信息记录介质用玻璃基板的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及信息记录介质用玻璃基板的制造方法。
【背景技术】
[0002] 在用于计算机等的信息记录介质（磁盘记录介质）中，以往以来一直使用铝基板 或玻璃基板。在这些基板上形成磁性薄膜层，利用磁头使磁性薄膜层磁化，由此在磁性薄膜 层中记录信息。
[0003] 近年来，在硬盘驱动器（HDD)装置中，记录密度愈发高密度化。因记录密度的高 密度化，信息记录介质（载体）与在信息记录介质上浮起而进行记录的读写的磁头的间隙 (浮起高度）缩小至几nm左右。
[0004] 随着浮起高度变小，在将信息记录介质用于硬盘驱动器装置中的情况下，容易发 生访问记录于介质中的数据时的读取错误和/或写入错误、及磁头与介质表面碰撞的磁头 碰撞等问题。
[0005] 因此，信息记录介质用玻璃基板所要求的清洁性非常高，例如为了可靠地去除研 磨材料、异物通过如下方式进行对应：在研磨工序后，与液体接触而容易去除附着物后进行 擦洗（只夕77''洗浄）等。
[0006] 现有技术文献
[0007] 专利文献
[0008] 专利文献1 :日本专利第4623210号
【发明内容】
[0009] 发明要解决的问题
[0010] 但是，在对应630Gbit/inch2以上的面记录密度的下一代的信息记录介质用玻璃 基板中，虽然在平滑性、清洁性方面不存在问题，但是在形成磁性薄膜层而作为信息记录介 质的情况下，产生了电磁转换特性（SNR)降低、读取精度下降这样的问题。
[0011] 对上述问题进行了彻底调查，结果可知：载体制造商为了进一步提高清洁性进行 了在磁性膜形成前利用碱性溶液对信息记录介质用玻璃基板进行清洗从而将基板上的微 小的颗粒去除这样的工序，在该工序中，玻璃成分略微溶出、表面状态发生了变化，因此之 后，利用溅射等形成磁性薄膜层时的条件发生了偏差，产生了上述问题。
[0012] 本发明是鉴于上述课题而完成的，其目的在于提供一种信息记录介质用玻璃基板 的制造方法，根据该制造方法，即使为了提高清洁性而在磁性膜形成前利用碱性溶液对信 息记录介质用玻璃基板进行清洗，也能够抑制表面状态发生变化。
[0013] 用于解决问题的手段
[0014] 本发明涉及的信息记录介质用玻璃基板的制造方法为用于信息记录介质的信息 记录介质用玻璃基板的制造方法，该信息记录介质中，在玻璃基板的主表面上形成有磁性 薄膜层，且磁性记录面中的记录密度为630Gbit/平方英寸以上。上述信息记录介质用玻璃 基板的制造方法具备下述工序：精密研磨工序，其中，利用pH为4以下的酸性的含有胶态二 氧化硅的研磨液对玻璃部件的主表面进行精密研磨；第1浸渍工序，其中，在所述精密研磨 工序后，在溶液中浸渍5分钟以上；和超声波清洗工序，其中，在所述第1浸渍工序后对所述 玻璃部件实施超声波清洗。在上述精密研磨工序中进行了精密研磨的玻璃部件的表面粗糙 度Ra在1ym2的测定范围为3.0A以下。上述第1浸渍工序的溶液的pH为6. 5以上8. 5以 下。
[0015] 优选的是，在上述超声波清洗工序后进一步具备将玻璃部件在pH6. 5以上8. 5以 下的溶液中浸渍5分钟以上的第2浸渍工序。优选的是，进一步具备下述工序：擦洗工序， 其中，在上述超声波清洗工序后对玻璃部件实施擦洗；和第3浸渍工序，其中，在擦洗工序 后在pH6. 5以上8. 5以下的溶液中浸渍5分钟以上。
[0016] 优选的是，上述溶液的pH小于6. 5时，进一步具备向溶液添加调节剂从而使pH为 6. 5以上8. 5以下的工序。优选的是，上述第1浸渍工序的溶液的pH为7以上8以下。优 选的是，所述第1浸渍工序中的浸渍时间为120分钟以下。
[0017] 发明效果
[0018] 根据本发明的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，即使为了提高清洁性而在磁 性膜形成前利用碱性溶液对信息记录介质用玻璃基板进行清洗，也可以制造能够抑制表面 状态发生变化的信息记录介质用玻璃基板。
【附图说明】
[0019] 图1是信息记录介质用玻璃基板1G的立体图。
[0020] 图2是信息记录介质的立体图。
[0021] 图3是示出玻璃基板1G和信息记录介质1的制造方法的流程图。
【具体实施方式】
