一种含氟光固化单体及其制备方法

文档序号:3497219阅读:256来源:国知局
一种含氟光固化单体及其制备方法
【专利摘要】本发明涉及一种含氟光固化单体及其制备方法,其结构式为:其中:n≥1,m≥3;R1为氢或者甲基;R2为烷烃类、芳烃类、醚类或酯类基团。本发明提供的一种含氟光固化单体,通过对含羟基的光固化单体改性为具有表面迁移性的含氟链段,以及氟对碳链的屏蔽保护作用,使含氟的光固化单体具有了明显的抗氧阻聚的优点,在光固化体系中是非常明显的优势;同时氟原子的负电性强、C-F键能高、表面能低,也赋予了含氟聚合物优异的憎水憎油和防污性。本发明提供了一种含氟光固化单体其制备方法,反应过程简便;反应温度温和;后处理简单,并且容易纯化。
【专利说明】-种含氣光固化单体及其制备方法

【技术领域】
[0001] 本发明属于高分子材料合成领域,特别涉及一种含氣光固化单体及其制备方法。

【背景技术】
[0002] 光固化体系主要由低聚物、活性稀释剂和光引发剂组成,其中活性稀释剂通常称 为单体或功能性单体,它是一种含有可聚合官能团的有机小分子,在光固化的组分中是一 个重要的组成。它不仅溶解和稀释低聚物,调节体系的粘度,而且参与光固化过程,影响体 系的光固化速度和固化膜的各种性能。
[0003] 丙帰酸醋类体系是典型的自由基固化体系,具有反应速度快、原料成本较低、成膜 性好等优点,是国内外广泛研究使用的对象。但是具有反应易受氧气影响、对皮肤眼睛刺激 较大、涂层体积收缩大等缺点。
[0004] 氣原子具有强负电性、高C-F键能、除氨外最小的范德华半径W及氣对碳链的屏 蔽保护作用,赋予了含氣聚合物独特的低表面能,优越的耐候性、热稳定性和化学惰性,W 及低摩擦系数、低折射率和低功耗因素等性质。并且含氣光固化单体的低表面能又使之具 有迁移性,该为抵抗氧气对光固化体系带来的不利影响带来了契机。同时含氣聚合物的低 表面能和低摩擦系数又使之具有突出的憎水憎油和防污性。
[0005] 含氣丙帰酸醋聚合物主要应用在外墙涂料和光纤产品,作为抗水、抗油、抗污和耐 老化涂层。


【发明内容】

[0006] 本发明要解决的技术问题是;为了解决现有的光固化反应易受氧气影响、对皮肤 眼睛刺激较大的问题,本发明提供了一种含氣光固化单体,通过对含轻基的光固化单体改 性为具有表面迁移性的含氣链段,W及氣对碳链的屏蔽保护作用,使含氣的光固化单体具 有了明显的抗氧阻聚的优点,在光固化体系中是非常明显的优势;同时氣原子的负电性强、 C-F键能高、表面能低,也赋予了含氣聚合物优异的憎水憎油和防污性。本发明提供了一种 含氣光固化单体其制备方法,反应过程简便;反应温度温和;后处理简单,并且容易纯化。
[0007] 本发明解决其技术问题所采用的技术方案是;一种含氣光固化单体,其结构式 为:

【权利要求】
1. 一种含氟光固化单体,其结构式为:
其中:η > 1,m > 3 ; R1为氢或者甲基; R2为烷烃类、芳烃类、醚类或酯类基团。
2. 如权利要求1所述的一种含氟光固化单体,其特征在于:所述R2为甲基、乙基、苯基、 甲氧基、乙氧基或醋基。
3. -种如权利要求1或2的任一项所述的含氟光固化单体的制备方法,其特征在于包 括如下步骤: 步骤1):在溶剂中将含羟基的光固化单体和金属氢化物混合,得到混合物; 步骤2):在步骤1)中的混合物中滴加氟类化合物进行反应; 步骤3):反应完成后,经提纯,得到含氟光固化单体。
4. 如权利要求3所述的一种含氟光固化单体的制备方法,其特征在于: 所述步骤1)为:在溶剂中先加入含羟基的光固化单体,在恒温0-60°C的条件下搅拌, 通入氮气,并加入金属氢化物,得混合物; 所述步骤2)为:在步骤1)中的混合物中滴加氟类化合物进行反应4-12个小时; 所述步骤3)为:反应完成后,过滤除去固体杂质,水洗、分液3次除去盐类,旋蒸除去溶 齐U、水和过量的氟类化合物,加少量溶剂和干燥剂,接着过滤和旋蒸除去剩余的溶剂、水和 氟类化合物,最后真空干燥除去溶剂、水和氟类化合物得到纯净的产物。
5. 如权利要求3或4的一种含氟光固化单体的制备方法,其特征在于:所述含羟基的 光固化单体与金属氢化物中氢的摩尔比为1:1-3。
6. 如权利要求3或4的一种含氟光固化单体的制备方法,其特征在于:所述含羟基的 光固化单体与氟类化合物的摩尔比为1:1-4。
7. 如权利要求3或4的一种含氟光固化单体的制备方法,其特征在于:所述溶剂为四 氢呋喃、乙酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸丙脂、三氯甲烷、二氯甲烷和甲苯中的一种或几种。
8. 如权利要求3或4的一种含氟光固化单体的制备方法,其特征在于:所述含羟基的 光固化单体的结构式为-
其中:n彡I ; R1为氢或者甲基; R2为烷烃类、芳烃类、醚类或酯类基团。
9.如权利要求3或4的一种含氟光固化单体的制备方法,其特征在于:所述氢化物为 NaH、CaH2、LiH 或 LiAlH4。
【文档编号】C07C69/653GK104262151SQ201410483764
【公开日】2015年1月7日 申请日期:2014年9月19日 优先权日:2014年9月19日
【发明者】彭健华, 吴勇, 刘行, 蒋卫华 申请人:广东希贵光固化材料有限公司
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