一种用于多孔物质电镀的装置及电镀或化学沉积的方法与流程

文档序号:12416504阅读:来源:国知局
技术总结
本发明为一种用于多孔物质电镀的装置及电镀或化学沉积的方法,通过电沉积的方法使多孔物质表面以及孔道内部具有均匀的镀层。本发明所述的电镀装置包括密闭槽、缓冲槽、电化学工作站、循环泵以及密封垫等。本发明所述方法为:对多孔物质表面使用稀碱液进行化学除油后,用纯水反复清洗干净,将其固定在所述的电镀装置中为工作电极,并在缓冲槽中放置对电极以及参比电极。打开循环泵使镀液以一定的流速流过多孔物质,稳定后施加脉冲电压进行电镀。本发明可以使得镀液流动更加均一,使得多孔物质的镀层在表面与孔道内部均匀分布。该装置与方法可以在表面以及孔道内部均匀地改变材料的导电性、耐腐蚀性、亲疏水性等表面性质。

技术研发人员:邵志刚;王志强;郭晓倩;曾亚超;秦晓平;衣宝廉
受保护的技术使用者:中国科学院大连化学物理研究所
文档号码:201510811211
技术研发日:2015.11.20
技术公布日:2017.05.31

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