?2nm/s〇
[0014] 蒸镀聚酰亚胺薄膜层在真空度为1X 1〇_3?1X l〇_5Pa的真空镀膜系统中进行，蒸 发速度为〇. lnm/s?lnm/s。
[0015] 在其中一个实施例中，所述聚酰亚胺薄膜由以下步骤制备：
[0016] 在真空度为lX10_3_lX10_5Pa的真空镀膜系统中，将均苯四甲酸二酐和4,4'_二 氨基二苯醚两种单体材料分别置于真空镀室的两个坩埚中，均苯四甲酸二酐和4, 4 二氨 基二苯醚的蒸发速度之比为1: (0. 8?1. 2)，得到预聚体；
[0017] 将得到的预聚体移入真空加热装置中，在150°C?250°C条件下脱水处理5小时? 10小时，得到聚酰亚胺薄膜。
[0018] 一种有机电致发光器件，该有机电致发光器件包括依次层叠的基板，阳极，空穴传 输层，电子传输层，电子注入层，阴极及封装层，所述基板为聚合物薄膜基板，在所述聚合物 薄膜基板一面设置第一金属铝层，所述聚合物薄膜的另一面交替设置第二金属铝层与聚酰 亚胺薄膜层，且所述聚合物薄膜基板两端为金属铝层结构，所述聚合物薄膜基板的材料选 自聚对苯二甲酸乙二醇酯，聚醚砜，聚萘二甲酸乙二醇酯及透明聚酰亚胺中至少一种。
[0019] 在其中一个实施例中，所述聚合物薄膜基板的厚度为0. 1mm?1mm，所述第一金属 错层厚度为50nm?100nm，所述第二金属错层厚度为15nm?40nm，所述聚酰亚胺薄膜层厚 度为 50nm ?100nm。
[0020] 在其中一个实施例中，所述交替设置第二金属铝层与聚酰亚胺薄膜层中，第二金 属铝层的层数大于等于3,所述聚酰亚胺薄膜层的层数大于等于2。
[0021] 上述柔性基板，在聚合物薄膜基板一面制备第一金属铝层，该第一金属铝层能够 起到初步阻挡氧和水渗透的作用，在聚合物薄膜基板另一表面交替层叠第二金属铝层及聚 酰亚胺薄膜层，采用多层设置的金属铝层和聚酰亚胺薄膜层，并结合衬底另一表面的金属 薄膜层，能够最大限度的阻挡水氧渗透，可使水渗透下降到1〇_ 3?l〇_2g/m2/day量级，并且 最外层设置的金属铝层能够起到导电的作用，可以作为有机电致发光器件的导电层，并且 该制备方法工艺简单，材料来源广泛。
【专利附图】
【附图说明】
[0022] 图1为一实施方式的柔性基板的结构示意图；
[0023] 图2为一实施方式的有机电致发光器件的结构示意图。
【具体实施方式】
[0024] 下面结合附图和具体实施例对柔性基板及其制备方法进一步阐明。
[0025] 请参阅图1，一实施方式的柔性基板100包括聚合物薄膜基板102,在聚合物薄膜 基板102 -面设置第一金属错层101，在聚合物薄膜基板102相对第一金属错层101的相对 另一面交替层叠设置第二金属铝层103和聚酰亚胺薄膜层104,本实施例中如图1所示，聚 合物薄膜基板两端分别为第一金属铝层101和第二金属铝层103,第二金属铝层的层数大 于等于3,所述聚酰亚胺薄膜层的层数大于等于2。本实施例中第二金属铝层103的层数为 3层，聚酰亚胺薄膜层104的层数为2层，所述聚合物薄膜基板的材料选自聚对苯二甲酸乙 二醇酯，聚醚砜，聚萘二甲酸乙二醇酯及透明聚酰亚胺中至少一种。
[0026] 聚合物薄膜基板102的厚度为0. 1mm?1mm，所述第一金属错101厚度为50nm? 100nm，第二金属错层103厚度为15nm?40nm，聚酰亚胺薄膜层104厚度为70nm?150nm。
[0027] 上述柔性基板100,在聚合物薄膜基板102 -面制备第一金属错层101，该第一金 属铝层101能够起到初步阻挡氧和水渗透的作用，在聚合物薄膜基板另一表面交替层叠 第二金属铝层103及聚酰亚胺薄膜层104,采用多层设置的金属铝层和聚酰亚胺薄膜层并 结合衬底另一表面的金属薄膜层101，能够最大限度的阻挡水氧渗透，可使水渗透下降到 ΚΓ3?l(T2g/m2/day量级，并且最外层设置的金属铝层能够起到导电的作用。
[0028] 柔性基板的制备方法，包括以下步骤：
