专利名称:基板刻蚀监测方法
技术领域：
本发明涉及一种对基板刻蚀进行监测的方法。
背景技术：
TFT-LCD刻蚀时使用一个EPS对基板的刻蚀情况进行监测，但是一个EPS只能监测基板内一个小范围内的刻蚀情况，随着TFT-LCD制造工艺的进步，基板面积越来越大，基板内膜厚分布难于控制，一个小范围内的刻蚀情况无法准确反应整个基板内的刻蚀情况。现有技术只用一个EPS对基板内一个小范围内的刻蚀情况进行监测。可能该小范围内EPS检出时，基板内其它区域还有膜未被完全刻蚀从而造成刻蚀残留。
发明内容本发明的目的是提供一种监测方法，能够较准确的判断基板的可视情况。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的一种基板刻蚀监测方法，其在与被刻蚀基板的一个侧边对应的位置设置一个EPS传感器，在与被刻蚀基板另一侧边对应的位置设置至少一个EPS传感器。
其中，各该EPS传感器设置在其所监测的基板区域的摆动中心。且，各该EPS传感器设在被刻蚀基板的图案的外侧的位置上。
当各个EPS传感器获得的信号值中的最小值大于或等于门限值时，则认为基板刻蚀完毕。
本发明的积极进步效果在于利用多个EPS传感器对基板的刻蚀情况进行监测，能够较准确的反映基板当前的状态，避免出现刻蚀不完全的情况。
图1为本发明一实施例的示意图。
具体实施方式下面结合附图给出本发明较佳实施例，以详细说明本发明的技术方案。
一种基板刻蚀监测方法，其在与被刻蚀基板1的一个侧边对应的位置设置一个第一EPS传感器2，在与被刻蚀基板1另一侧边对应的位置设置一个第二EPS传感器3。也可以设置多个该第一EPS传感器2以及该第二EPS传感器3。第一EPS传感器和第二EPS传感器是相同的装置。
其中，各该EPS传感器设置在其所监测的基板区域(如图1中虚线所示)的摆动中心。且，各该EPS传感器设在被刻蚀基板的图案(如图1中点划线所示)的外侧的位置上，。
当各个EPS传感器获得的信号值中的最小值大于或等于门限值时，则认为基板刻蚀完毕。
权利要求
1.一种基板刻蚀监测方法，其在与被刻蚀基板的一个侧边对应的位置设置一个EPS传感器，其特征在于，在与被刻蚀基板另一侧边对应的位置设置至少一个EPS传感器。
2.根据权利要求
1所述的基板刻蚀监测方法，其特征在于，各该EPS传感器设置在其所监测的基板区域的摆动中心。
3.根据权利要求
2所述的基板刻蚀监测方法，其特征在于，各该EPS传感器设在被刻蚀基板的图案的外侧的位置上。
4.根据权利要求
3所述的基板刻蚀监测方法，其特征在于，当各个EPS传感器获得的信号值中的最小值大于或等于门限值时，则认为基板刻蚀完毕。
专利摘要
本发明公开了一种基板刻蚀监测方法，其在与被刻蚀基板的一个侧边对应的位置设置一个EPS传感器，在与被刻蚀基板另一侧边对应的位置设置至少一个EPS传感器。本发明利用多个EPS传感器对基板的刻蚀情况进行监测，能够较准确的反映基板当前的状态，避免出现刻蚀不完全的情况。
文档编号H01L21/465GK1996566SQ200510112262
公开日2007年7月11日 申请日期2005年12月28日
发明者田广彦 申请人:上海广电Nec液晶显示器有限公司导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan