专利名称：：硬涂膜的制作方法
技术领域：
：本发明涉及硬涂膜，更详细地，涉及具有作为各种图像显示装置的表面保护膜所必要、充足的表面硬度，而且固化收缩产生的巻曲(力一》)小的硬涂膜。
背景技术：
：目前，硬涂膜基于以表面保护为代表的防眩性和防反射性等目的，用于各种图像显示装置，例如LCD(液晶显示器)、触摸屏、CRT(阴极射线管)、PDP(等离子显示面板)、EL(场致发光元件)等。而且，还在LCD中使用，以保护偏振片。该硬涂膜通常是在基材薄膜上具有由热固化、活性能量线固化等形成的硬涂层。另一方面，近年来还要求图像显示装置的薄型化。在这种情况下，希望硬涂层能使用具有现有的厚度(80125pm左右)的一半左右的厚度的基材薄膜。然而，如果在该厚度薄的基材薄膜上形成现有的那些硬涂层，则会由于硬涂层的固4b收缩，而在^_涂膜中产生巻曲，从而导致难以作为表面保护膜而使用的困难等不合适的问题。因此，为了抑制固化收缩，抑制巻曲的产生，还公开了在基材上涂布固化性组合物，使其固化，且固化后的硬涂层的膜厚为15pm以上、200pm以下的硬涂处理物品，该固化性组合物包括在同一分子内具有3个以上的乙烯性不饱和基和1个以上的异氰脲酸酯环的化合物(例如，参照专利文献l)。然而，在这种情况下，为了得到足够的硬度，还具有必须较大地设定硬涂层的厚度的问题。另外，还公开了将包含含有2个乙烯性不饱和基的异氰脲酸酯书f生物和季戊四醇丙烯酸酯的组合物固化，形成硬涂层的4支术(例如，参照专利文献2)。然而，该技术中，前述异氰脲酸酯衍生物单体的固化物的硬度不足，所以组合物固化形成的石更涂层的硬度还有进一步改良的余地。专利文献1:日本2004-141732号公报专利文献2:日本2005-103973号公报
发明内容本发明是基于这些问题提出的，其目的在于提供具有作为各种图像显示装置的表面保护膜所必要、充足的表面硬度，而且固化收缩产生的巻曲小的硬涂膜。本发明人为了开发出具有前述良好的性质的硬涂膜，进行了认真的研究，结果发现使用具有各自特定的结构、以规定比例含有活性能量线固化型化合物和活性能量线固化型异氰脲酸酯衍生物的硬涂层形成材料，在基材薄膜上设置由活性能量线固化树脂层形成的硬涂层，可以实现本发明的目的，基于该认识，完成本发明。也就是，本发明提供(l)一种硬涂膜，其特征在于具有使用硬涂层形成材料在基材薄膜上形成的活性能量线固化树脂层形成的硬涂层，且该硬涂层形成材料包含(A)分子内具有3个以上的乙烯性不饱和基，而且是异氰脲酸酯衍生物以外的活性能量线固化型化合物，以及相对于100质量份(A),(B)分子内具有3个以上的乙烯性不饱和基的活性能量线固化型的异氰脲酸酯衍生物150-550质量份。(2)根据上述(1)所记载的硬涂膜，其中(B)成分的异氰脲酸酯衍生物具有异氰脲酸骨架的3个氮原子全部结合乙烯性不饱和基的结构。(3)根据上述(1)或(2)所记载的硬涂膜，其中将裁断为10cm的正方形的硬涂膜搭载在平板上时产生的4个角的巻曲的高度总计为100mm以下，而且铅笔硬度为2H以上。(4)根据上述(1)~(3)任一项所记载的硬涂膜，其中基材薄膜是厚度为80pm以下的三乙酰基纤维素薄膜。(5)根据上述(1)~(4)任一项所记载的硬涂膜，其中硬涂层的厚度为310pm。根据本发明可以提供具有作为各种图像显示装置的表面保护膜所必须的、足够的表面硬度，而且固化收缩产生的巻曲小的硬涂膜。具体实施方式本发明的硬涂膜是在基材薄膜上具有使用硬涂层形成材料形成的活性能量线固化树脂层形成的硬涂层，且该硬涂层形成材料包含(A)异氰脲酸酯衍生物以外的活性能量线固化型化合物，以及(B)活性能量线固化型异氰脲酸酯衍生物。本发明的硬涂膜中使用的基材薄膜没有特别的限定，可以从作为现有的光学使用的硬涂膜的基材所公知的塑料薄膜中适当选择使用。