蒸发源装置及蒸镀机的制作方法

文档序号:12300663阅读:573来源:国知局
蒸发源装置及蒸镀机的制作方法

本发明涉及有机发光显示器制作技术领域,尤其涉及一种蒸发源装置及蒸镀机。



背景技术:

oled(organiclight-emittingdiode,有机发光二极管)显示技术较之当前主流的液晶显示技术,具有对比度高、色域广、柔性、轻薄、节能等突出的优点。近年来,oled显示技术逐渐在智能手机和平板电脑等移动设备、智能手表等柔性可穿戴设备、大尺寸曲面电视、白光照明等领域普及,发展势头强劲。

oled技术主要包括以真空蒸镀技术为基础的小分子oled技术和以溶液制程为基础的高分子oled技术。蒸镀机是当前已量产的小分子oled器件生产的主要设备,其设备核心部分为蒸发源装置。

常用的蒸发源装置中,为控制蒸镀角,避免蒸发气体朝蒸发源上方的非基板区域沉积,在蒸发源腔室的喷嘴周围安装有限制板,然而,有机蒸气从喷嘴喷出呈椭球状,较大比例的材料沉积于限制板上,造成有机蒸镀材料利用率低,并且,随着限制板内壁堆积的有机材料量增多而累积到一定厚度后,存在材料脱落的风险,最终堵塞喷嘴而影响蒸镀机连续运营时间,带来巨大的经济损失。



技术实现要素:

鉴于现有技术存在的不足,本发明提供了一种蒸发源装置及蒸镀机,可以提高蒸镀材料利用率的同时,避免喷嘴堵塞情况的发生。

为了实现上述的目的,本发明采用了如下的技术方案:

一种蒸发源装置,包括第一容器、设于所述第一容器内用于容纳并加热有机材料的第二容器以及设于所述第一容器外的阻挡块,所述第一容器顶部、所述第二容器顶部分别设有喷嘴和蒸气孔,所述阻挡块设于所述喷嘴的喷孔周围,且所述喷孔截面为倒置梯形。

作为其中一种实施方式,所述喷孔外围还设有对所述喷孔内壁加热的环形的辅助加热源。

作为其中另一种实施方式,所述喷孔为圆台形或棱台形。

作为其中一种实施方式,所述阻挡块包括相对设置的条状的第一阻挡块和第二阻挡块,所述第一阻挡块和所述第二阻挡块分别设于所述喷嘴的两侧。

作为其中一种实施方式,所述喷嘴为条形,所述喷孔为多个,所有的所述喷孔开设在所述喷嘴上。

作为其中一种实施方式,所述喷孔为多个,线性分布在所述第一容器的顶部;所述第一阻挡块和所述第二阻挡块分别位于线性分布的所述喷孔的两侧。

作为其中一种实施方式,所述喷孔为多个,呈多行排列在所述第一容器的顶部;所述第一阻挡块和所述第二阻挡块的延伸方向平行于每行所述喷孔的排列方向,且所述第一阻挡块和所述第二阻挡块分别位于多行所述喷孔的两侧。

作为其中一种实施方式,所述阻挡块包括设置在所述第一阻挡块和所述第二阻挡块之间的第三阻挡块,所述第三阻挡块设于相邻的两行所述喷孔之间。

作为其中一种实施方式,所述第三阻挡块上分别朝向相邻的两行所述喷孔的面为斜面。

本发明的另一目的在于提供一种蒸镀机,包括一种所述的蒸发源装置。

本发明的喷孔截面为倒置梯形,并在喷孔外围设有阻挡块以阻止或限制无效方向的喷出的有机材料沉积,并且改善了阻挡块的内表面的有机材料沉积现象,提高蒸镀材料利用率的同时,避免了喷嘴堵塞情况的发生。

附图说明

图1为本发明实施例1的蒸镀机的结构示意图;

图2为本发明实施例1的蒸发源装置的长度方向的一个剖面示意图;

图3为本发明实施例1的蒸发源装置的宽度方向的一个剖面示意图;

图4a为本发明实施例1的一种蒸发源装置的俯视图;

图4b为本发明实施例1的另一种蒸发源装置的俯视图;