[0029] S10,提供聚合物薄膜基板，将聚合物薄膜基板放入真空镀膜系统中，在真空度为 l(T3Pa?l(T5Pa的条件下，在所述聚合物薄膜基板的一面蒸发制备第一金属铝层；
[0030] S20,接着在所述聚合物薄膜基板的另一面交替蒸镀制备第二金属铝层及聚酰亚 胺薄膜层，且所述聚合物薄膜基板两端为金属铝层结构；
[0031] 蒸镀金属铝层在真空度为IX 1〇_3?IX l〇_5Pa的真空镀膜系统中进行，蒸发速度 为 0· 2nm/s ?2nm/s〇
[0032] 蒸镀聚酰亚胺薄膜层在真空度为1 X 1(Γ3?1 X l(T5Pa的真空镀膜系统中进行，蒸 发速度为〇. lnm/s?lnm/s。
[0033] 聚酰亚胺薄膜由以下步骤制备：
[0034] S201，在真空度为lX10_3_lX10_5Pa的真空镀膜系统中，将均苯四甲酸二酐和 4, 4 二氨基二苯醚两种单体材料分别置于真空镀室的两个坩埚中，，均苯四甲酸二酐和 4, 4 二氨基二苯醚的蒸发速度之比为1: (0.8?1.2)，得到预聚体；
[0035] S202,将得到的预聚体移入真空加热装置中，在150°C?250°C条件下脱水处理5 小时?10小时，得到聚酰亚胺薄膜。
[0036] 请参阅图2, 一实施方式的有机电致发光器件200,在柔性基板100的第二金属铝 层103表面依次层叠阳极201，空穴传输层202,电子传输层203,电子注入层204,阴极205 及封装层206,柔性基板100为聚合物薄膜基102,在所述聚合物薄膜基板102 -面设置第 一金属铝层101，所述聚合物薄膜的另一面交替设置第二金属铝层103与聚酰亚胺薄膜层 104,且所述聚合物薄膜基板102两端为金属铝层结构，所述聚合物薄膜基板的材料选自聚 对苯二甲酸乙二醇酯，聚醚砜，聚萘二甲酸乙二醇酯及透明聚酰亚胺中至少一种。
[0037] 聚合物薄膜基板102的厚度为0. 1mm?1mm。
[0038] 所述第一金属错101厚度为50nm?100nm。
[0039] 第二金属错层103厚度为15nm?40nm。
[0040] 聚酰亚胺薄膜层104厚度为70nm?150nm。
[0041] 阳极201的材料为金属银（Ag)，厚度为70nm?200nm，空穴传输层的材料为 N，N'-二苯基-N，N，-二（1-萘基）-1，Γ -联苯 _4,4，-二胺（NPB)，厚度为 20nm ? 60nm，电子传输层材料为8-轻基喹啉错（Alq3)，厚度为20nm?60nm nm，并且该电子传输 层同时作为发光层，电子注入层材料为氟化锂（LiF)，厚度为0. 5nm?2nm，阴极材料为银 (Ag)，厚度为20nm?30nm，封装层材料为Si3N4，厚度为200nm?600nm。
[0042] 其中，柔性基板100结构如上所述如图1所示。
[0043] 以下结合具体实施例对本发明提供的柔性基板、其制备方法，使用该基板的有机 电致发光器件及其制作方法进行详细说明。
[0044] 本发明实施例及对比例所用到的制备与测试仪器为：测试与制备设备为高真空镀 膜系统(沈阳科学仪器研制中心有限公司），美国海洋光学Ocean Optics的USB4000光纤 光谱仪测试电致发光光谱，美国吉时利公司的Keithley2400测试电学性能，日本柯尼卡美 能达公司的CS-100A色度计测试亮度和色度，美国M0C0N(膜康）；PERMATRAN-W? Model700透湿仪测试水渗透率。
[0045] 实施例1
[0046] 柔性基板的制作步骤包括以下：
[0047] 步骤1 :提供聚合物薄膜基板PET薄膜，厚度为1_，并清洗干净；
[0048] 步骤2 :在真空度为1 X l(T5Pa的真空镀膜系统中，在聚合物薄膜基板PET薄膜一 表面上，蒸发制备第一金属错层，厚度在50nm，蒸发速度为0. 5nm/s ;