作为这种塑料薄膜，可以列举出例如聚对苯二曱酸乙二醇酯、聚对苯二曱酸丁二酯、聚萘乙酯等聚酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、玻璃纸、二乙酰基纤维素薄膜、三乙酰基纤维素薄膜、乙酰纤维素丁酸酯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏氯乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚曱基戊烯薄膜、聚砜薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚醚砜薄膜、聚醚酰亚胺薄膜、聚酰亚胺薄膜、氟树脂薄膜、聚酰胺薄膜、丙烯酸树脂薄膜、降冰片烯类树脂薄膜、环烯树脂薄膜等。这些基材薄膜可以是透明、半透明的，而且可以着色，也可以不着色，可以根据用途适当选择。例如，在用于保护液晶显示器的偏振片时，合适的是无色透明的三乙酰基纤维素薄膜。这些基材薄膜的厚度没有特别的限定，可以根据情况适当选择，但是从有效地发挥出抑制巻曲产生的作用出发，优选为80pm以下，更优选为20~80pm。另外，基于提高设置在基材薄膜表面的层的密合性的目的，该基材薄膜可以根据需要通过氧化法、凹凸化法等，在一面或两面上进行表面处理。上述氧化法可以列举出例如电晕放电处理、等离子处理、铬酸处理(湿式)、火焰处理、热风处理、臭氧.紫外线照射处理等；另外，凹凸化法可以列举出例如喷砂法、溶剂处理法等。这些表面处理方法可以根据基材薄膜的种类而适当选择，但是从效果以及操作性等方面出发，优选4吏用电暈放电处理法。在本发明的硬涂膜中，层叠在前述基材薄膜上的硬涂层通过包括(A)分子内具有3个以上的乙烯性不饱和基，而且是异氰脲酸酯衍生物以外的活性能量线固化型化合物，以及(B)分子内具有3个以上的乙烯性不饱和基的活性能量线固化型异氰脲酸酯衍生物的硬涂层形成材料来形成。另外，前述(A)成分中的活性能量线固化型化合物是指在电磁波或者带电粒子束中，具有能量子的物质，也就是，通过照射紫外线或者电子束，进行交联、固化的化合物。当然，(B)成分也是活性能量线固化型化合物的l种。该(A)成分的活性能量线固化型化合物是在分子内具有3个以上乙烯性不饱和基，而且是异氰脲酸酯衍生物以外的化合物。作为这种化合物，可以列举出例如三羟曱基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(曱基)丙烯酸酯、丙酸改性的二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(曱基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性的三羟曱基丙烷三(曱基)丙烯酸酯、丙酸改性的二季戊四醇五(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(曱基)丙烯酸酯、己内酯改性的二季戊四醇六(曱基)丙烯酸酯等3官能以上的(甲基)丙烯酸酯。可以单独使用它们中的1种，也可以将2种以上组合后使用。只要乙烯性不饱和基的数量为3个以上，就没有特别的限定，从抑制巻曲的观点出发，优选为36个。另一方面，作为(B)成分的在分子内具有3个以上的乙烯性不饱和基的活性能量线固化型异氰脲酸酯衍生物，只要是具有在异氰脲酸骨架上结合3个以上的乙烯性不饱和基的结构的化合物，就没有特别的限定，但是从性能以及容易制造等观点出发，优选为异氰脲酸骨架的3个氮原子全部和乙烯性不饱和基结合的结构。作为乙烯性不饱和基优选为(曱基)丙烯酰氧基。作为这种异氰脲酸酯衍生物，可以列举出例如通式(I)所示的三[(曱基)丙烯酰氧基烷基]异氰脲酸酯。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>(I)(式中，A1~八3各自独立地表示(曱基)丙烯酰氧基，R'I^各自独立地表示碳原子数24的亚烷基)。前述通式(I)中，R1113所示的亚烷基可以是直链状或支链状的任何一种，具体地，可以列举出乙基、丙基、环丙烷基、各种丁基。另外，结合到3个氮原子上的(曱基)丙烯酰氧基烷基彼此之间可以相同，也可以不同。