图5为本发明实施例1的蒸发源装置的部分结构示意图;

图6为本发明实施例2的一种蒸发源装置的俯视图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。

实施例1

参阅图1,本发明的蒸镀机主要包括蒸发源装置1,蒸发源装置1可朝其上方的基板2表面喷出有机材料,借助具有图案的挡板3,在基板2表面形成具有特定图案的有机膜层f。

结合图2和图3所示,本实施例的蒸发源装置包括第一容器10、设于第一容器10内用于容纳并加热有机材料的第二容器20以及设于第一容器10外的阻挡块30,第一容器10顶部、第二容器20顶部分别设有喷嘴100和蒸气孔200,阻挡块30设于喷嘴100的喷孔100a周围,且喷孔100a截面为倒置梯形,第一容器10上方可以通过设置流量监视器4实时检测有机材料的喷射速率。

阻挡块30包括相对设置的条状的第一阻挡块31和第二阻挡块32,喷嘴100为条形,喷嘴100的顶部形成有一排线性排列的喷孔100a,第一阻挡块31和第二阻挡块32分别位于线性分布的喷孔100a的两侧。如图4a所示,喷孔100a可以呈圆台形,也可以如图4b所示,喷孔100a呈棱台形,这样的喷孔内壁呈开口状。由于第一容器10内真空设置,当有机材料在第二容器20内加热气化后,依次自蒸气孔200、喷嘴100近似直线轨迹喷出,加之喷嘴100独特形状的限制,无效方向喷出的有机材料被阻止或限制而只能沿喷嘴100限定的方向沉积在其上方的基板2的相应的区域,喷孔100a表面极少有有机材料沉积,从而提高了材料利用率。

这里,第一阻挡块31、第二阻挡块32均为条状,二者的延伸长度均不小于喷孔100a的排列长度,实现对所有喷孔100a喷射方向的限制。

另外,本实施例的喷孔100a的外围还设有对喷孔100a内壁加热的环形的辅助加热源40。如图3所示,辅助加热源40设置在喷嘴100内,紧邻喷孔100a的表面,在喷嘴100的外围还可设置有冷却装置(图未示)。在蒸镀过程中,通过控制辅助加热源40对喷嘴100加热,可以防止有机材料沉积在喷孔100a内,从而避免堵塞,同时,通过冷却装置可以在喷嘴100温度过高时对其进行降温,保证连续蒸镀。

如图5所示,本实施例的蒸发源装置1自内至外依次包括第二容器20、隔热层40、加热源50、热反射层60、pcw(plantcoolingwater/processcoolingwater,工艺冷却水系统)70以及温度传感器80,第二容器20选用坩埚,加热源50与第二容器20之间设置有隔热层40,加热源50通过感应式加热对第二容器20内的有机材料进行加热,热反射层60设置在加热源50外围,以尽可能滴减少热损失,而pcw70作为散热系统对蒸发源装置进行降温。通过第二容器20底部的温度传感器80可以实施采集第二容器20的温度,并根据流量监视器4检测到的有机材料的喷射速率实时控制加热温度,以实现均匀镀膜。

实施例2

如图6所示,与实施例1不同,本实施例中,所有的喷孔100a呈多行排列在第一容器10的顶部,第一阻挡块31和第二阻挡块32的延伸方向平行于每行喷孔100a的排列方向,且第一阻挡块31和第二阻挡块32分别位于多行喷孔100a的两侧。

另外,阻挡块30包括位于第一阻挡块31和第二阻挡块32之间的第三阻挡块33,第三阻挡块33设于相邻的每两行喷孔100a之间,在蒸发源装置的宽度方向上对相邻两行喷孔100a的喷射方向进行限制,该第三阻挡块33上分别朝向相邻的两行喷孔100a的面为斜面,使得第三阻挡块33的截面为三角形,形成楔形结构。

本发明的喷孔截面为倒置梯形,并在喷孔外围设有阻挡块以阻止或限制无效方向的喷出的有机材料沉积,并且通过对喷孔内壁进行温度控制,改善了阻挡块的内表面的有机材料沉积现象,提高蒸镀材料利用率的同时,避免了喷嘴堵塞情况的发生。

以上所述仅是本申请的具体实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

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