[0049] 步骤3 :在真空度为IX l(T5Pa的真空镀膜系统中，在步骤2的基础上在聚合物薄 膜基板PET薄膜另一表面上，蒸发制备第二金属铝层，接着第二金属铝层表面蒸发制备聚 酰亚胺薄膜层，依次交替重复制备第二金属铝层和聚酰亚胺薄膜层，聚酰亚胺层层数为3 层，第二金属铝层的层数为4层，并且最后一层第二金属铝层的厚度为40nm，其余第二金属 铝层的厚度为15nm，蒸发速度为0. 2nm/s，聚酰亚胺薄膜层单层的厚度为100nm ;得到该柔 性基板。
[0050] 步骤4 :该柔性基板为基础，在真空度为IX l(T4Pa的真空镀膜系统中，在该柔性 基板的第二金属铝层表面上，蒸发另一层金属薄膜Ag作为阳极，厚度为70nm，蒸发速度 为0. 5nm/s，作为阳极，然后在阳极上蒸发厚度50nm的NW -二苯基-Ν,Ν'-二（1-萘 基）-1，Ρ -联苯_4,4'-二胺（ΝΡΒ)作为空穴传输层，蒸发速度为0.5nm/s，在空穴传输 层上蒸发厚度30nm的8-羟基喹啉铝（Alq3)作为发光层兼电子传输层，蒸发速度为0. 5nm/ s，在电子传输层上蒸发lnm的氟化锂（LiF)作为电子注入层，蒸发速度为0. lnm/s，在电子 传输层上蒸发厚度为30nm的金属银膜（Ag)作为透明阴极，蒸发速度为0. 5nm/s。在上述器 件的阴极表面，溅射制备厚度300nm的Si3N4作为薄膜封装层。
[0051] 聚酰亚胺薄膜是采用真空沉积技术制备，其包括以下几个步骤：
[0052] 步骤一、在真空度为lXl(T5Pa的真空镀膜系统中，将均苯四甲酸二酐（PMDA)和 4, 4 二氨基二苯醚（0DA)两种单体材料分别置于真空镀室的两个坩埚中，控制蒸发坩埚 的温度，PMDA与0DA的蒸发速度之比为1: 1，即PMDA的蒸发速度为0. lnm/s，0DA的蒸发速 度为 0. lnm/s ;
[0053] 步骤二、将步骤一制备的薄膜移出真空镀膜室，转移至真空加热装置中，加热到 250°C，进行反应脱水处理10小时，使聚酰胺酸脱水形成聚酰亚胺薄膜。
[0054] 以下实施例中制备聚酰亚胺薄膜的步骤相同不在累述。
[0055] 对比例1与实施例1不同之处仅在于该有机电致发光器件的基板用PET薄膜为 基板其他各层阳极，空穴传输层，电子传输层，电子注入层，阴极及封装层的材料及其厚度 都与实施例1中相同，对比例的有机电致发光器件的结构为：PET/Ag(70nm)/NPB(50nm)/ Alq3 (30nm) /LiF (lnm) /Ag (30nm) /Si3N4 (300nm)。
[0056] 经测试结果：将实施例1制备的柔性基板做水渗透率的测试，其渗透率为 1. 2X l(T2g/m2/day，而对比例1中的柔性基板，其水渗透率为5. 8g/m2/day，显然在聚合物薄 膜表面经过本发明的改进后，水渗透率大幅降低了。
[0057] 当起始亮度为1000cd/m2时，亮度衰减到起始的70%时，实施例1的有机电致发光 器件使用寿命达到3000小时左右，而对比例则只有1000小时。
[0058] 实施例2
[0059] 这种柔性导电电极的制备按照以下方法：
[0060] 步骤1 :提供聚合物薄膜基板PI薄膜，厚度为0. 1mm，并清洗干净；
[0061] 步骤2 :在真空度为IX l(T3Pa的真空镀膜系统中，在聚合物薄膜基板PI的一表面 上，蒸发制备第一金属错层，厚度为l〇〇nm，，蒸发速度为0. 2nm/s ;
[0062] 步骤3 :在真空度为IX 10_3Pa的真空镀膜系统中，在步骤2的基础上在聚合物薄 膜基板PI薄膜另一表面上，蒸镀制备第二金属铝层，接着在第二金属铝层表面蒸镀制备聚 酰亚胺薄膜层，依次交替重复制备第二金属铝层和聚酰亚胺薄膜层，聚酰亚胺层层数为2 层，第二金属铝层的层数为3层，并且最后一层第二金属铝层的厚度为30nm，其余第二金属 铝层的厚度为40nm，聚酰亚胺薄膜层单层厚度为150nm，在蒸发成膜过程中，PMDA的蒸发速 度为lnm/s，0DA的蒸发速度为0. 8nm/s ;PMDA与0DA的蒸发速度之比为1:0. 8,得到该柔性 基板。