前述通式(I)所示的三[(曱基)丙烯酰氧基烷基]异氰脲酸酯可以列举出例如三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、三(3-丙烯酰氧基丙基)异氰脲酸酯、三(2-曱基丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、三(3-曱基丙烯酰氧基丙基)异氰脲酸酯等。在本发明中，(B)成分可以单独使用这些化合物中的1种，也可以将2种以上组合后使用。另外，硬涂层形成材料中的该(B)成分的含量相对于100质量份前述(A)成分，在150-550质量份的范围内选择。该含量小于150质量份时，所得的硬涂膜无法充分发挥出抑制巻曲的效果，如果超过550质量份，则硬涂膜的表面硬度低下。从抑制巻曲产生的效果和表面硬度的均衡性等观点出发，(B)成分的优选含量为180~520质量份。在该硬涂层形成材料中，除了含有前述(A)成分和(B)成分以外，在不损害本发明的目的的范围内，根据需要，还可以含有其它活性能量线固化型化合物。作为其它活性能量线固化型化合物，可以列举出例如活性能量线聚合性预聚物和/或活性能量线聚合性单官能单体以及2官能单体。作为活性能量线聚合性预聚物可以列举出例如聚酯丙烯酸酯类、环氧化丙烯酸酯类、氨基曱酸乙酯丙烯酸酯类、多元醇丙烯酸酯类等。余液，将堇青石陶瓷蜂窝在室温晾至表面干燥，再于120'C干燥2小时，然后在马弗炉中500'C焙烧4小时，即制得负载l(m(Cu0-002)。.^。.2涂层的陶瓷蜂窝催化剂。催化剂的性能评价按实施l的方法，该催化剂的Tg9为260'C。实施例5涂覆涂层液的制备称取1.3437gCe:Cu=1.00:0.67的CuO-Ce02固溶体纳米粒子、0.6959gY(0H)3和3.1345g柠檬酸混合后，加入适量去离子水，搅拌均匀，即得涂覆液。陶瓷蜂窝载体涂层的涂覆将尺寸为50mmX25咖X40mm，开孔率为195cell/in2，质量为18.803g的堇青石陶瓷蜂窝浸入涂覆液后，取出，吹出蜂窝通道内残余液，将堇青石陶瓷蜂窝在室温晾至表面干燥，再于120'C干燥2小时，然后在马弗炉中500'C焙烧4小时，即制得负载10%(010-0602)。.^。.2涂层的陶瓷蜂窝催化剂。催化剂的性能评价按实施l的方法，该催化剂的T99为260'C。实施例6涂覆涂层液的制备称取1.6255gCe:Cu=1.00:1.00的CuO-Ce02固溶体纳米粒子、0.9021gY(0H)3和4.064g柠檬酸混合后，加入适量去离子水，搅拌均匀，即得涂覆液。陶瓷蜂窝载体涂层的涂覆将尺寸为50mmX25mmX40mm，开孔率为195cell/in2，质量为23.5048g的堇青石陶瓷蜂窝浸入涂覆液后，取出，吹出蜂窝通道内残余液，将堇青石陶瓷蜂窝在室温晾至表面干燥，再于120'C干燥2小时，然后在马弗炉中500'C焙烧4小时，即制得负载l(m(Cu0-0602)。.8￥。.2涂层的陶瓷蜂窝催化剂。催化剂的性能评价按实施l的方法，该催化剂的T99为270'C。实施例7涂覆涂层液的制备称取1.5027gCe:Cu=1.00:1.50的CuO-Ce02固溶体纳米粒子、0.9018gY(0H)3和4.1568g柠檬酸混合后，加入适量去离子水，搅拌均匀，即得涂覆液。陶瓷蜂窝载体涂层的涂覆将尺寸为50mmX25ramX40ram，开孔率为195cell/in2,质量为21.5940g的堇青石陶瓷蜂窝浸入涂覆液后，取出，吹出蜂窝通道内残余液，将堇青石陶瓷蜂窝在室温晾至表面干燥，再于120'C干燥2小时，然后在马弗炉中500'C焙烧4小时，即制得负载10%(0:0{602)。.8￥。.2涂层的陶瓷蜂窝催化剂。催化剂的性能评价按实施l的方法，该催化剂的T99为270'C。实施例8涂覆涂层液的制备称取1.4151gCe:Cu=1.00:2.33的CuO-Ce02固溶体纳米粒子、0.9225gY(0H)3和4.1568g柠檬酸混合后，加入适量去离子水，搅拌均匀，即得涂覆液。