基于纳米多孔金的荧光增强基底的制备方法与流程

文档序号:12743378阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种基于纳米多孔金的荧光增强基底的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

将金银合金薄膜置于浓硝酸中进行腐蚀,得到前驱体一;

将所述前驱体一置于纯水中进行多次漂洗,得到前驱体二;

在所述前驱体二的表面利用物理气相沉积法沉积出二氧化硅薄膜,得到所述所述荧光增强基底。

2.如权利要求1所述的基于纳米多孔金的荧光增强基底的制备方法,其特征在于,所述金银合金薄膜的厚度为100nm。

3.如权利要求1或2所述的基于纳米多孔金的荧光增强基底的制备方法,其特征在于,所述金银合金薄膜中,金元素和银元素的含量分别为65%和35%。

4.如权利要求1所述的基于纳米多孔金的荧光增强基底的制备方法,其特征在于,所述浓硝酸的质量分数不低于65%。

5.如权利要求1所述的基于纳米多孔金的荧光增强基底的制备方法,其特征在于,所用纯水为去离子水或超纯水。

6.如权利要求1所述的基于纳米多孔金的荧光增强基底的制备方法,其特征在于,所述物理气相沉积法的技术参数为温度200℃,压强7*10-4Pa,蒸发速率0.3nm/s,束流190mA。

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