技术特征：
技术总结
本发明涉及使用基于等离子体的工艺消除氟残余物的系统和方法。一种用于操作衬底处理室的方法，包括在所述衬底处理室中使用氟基气体执行处理之后：a)在第一预定时间段期间，将气体混合物供应到所述衬底处理室并且提供RF功率以在衬底处理室中激励等离子体，所述气体混合物包括选自由分子氧、分子氮、一氧化氮和一氧化二氮组成的组中的一种或者多种气体；b)在所述第一预定时间段之后的第二预定时间段期间，向所述衬底处理室供应分子氢气体和RF功率；c)重复a)和b)一次或多次；d)用分子氮气吹扫所述衬底处理室；e)增加室压强；f)排空所述衬底处理室；和g)重复d)、e)和f)一次或多次。
技术研发人员：安德鲁·斯特拉顿·布拉沃;乔迪普·古哈;阿米特·法尔克亚
受保护的技术使用者：朗姆研究公司
技术研发日：2017.01.05
技术公布日：2017.07.14