陶瓷蜂窝载体涂层的涂覆将尺寸为50mmX25mmX40mm，开孔率为195cell/in2，质量为21.5940g的堇青石陶瓷蜂窝浸入涂覆液后，取出，吹出蜂窝通道内残余液，将堇青石陶瓷蜂窝在室温晾至表面干燥，再于120'C干燥2小时，然后在马弗炉中500'C焙烧4小时，即制得负载10%(010-[602)。.8丫。.2涂层的陶瓷蜂窝催化剂。在该硬涂层形成材料中可以含有溶剂。作为该溶剂可以列举出例如己烷、庚烷等脂肪烃，曱苯、二甲苯等芳烃，二氯曱烷、氯乙烯等卣代烃，甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等醇类，丙酮、曱乙酮、2-戊酮、异佛尔酮、环己酮等酮类，乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯，乙基溶纤剂等溶纤剂类溶剂，丙二醇单曱基醚等二醇醚类溶剂等。这些溶剂可以单独使用1种，也可以将2种以上混合后使用。此外，还可以适当含有各种添加成分，例如用于提供抗眩性的填充剂、反应性有机硅化合物、光增敏剂、聚合抑制剂、交联剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、均化剂、除泡剂等。作为提供抗眩性的填充剂可以从现有的作为提供抗眩性的填充剂而公知的物质中适当选择后使用。作为这种填充剂，可以列举出例如平均粒径为1.5~7pm左右的二氧化-圭粒子，胶体状的二氧化硅粒子的胺^合物形成的凝聚物，平均粒径为0.510pm左右的，或者平均粒径为0.5~5pm左右的二氧化硅粒子和平均粒径为l~60nm左右的金属氧化物微粒的混合物等。这些填充剂在硬涂层中的含量可以考虑所得的硬涂膜的防眩性能以及耐擦伤性等而适当选择。另外，作为反应性有机硅化合物，可以使用在分子内具有自由基聚合性不饱和基的有机硅化合物。该有机硅化合物可以通过照射活性能量线而交联，固化，具有对硬涂层赋予耐污染性和低摩擦性等作用。在本发明中，调制含有前述各成分，调节为适合涂布的浓度的硬涂层形成材料(涂布液)，使用现有公知的方法，例如棒涂布法、刮刀涂布法、辊涂法、刃(7、k一K)涂布法、模缝涂布法、照相凹版印刷法等，涂布到前述基材薄膜上，并使固化后的厚度为规定值，涂布形成未干燥的涂膜后，在6013(TC左右下进行13分钟左右的干燥处理后，对干燥涂膜照射活性能量线，将该涂膜固化，形成硬涂层。作为活性能量线可以列举出例如紫外线、电子束等。上述紫外线可以由高压水银灯、熔合H灯、氙灯等得到，照射量通常为100500mJ/cm2,另外，电子束由电子束加速器等得到，照射量通常为150~350kV。该活性能量线中，特别合适的是紫外线。另夕卜，在使用电子束时，不添加光聚合引发剂，也可以得到固化膜。硬涂层的厚度通常为3~10pm左右。这样得到的硬涂膜通常在将裁断为10cm正方形的硬涂膜搭载在平板上时，产生的4角巻曲高度的总量为100mm以下，而且铅笔硬度为2H以上。另外，巻曲的高度和铅笔硬度的测定方法在下文中详细描述。本发明的硬涂膜中，在硬涂层上根据需要可以设置10~45nm左右厚的透明导电性薄膜层。该透明导电性薄膜层的形成方法没有特别的限定，可以采用现有公知的方法，例如溅射等物理气相蒸镀法(PVD法)等。另外，作为透明导电性薄膜的材料，可以列举出例如氧化铟、氧化锡、氧化锌、锡-铟氧化物、锡-锑氧化物、锌-铝氧化物、铟-锌氧化物等。在表面设置透明导电性薄膜层的具有硬涂层的本发明的石更涂膜由于该硬涂层的耐擦伤性高，所以将该硬涂膜用于电阻膜式的触摸屏中的触摸侧的透明塑料基板，可以解决触摸側的透明塑料基板的透明导电性薄膜磨损，或者产生裂痕，进而从基材剥落的问题。在本发明中，根据需要可以在前述硬涂层的表面设置用于提供防反射性的防反射层、例如硅氧烷类覆膜、氟类覆膜等。在这种情况下，该防反射层的合适的厚度是0.050.2pm左右。另外，波长550nm的反射率优选为3.5%以下。通过设置该防反射层可以消除由于太阳光、荧光灯等的反射产生的画面的映射，而且可以抑制表面的反射率，全部光线的透过率上升，透明性提高。在本发明中，在和基材薄膜的硬涂层相反侧的面上，可以形成用于贴合被粘附体的粘合剂层。