专利名称：往复式连续镀膜装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及连续镀膜技术领域，具体涉及一种往复式地连续镀膜装置。
背景技术：
在电子、通讯、显示器或光电等高科技产业中，针对产品的导电性、磁性、光学特性等特性，均可由镀膜工艺实现各项特性在产业标准上的要求，其应用越发广泛；再者，近年来，真空镀膜工艺更是取代了传统的喷涂油漆或电解电镀的方式而成为重要的镀膜技术。 真空镀膜技术应用的层面日渐广泛，但针对各种特性的镀膜方式需要镀以不同材质的膜层或者不同厚度的膜层，膜层的分布也有着一定的要求，因而基材常常需要反复进入镀膜区， 每次都需要将基材取出后再由进料区进入镀膜区，其镀膜过程繁琐且制作周期被大大延长，工作效率也大大降低。
发明内容本实用新型目的在于提供一种往复式连续镀膜装置，其结合检测装置与控制装置实现对传送装置的控制，从而实现对膜层厚度以及膜层分布的控制。为了解决现有技术中的这些问题，本实用新型提供的技术方案是一种往复式连续镀膜装置，它包括进料区、与进料区并行相接的多个镀膜区以及一连接于镀膜区的出料区，它还包括往复式的传送装置、检测装置以及控制装置，所述的进料区、镀膜区与出料区中均设有传送装置，所述的每个镀膜区的两端均设有检测装置，所述的检测装置与所述的控制装置相连，所述的控制装置连接传送装置并控制所述的传送装置的传送方向。完整的技术方案是一种往复式连续镀膜装置，它包括进料区、与进料区并行相接的多个镀膜区以及一连接于镀膜区的出料区，它还包括传送装置、检测装置以及控制装置， 所述的进料区、镀膜区与出料区中均设有传送装置，所述的每个镀膜区的两端均设有检测装置，所述的检测装置与所述的控制装置相连，所述的控制装置连接传送装置并控制所述的传送装置的传送方向，所述的往复式连续镀膜装置还包括一承载台，所述的传送装置设置于所述的承载台上，所述的控制装置为计算机，用于对传送装置的方向与运行速度进行控制调节。相比于现有技术中的解决方案，本实用新型优点是1.本实用新型所描述的往复式连续镀膜装置，其利用往复式的传送装置将基材输送到不同的镀膜区进行镀膜，从而对膜层分布进行控制，再有控制传送装置的传送速度从而实现对膜厚的控制，除此之外，在每个镀膜区所设置的检测装置可以检测基材的位置并将检测信号发送至控制装置，控制装置根据检测信号发出控制指令控制传送装置的运行方向或者运行速度，从而将基材送入不同的镀膜区域，实现对镀膜过程的智能控制；2.本实用新型中，控制装置采用计算机比较检测信号并发出对应控制指令，控制简单精确。以下结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述
图1为本实用新型的一种结构示意图；其中1、进料区；2、第一镀膜区；3、第二镀膜区；4、出料区；5、传送装置；6、第一检测装置；7、第二检测装置；8、第三检测装置；9、第四检测装置；10、控制装置11、承载台。
具体实施方式
以下结合具体实施例对上述方案做进一步说明。应理解，这些实施例是用于说明本发明而不限于限制本发明的范围。实施例中采用的实施条件可以根据具体厂家的条件做进一步调整，未注明的实施条件通常为常规实验中的条件。实施例如
图1所示，本实施例所描述的往复式连续镀膜装置，它包括进料区1、与进料区1 并行相接的两个镀膜区以及一连接于镀膜区后端的出料区4，除此之外，它还包括传送装置 5、检测装置以及控制装置10，所述的进料区1、镀膜区与出料区4中均设有传送装置5，所述的传送装置5贯穿整个镀膜生产线，所述的每个镀膜区的两端均设有检测装置，所述的检测装置依次分别为第一检测装置6、第二检测装置7、第三检测装置8、第四检测装置9，所述的检测装置均分别与控制装置10相连，所述的控制装置10连接传送装置5并控制所述的传送装置5，所述的往复式连续镀膜装置中还包括一承载台11，所述的传送装置5设置于承载台11上，所述的控制装置10为计算机，用于对传送装置5的方向与运行速度进行控制调节。本实施例中设定基材的镀膜过程按照镀膜次序分别进入第一镀膜区2、第二镀膜区3、第一镀膜区2再然后是第二镀膜区3。开启镀膜生产线，准备镀膜的基材置于传送装置 5上，由进料区1进入镀膜区进行镀膜，当基材随传送装置5运行至第二镀膜区3尾端时，整个所设置的四个检测装置实时检测基材的位置，并将基材的位置信息发送至控制装置10， 当第四检测装置9检测到基材的到达信号后，控制装置10根据检测信号发出控制指令给传送装置5并停止镀膜，控制传送装置5回退到第一镀膜区2的进入端即第一检测装置6的位置处，然后使传送装置5开始正向传送并开始镀膜，最后由第二镀膜区3的尾端输出进入出料区4，如此完成整个镀膜过程。如需对基材镀膜厚度进行控制，在镀膜区其他参数不变的情况下则可通过控制装置10控制传送装置5的运行速度，增减基材在镀膜区中的镀膜时间进而控制基材上的镀膜厚度。上述实例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人是能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所做的等效变换或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
权利要求1.一种往复式连续镀膜装置，它包括进料区、与进料区并行相接的多个镀膜区以及一连接于镀膜区的出料区，其特征在于，它还包括往复式的传送装置、检测装置以及控制装置，所述的进料区、镀膜区与出料区中均设有传送装置，所述的每个镀膜区的两端均设有检测装置，所述的检测装置与所述的控制装置相连，所述的控制装置连接传送装置并控制所述的传送装置的传送方向。
2.根据权利要求1所述的往复式连续镀膜装置，其特征在于，所述的往复式连续镀膜装置还包括一承载台，所述的传送装置设置于所述的承载台上。
3.根据全力压球1所述的往复式连续镀膜装置，其特征在于，所述的控制装置为计算机，用于对传送装置的方向与运行速度进行控制调节。
专利摘要本实用新型公开了一种往复式连续镀膜装置，其利用往复式的传送装置将基材输送到不同的镀膜区进行镀膜，从而对膜层分布进行控制，再有控制传送装置的传送速度从而实现对膜厚的控制，除此之外，在每个镀膜区所设置的检测装置可以检测基材的位置并将检测信号发送至控制装置，控制装置根据检测信号发出控制指令控制传送装置的运行方向或者运行速度，从而将基材送入不同的镀膜区域，实现对镀膜过程的智能控制。
文档编号C23C14/54GK202181348SQ201120246078
公开日2012年4月4日 申请日期2011年7月13日 优先权日2011年7月13日
发明者戴明光 申请人:戴明光, 苏州爱迪尔镀膜科技有限公司