[0063] 步骤4 :该柔性基板为基础，在真空度为1 X 10_4Pa的真空镀膜系统中，在该柔性基 板的第二金属铝层表面上，蒸发另一层金属薄膜Ag层作为阳极，厚度为100nm，蒸发速度为 0. 5nm/s，然后在阳极上蒸发厚度20nm的N，N'-二苯基-N，N'-二（1-萘基）-1，1'-联 苯-4,4'-二胺（NPB)作为空穴传输层，蒸发速度为0. 5nm/s，在空穴传输层上蒸发厚度 20nm的8-羟基喹啉铝（Alq3)作为发光层兼电子传输层，蒸发速度为0. 5nm/s，在电子传输 层上蒸发〇. 5nm的氟化锂（LiF)作为电子注入层，蒸发速度为0. lnm/s，在电子传输层上蒸 发厚度为20nm的金属银膜（Ag)作为透明阴极，蒸发速度为0. 5nm/s。在上述器件的阴极表 面，溅射制备厚度600nm的Si3N4作为薄膜封装层。
[0064] 对比例2与实施例2不同之处仅在于该有机电致发光器件的基板用PI薄膜为 基板其他各层阳极，空穴传输层，电子传输层，电子注入层，阴极及封装层的材料及其厚度 都与实施例1中相同，对比例的有机电致发光器件的结构为：PI/Ag(100nm)/NPB(20nm)/ Alq3 (20nm) /LiF (0. 5nm) /Ag (20nm) /Si3N4 (300nm)
[0065] 经测试结果：
[0066] 将实施例2制备的柔性基板做水渗透率的测试，其渗透率为5. OX 10_3g/m2/day， 而对比例2中的柔性基板，其水渗透率为11. 2g/m2/day，显然在聚合物薄膜表面经过本发明 的改进后，水渗透率大幅降低了。
[0067] 当起始亮度为1000cd/m2时，亮度衰减到起始的70%时，实施例2有机电致发光器 件的使用寿命达到3200小时左右，而对比例则只有1100小时左右。
[0068] 实施例3
[0069] 这种柔性导电电极的制备按照以下方法：
[0070] 步骤1 :提供聚合物薄膜基板PES薄膜，厚度为0. 2mm，并清洗干净；
[0071] 步骤2 :在真空度为1 X l(T4Pa的真空镀膜系统中，在聚合物薄膜基板PES的一表 面上，蒸发制备第一金属错层，厚度为80nm，，蒸发速度为2nm/s ;
[0072] 步骤3 :在真空度为IX 10_4Pa的真空镀膜系统中，在步骤2的基础上在聚合物薄 膜基板PES薄膜另一表面上，蒸镀制备第二金属铝层，接着在第二金属铝层表面蒸镀制备 聚酰亚胺薄膜层，依次交替重复制备第二金属铝层和聚酰亚胺薄膜层，聚酰亚胺层层数为4 层，第二金属铝层的层数为5层，并且最后一层第二金属铝层的厚度为40nm，其余第二金属 铝层的厚度为20nm，聚酰亚胺薄膜层厚度为70nm，在蒸发成膜过程中，PMDA的蒸发速度为 0. 8nm/s，0DA的蒸发速度为lnm/s ;PMDA与0DA的蒸发速度之比为1:1. 2 ;得到该柔性基板。
[0073] 步骤4 :该柔性基板为基础，在真空度为1 X l(T4Pa的真空镀膜系统中，在该柔性基 板的第二金属铝层表面上，蒸发另一层金属薄膜Ag层作为阳极，厚度为200nm，蒸发速度为 0. 5nm/s，，然后在阳极上蒸发厚度60nm的N，N'-二苯基-N，N'-二（1-萘基）-1，1'-联 苯-4,4'-二胺（NPB)作为空穴传输层，蒸发速度为0. 5nm/s，在空穴传输层上蒸发厚度 60nm的8-羟基喹啉铝（Alq3)作为发光层兼电子传输层，蒸发速度为0. 5nm/s，在电子传输 层上蒸发2nm的氟化锂（LiF)作为电子注入层，蒸发速度为0. lnm/s，在电子传输层上蒸发 厚度为30nm的金属银膜（Ag)作为透明阴极，蒸发速度为0. 5nm/s。在上述器件的阴极表 面，溅射制备厚度200nm的Si3N4作为薄膜封装层。
[0074] 对比例3与实施例3不同之处仅在于该有机电致发光器件的基板用PES薄膜为 基板其他各层阳极，空穴传输层，电子传输层，电子注入层，阴极及封装层的材料及其厚度 都与实施例1中相同，对比例的有机电致发光器件的结构为：PES/Ag(200nm)/NPB(60nm)/ Alq3 (60nm) /LiF (2nm) /Ag (30nm) /Si3N4 (300nm)
[0075] 经测试结果
[0076] 将实施例3制备的柔性基板做水渗透率的测试，其渗透率为3. 3X l(T3g/m2/day， 而对比例3中的柔性基板，其水渗透率为14. 2g/m2/day，显然在聚合物薄膜表面经过本发明 的改进后，水渗透率大幅降低了。
[0077] 当起始亮度为1000cd/m2时，亮度衰减到起始的70%时，实施例3有机电致发光器 件的使用寿命达到3400小时左右，而对比例则只有1000小时左右。
[0078] 实施例4
[0079] 这种柔性导电电极的制备按照以下方法：
[0080] 步骤1 :提供聚合物薄膜基板PEN薄膜，厚度为0. 2_，并清洗干净；
[0081] 步骤2 :在真空度为1 X 10_5Pa的真空镀膜系统中，在聚合物薄膜基板PEN的一表 面上，蒸发制备第一金属错层，厚度为60nm，蒸发速度为lnm/s ;
[0082] 步骤3 :在真空度为IX l(T5Pa的真空镀膜系统中，在步骤2的基础上在聚合物薄 膜基板PEN薄膜另一表面上，蒸镀制备第二金属铝层，接着在第二金属铝层表面蒸镀制备 聚酰亚胺薄膜层，依次交替重复制备第二金属铝层和聚酰亚胺薄膜层，聚酰亚胺层层数为3 层，第二金属铝层的层数为4层，并且最后一层第二金属铝层的厚度为40nm，其余第二金属 铝层的厚度为15nm，聚酰亚胺薄膜层厚度为70nm，在蒸发成膜过程中，PMDA的蒸发速度为 0. 5nm/s，0DA的蒸发速度为0. 5nm/s ;得到该柔性基板。
[0083] 步骤4 :该柔性基板为基础，在真空度为1 X 10_5Pa的真空镀膜系统中，在该柔性基 板的第二金属铝层表面上，蒸发另一层金属薄膜Ag层作为阳极，厚度为70nm，蒸发速度为 0. 5nm/s，然后在阳极上蒸发厚度50nm的N，N'-二苯基-N，N'-二（1-萘基）-1，1'-联 苯-4,4'-二胺（NPB)作为空穴传输层，蒸发速度为0. 5nm/s，在空穴传输层上蒸发厚度 30nm的8-轻基喹啉错（Alq3)作为发光层兼电子传输层，蒸发速度为0. 5nm/s，在电子传输 层上蒸发lnm的氟化锂（LiF)作为电子注入层，蒸发速度为0. lnm/s，在电子传输层上蒸发 厚度为25nm的金属银膜（Ag)作为透明阴极，蒸发速度为0. 5nm/s。在上述器件的阴极表 面，溅射制备厚度300nm的Si3N4作为薄膜封装层。
[0084] 对比例4与实施例4不同之处仅在于该有机电致发光器件的基板用PEN薄膜为 基板其他各层阳极，空穴传输层，电子传输层，电子注入层，阴极及封装层的材料及其厚度 都与实施例4中相同，对比例的有机电致发光器件的结构为：PEN/Ag(70nm)/NPB(50nm)/ Alq3 (30nm) /LiF (lnm) /Ag (25nm) /Si3N4 (300nm)
[0085] 经测试结果：
[0086] 将实施例4制备的柔性基板做水渗透率的测试，其渗透率为1. 1 X l(T3g/m2/day， 而对比例4中的柔性基板，其水渗透率为7. 3g/m2/day，显然在聚合物薄膜表面经过本发明 的改进后，水渗透率大幅降低了。
[0087] 当起始亮度为1000cd/m2时，亮度衰减到起始的70%时，实施例4有机电致发光器 件的使用寿命达到3500小时左右，而对比例则只有1200小时左右。
[0088] 以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并 不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员 来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保 护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【权利要求】