作为构成该粘合剂层的粘合剂，优选使用光学用途中使用的粘合剂，例如丙烯酸类粘合剂、聚氨酯类粘合剂、有机硅类粘合剂。该粘合剂层的厚度通常为5~100,,优选为1060fxm。此外，在该粘合剂层上根据需要可以设置剥离片。作为该剥离片，可以列举出例如玻璃纸、涂纸、层压纸等纸，以及在各种塑料薄膜上涂布的有机硅树脂等的剥离剂。该剥离片的厚度没有特别的限制，通常为20~150pm左右。本发明的硬涂膜具有作为各种图像显示装置的表面保护膜所必要的、足够的表面硬度，而且固化收缩产生的巻曲小。实施例接着，通过实施例对本发明进行更详细地说明，但是本发明并不受到这些例子的任何限定。另外，各例子得到的硬涂膜的性能根据下述方法评价。(1)铅笔硬度使用铅笔划痕涂膜硬度试验机((抹式)东洋精机制作所制造，型号"NP"),才艮据JISK5600-5-4，通过铅笔法测定。(2)巻曲将硬涂膜裁断为10cm的正方形，制作成试验片，在23。C、相对湿度(RH)55。/。的环境下静置24小时后，在水平玻璃板上4荅载试验片，并使上方为凹部，通过刻度尺测定4个角上升量，求得其总值。调制例1涂布液A的调制在100质量份(A)季戊四醇三丙烯酸酯(新中村化学工业(抹式)制造，商品名"NK工7亍/PA-TMM-3"，固体成分浓度100%)中，添加200质量份(B)三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯(东亚合成化学工业(抹式)制造，商品名"7口二y夕7M-315",固体成分浓度100%)、6质量份作为光聚合引发剂的1-羟基-环己基苯基酮(千/:7^、乂亇少亍吖.$力/PX、公司制造，商品名"^/k力、年二了184")，用丙二醇单曱基醚稀释到固体成分浓度为40质量％,调制涂布液A。调制例2涂布液B的调制除了将调制例1中，(B)三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯的量改变为500质量份，将1-羟基-环己基苯基酮的量改变为12质量^P分以外，和调制例1同样地调制涂布液B。调制例3涂布液C的调制除了将调制例1中，(A)季戊四醇三丙烯酸酯改变为季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化学工业(抹式)制造，商品名"NK工7亍乂kA-TMMT，，，固体成分浓度100%)以外，和调制例1同样地调制〉余布液C。调制例4涂布液D的调制除了将调制例2中，(A)季戊四醇三丙烯酸酯改变为季戊四醇四丙烯酸酯(前述的)以外，和调制例2同才羊i也调制涂布液D。调制例5涂布液E的调制除了将调制例1中，(A)季戊四醇三丙烯酸酯改变为二季戊四醇六丙烯酸酯(东亚合成化学工业(抹式)制造，商品名"7口二、乂夕7M-400",固体成分浓度100%)以外，和调制例1同样地调制涂布液E。调制例6涂布液F的调制除了将调制例2中，(A)季戊四醇三丙烯酸酯改变为二季戊四醇六丙烯酸酯(前述的)以外，和调制例2同样地调制涂布液F。调制例7涂布液G的调制除了将调制例1中，(B)三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯的量改变为350质量份以外，和调制例1同样地调制涂布液G。调制例8涂布液H的调制除了将调制例1中，(B)三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯的量改变为IOO质量份，将1-羟基-环己基苯基酮的量改变为5质量份以外，和调制例1同样地调制涂布液H。调制例9涂布液I的调制除了将调制例8中，(A)季戊四醇三丙烯酸酯改变为二季戊四醇六丙烯酸酯(前述的)以外，和调制例8同才羊；也调制涂布液I。调制例10涂布液J的调制除了将调制例1中，(B)三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯的量改变为600质量份，将1-羟基-环己基苯基酮的量改变为14质量^f分以外，和调制例1同样地调制涂布液J。调制例11涂布液K的调制除了将调制例10中，(A)季戊四醇三丙烯酸酯改变为二季戊四醇六丙烯酸酯(前述的)以外，和调制例10同样地调制涂布液K。实施例1使用棒涂布机，在作为基材膜的厚度40|im的三乙酰基纤维素薄膜(富士胶片抹式会社制造，商品名"T40UZ")上涂布调制例17调制的涂布液A~G,并使干燥后的厚度为3pm,在7(TC下干燥1分钟后，对涂布面照射紫外线，照射光量为230mJ/cm2，固化，制造各硬涂膜。硬涂层的厚度为3pm。各硬涂膜的性能评价结果如表1所示。实施例2除了使实施例1中，按照干燥后的厚度为6pm进行涂布以夕卜，和实施例1同样地，制造各种硬涂膜。硬涂层的厚度为6pm。各硬涂膜的性能评价结果如表1所示。实施例3除了使实施例1中，按照干燥后的厚度为10pm进行涂布以夕卜，和实施例1同样地，制造各种硬涂膜。硬涂层的厚度为10pm。各硬涂膜的性能评价结果如表1所示。比摔交例1使用棒涂布机，在作为基材的厚度40pm的三乙酰基纤维素薄膜(前述的)上涂布调制例8、9调制的涂布液H、I,并使干燥后的厚度为6pm,在7(TC下干燥1分钟后，对涂布面照射紫外线，照射光量为230mJ/cm2,固化，制造各硬涂膜。各硬涂膜的性能评价结果如表1所示。比專交例2使用棒涂布机，在作为基材薄膜的厚度40pm的三乙酰基纤维素薄膜(前述的)上涂布调制例10、ll调制的涂布液J、K,并使干燥后的厚度为6pm,在7CTC下干燥1分钟后，对涂布面照射紫外线，照射光量为230mJ/cm2,固化，制造各硬涂膜。各硬涂膜的性能评价结果如表1所示。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage16</column></row><table>从表l可以知道，本发明的硬涂膜(实施例13)的铅笔硬度都为2H以上，而且巻曲量(4角总量)小于100mm。相对于此，比较例1的铅笔硬度虽为2H以上、较高，但是巻曲量大，不合格。另外，虽然比较例2的巻曲量小，但是铅笔硬度为H,不合格。本发明的硬涂膜具有作为各种图像显示装置的表面保护膜所必要、充足的表面硬度，而且固化收缩产生的巻曲小，适合作为例如触摸屏使用以及偏振片、1/4波长板使用，或者作为光盘的覆盖膜以及各种显示器的保护膜等使用。权利要求1.一种硬涂膜，其特征在于具有使用硬涂层形成材料在基材薄膜上形成的活性能量线固化树脂层形成的硬涂层，且该硬涂层形成材料包含(A)分子内具有3个以上的乙烯性不饱和基，而且是异氰脲酸酯衍生物以外的活性能量线固化型化合物，以及相对于100质量份(A)，(B)分子内具有3个以上的乙烯性不饱和基的活性能量线固化型的异氰脲酸酯衍生物150～550质量份。2.根据权利要求1所记载的硬涂膜，其中(B)成分的异氰脲酸酯衍生物具有异氰脲酸骨架的3个氮原子全部结合乙烯性不饱和基的结构。3.根据权利要求1或2所记载的硬涂膜，其中将裁断为10cm的正方形的硬涂膜搭载在平板上时产生的4个角的巻曲的高度总计为100mm以下，而且铅笔硬度为2H以上。4.根据权利要求1或2所记载的硬涂膜，其中基材薄膜是厚度为80pm以下的三乙酰基纤维素薄膜。5.根据权利要求1或2所记载的硬涂膜，其中硬涂层的厚度为310jim。全文摘要本发明的课题在于提供一种具有作为各种图像显示装置的表面保护膜所必要、充足的表面硬度，而且固化收缩产生的卷曲小的硬涂膜。一种硬涂膜，该硬涂膜具有使用硬涂层形成材料在基材薄膜上形成的活性能量线固化树脂层形成的硬涂层，且该硬涂层形成材料包含(A)分子内具有3个以上的乙烯性不饱和基，而且是异氰脲酸酯衍生物以外的活性能量线固化型化合物，以及相对于100质量份(A)，(B)分子内具有3个以上的乙烯性不饱和基的活性能量线固化型的异氰脲酸酯衍生物150～550质量份。文档编号B32B7/02GK101224647SQ2008100010公开日2008年7月23日申请日期2008年1月18日优先权日2007年1月18日发明者富冈健太,所司悟申请人:琳得科株式会社