本发明涉及电机圆片冲片生产制造领域，具体涉及一种单工位复式收集落料平台，其用于电机圆片冲片落料过程中的外圈废料和转子冲片的收集。
背景技术：
在电机冲片制造的过程中，消耗圆片作为材料重复利用降本节支的重要手段，属于一道重工序。随着自动化技术的推广，圆片落料会生成三种制品：外圈废料、定子圆片、转子圆片，比传统的落料多一种制品：外圈废料。对应的自动化制造，就需要多出一个工位来收集外圈废料，多出的一个工位需要多占用现场的空间，空间的这个问题在某些场合是无法解决的。
技术实现要素：
针对现有技术的情况，本发明的目的在于提供一种能够满足在一个工位上收集多个制品的要求且能够减少产品生产过程中需要的工位和提高现场空间使用率的单工位复式收集落料平台。
为了实现上述的技术目的，本发明采用的技术方案为：
一种单工位复式收集落料平台，用于电机圆片冲片的外圈废料和转子圆片的收集，所述电机圆片冲片后由内至外成型有的转子圆片、定子圆片和外圈废料，其包括底板和若干个呈圆形阵列且可拆卸固定于底板上的隔断吊架，若干个隔断吊架环绕的圆形空间与底板之间形成用于放置转子圆片的容置区，所述隔断吊架的底部沿远离容置区方向水平延伸有用于托持外圈废料的吊架脚钩。
进一步，所述的底板为金属材质成型，所述隔断吊架的底部嵌设有吊架磁铁，所述的隔断吊架通过吊架磁铁吸附固定于底板上。
优选的，所述吊架磁铁的底部与隔断吊架的下端面相平。
进一步，所述隔断吊架的数量为两对，两对隔断吊架为两两相对设置。
进一步，所述隔断吊架的上端设有一呈弧形结构的吊环。
采用上述技术方案，本发明具有的有益效果为：本发明方案一方面通过利用若干个呈圆形阵列且可拆卸固定于底板上的隔断吊架进行配合形成用于放置转子圆片的容置区，另一方面通过在隔断吊架底部沿远离容置区方向水平延伸出用于托持外圈废料的吊架脚钩，使得取走定子圆片后的电机圆片在被机械手抓取放入本发明装置中时，能够将外圈废料和转子圆片隔离开，而外圈废料在堆积至一定高度或将超过最高收集量时，只需通过吊装工具将隔断吊架吊起，使其底部与底板分离，即可实现外圈废料与转子圆片的分离，使转子圆片依然置于底板上，而外圈废料被隔断吊架移送走。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明装置俯视实施结构之一的示意图；
图2为图1所示a-a处的剖切结构示意图；
图3为经冲压后的电机圆片简要结构之一的示意图。
图例说明：
1、外圈废料2、定子圆片3、转子圆片4、底板5、隔断吊架6、吊环7、吊架脚钩8、吊架磁铁。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的优选实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
如图1至3之一所示，本发明用于电机圆片冲片的外圈废料1和转子圆片3的收集，所述电机圆片冲片后由内至外成型有的转子圆片3、定子圆片2和外圈废料1，其包括底板4和若干个呈圆形阵列且可拆卸固定于底板4上的隔断吊架5，若干个隔断吊架5环绕的圆形空间与底板4之间形成用于放置转子圆片3的容置区，所述隔断吊架5的底部沿远离容置区方向水平延伸有用于托持外圈废料的吊架脚钩7。
其中，所述的底板4为金属材质成型，所述隔断吊架5的底部嵌设有吊架磁铁8，所述的隔断吊架5通过吊架磁铁8吸附固定于底板4上。
另外，所述吊架磁铁8的底部与隔断吊架5的下端面相平。
作为一种实施结构方式，进一步，所述隔断吊架5的数量可以为两对，其中，两对隔断吊架5为两两相对设置。
为了便于隔断吊架5的起吊，进一步，所述隔断吊架5的上端设有一呈弧形结构的吊环6。
当工作的时候，操作人员只需先把底板4放置好位置，再把隔断吊架5放置在底板4上面，由于隔断吊架5底部安装有吊架磁铁8，所以隔断吊架5和底板4能够很好的贴合在一起。
而在电机冲片制造的过程中，会产生三个制品外圈废料1、定子圆片2和转子圆片3。在这个收集平台上需要同时收集外圈废料1和转子圆片3。当机械手在运行到平台上方的时候，只需要将抓取的外圈废料1和转子圆片3释放掉落在收集平台上，隔断吊架5会将外圈废料1和转子圆片3隔离开，外圈废料1会掉落在吊架脚钩7上，不会让两种制品交错在一起。
当在外圈废料1堆积至一定高度或将超过最高收集量时的时候，只需要将隔断吊架5起吊就能将外圈废料1吊运走。
当针对不同产品的时候，只需调整隔断吊架5在底板4上的位置，就能满足不同规格产品的生产制造。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。