1. 一种柔性基板，其特征在于，包括聚合物薄膜基板，在所述聚合物薄膜基板一面设置 第一金属铝层，所述聚合物薄膜的另一面交替设置第二金属铝层与聚酰亚胺薄膜层，且所 述聚合物薄膜基板两端为金属铝层结构，所述聚合物薄膜基板的材料选自聚对苯二甲酸乙 二醇酯，聚醚砜，聚萘二甲酸乙二醇酯及透明聚酰亚胺中至少一种。
2. 根据权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述聚合物薄膜基板的厚度为 0· 1mm ?lmm〇
3. 根据权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述第一金属铝层厚度为50nm? 100nm〇
4. 根据权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述第二金属铝层厚度为15nm? 40nm，所述聚酰亚胺薄膜层厚度为70nm?150nm。
5. 根据权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述交替设置第二金属铝层与聚酰 亚胺薄膜层中，第二金属铝层的层数大于等于3,所述聚酰亚胺薄膜层的层数大于等于2。
6. -种柔性基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 提供聚合物薄膜基板，将聚合物薄膜基板放入真空镀膜系统中，在真空度为l〇_3Pa? l(T5Pa的条件下，在所述聚合物薄膜基板的一面蒸发制备第一金属铝层； 接着在所述聚合物薄膜基板的另一面交替蒸镀制备第二金属铝层及聚酰亚胺薄膜层， 且所述聚合物薄膜基板两端为金属铝层结构； 蒸镀金属铝层在真空度为IX ΚΓ3?IX l(T5Pa的真空镀膜系统中进行，蒸发速度为 0. 2nm/s?2nm/s。蒸镀聚酰亚胺薄膜层在真空度为1 X ΚΓ3?1 X l(T5Pa的真空镀膜系统 中进行，蒸发速度为〇. lnm/s?lnm/s。
7. 根据权利要求6所述的柔性基板的制备方法，其特征在于，所述聚酰亚胺薄膜由以 下步骤制备： 在真空度为IX ΚΓ3?IX l(T5Pa的真空镀膜系统中，将均苯四甲酸二酐和4, 4二氨 基二苯醚两种单体材料分别置于真空镀室的两个坩埚中，均苯四甲酸二酐和4, 4 二氨基 二苯醚的蒸发速度之比为1: (〇. 8?1. 2)，得到预聚体； 将得到的预聚体移入真空加热装置中，在150°C?250°C条件下脱水处理5小时?10 小时，得到聚酰亚胺薄膜。
8. -种有机电致发光器件，该有机电致发光器件包括依次层叠的基板，阳极，空穴传输 层，电子传输层，电子注入层，阴极及封装层，其特征在于，所述基板为聚合物薄膜基板，在 所述聚合物薄膜基板一面设置第一金属铝层，所述聚合物薄膜的另一面交替设置第二金属 铝层与聚酰亚胺薄膜层，且所述聚合物薄膜基板两端为金属铝层结构，所述聚合物薄膜基 板的材料选自聚对苯二甲酸乙二醇酯，聚醚砜，聚萘二甲酸乙二醇酯及透明聚酰亚胺中至 少一种。
9. 根据权利要求8所述的有机电致发光器件，其特征在于：所述聚合物薄膜基板的 厚度为〇· 1mm?1mm，所述第一金属错层厚度为50nm?100nm，所述第二金属错层厚度为 15nm?40nm，所述聚酰亚胺薄膜层厚度为50nm?100nm。
10. 根据权利要求8所述的有机电致发光器件，其特征在于：所述交替设置第二金属铝 层与聚酰亚胺薄膜层中，第二金属铝层的层数大于等于3,所述聚酰亚胺薄膜层的层数大于 等于2。
【文档编号】H01L51/54GK104218174SQ201310210071
【公开日】2014年12月17日 申请日期:2013年5月30日 优先权日:2013年5月30日
【发明者】周明杰, 冯小明, 张振华, 王平 申请人:海洋王照明科技股份有限公司, 深圳市海洋王照明技术有限公司, 深圳市海洋王照明工程有限公司