[0022] 以下对本发明的实施方式和实施例进行说明。对于相同或者相当的部分标注相同 的参照标号，有时不再重复其说明。在以下说明的实施方式和实施例中，在提及个数、数量 等的情况下，除了特别说明的情况以外，本发明的范围不一定限于该个数、数量等。在以下 的实施方式中，除了特别说明的情况以外，各个构成要素对本发明不一定是必须的。
[0023] (信息记录介质1的构成）
[0024] 参照图1和图2,对信息记录介质用玻璃基板1G和信息记录介质1的结构进行说 明。图1是信息记录介质用玻璃基板1G的立体图，图2是信息记录介质的立体图。
[0025] 如图1所示，在信息记录介质1中使用的信息记录介质用玻璃基板1G(以下称作 "玻璃基板1G"）呈在中心形成有孔11的环状的圆板形状。玻璃基板1G具有外周端面12、 内周端面13、正面主表面14以及背面主表面15作为玻璃基板1G，使用了非晶质玻璃等，例 如，外径约65mm，内径约20mm，厚度约0. 8mm，表面粗糙度约2.〇A以下。
[0026] 对玻璃基板1G的英寸尺寸没有特别限定，可以制造0. 8英寸、1. 0英寸、1. 8英寸、 2. 5英寸、3. 5英寸各种玻璃基板1G作为信息记录介质用的盘片。
[0027] 出于有效应对由下落冲击导致的玻璃基板1G的破裂，玻璃基板1G的厚度优选为 0. 30mm?2. 2mm。此处所谓玻璃基板1G的厚度是指，在基板上成为点对称的任意数点处测 定的值的平均值。
[0028] 如图2所示，信息记录介质1在上述玻璃基板1G的正面主表面14上形成有磁性 薄膜层23。在图示中，仅在正面主表面14上形成磁性薄膜层23,但是，也可以在背面主表 面15上设置磁性薄膜层23。
[0029] 作为磁性薄膜层23的形成方法，可以使用现有公知的方法，例如可以举出在玻璃 基板1G上旋涂分散有磁性颗粒的热固化性树脂来形成的方法、通过溅射来形成的方法以 及通过非电镀来形成的方法。
[0030] 旋涂法得到的膜厚为约0. 3ym?1. 2ym左右，溅射法得到的膜厚为0. 04ym? 0? 08ym左右，非电镀法得到的膜厚为0? 05ym?0? 1ym左右，出于薄膜化以及高密度化的 观点，基于溅射法和非电镀法的膜形成较好。
[0031] 作为在磁性薄膜层23中使用的磁性材料，没有特别限定，可以使用现有公知的材 料，但是，为了得到高保持力，Co系合金等是合适的，Co系合金是以晶体各向异性高的Co为 基础并出于调整剩余磁通密度的目的添加Ni、Cr而成的。近年来，作为适合于热辅助记录 用的磁性层材料，使用了 FePt系的材料。
[0032] 为了改善磁头的光滑度，可以在磁性薄膜层23的表面薄薄地涂覆润滑剂。作为润 滑剂，例如可以举出用氟利昂系等的溶剂对作为液体润滑剂的全氟聚醚（PFPE)稀释而成 的润滑剂。
[0033] 根据需要，可以设置基底层、保护层。信息记录介质1中的基底层可根据磁性膜来 进行选择。作为基底层的材料，例如可以举出选自Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al、Ni等非磁性 金属中的至少一种以上的材料。
[0034] 基底层不限于单层，也可以设为层叠相同种类或不同种类的层而成的多层结构。 例如，可以设为Cr/Cr、Cr/CrMo、Cr/CrV、NiAl/Cr、NiAl/CrMo、NiAl/CrV等多层基底层。
[0035] 作为防止磁性薄膜层23的磨损、腐蚀的保护层，例如，可举出Cr层、Cr合金层、碳 层、氢化碳层、氧化锆层、二氧化硅层等。保护层可以通过内联型溅射装置，与基底层、磁性 膜等一起连续地形成。保护层可以是单层，或者由相同种类或不同种类的层构成的多层结 构。
[0036] 可以在上述保护层上形成其它保护层，或者，替代上述保护层而形成其它保护层。 例如，替代上述保护层，可以在Cr层上，在用醇系的溶剂稀释四烷氧基硅烷得到的产物中 分散胶态二氧化硅微粒进行涂覆，进一步进行烧制，形成二氧化硅（Si0 2)层。
[0037] 如上所述，信息记录介质用的玻璃基板1G在制造后被捆包材料密闭捆包并被流 通，之后从捆包材料中取出，设置磁性薄膜层23等，在即将设置磁性薄膜层23等之前，为了 去除捆包时和运输时附着的微小颗粒，或者为了消除因条件的不同导致的表面状态的不均 匀性，利用碱溶液等实施清洗处理。
[0038] 即使在实施这种碱处理的情况下，在进行将该信息记录介质用玻璃基板在40°C、 pHll的氢氧化钠溶液中浸渍30分钟的碱处理时，若为上述玻璃基板的主表面14、15的 SiOH/Si的平均值是0. 20以上0. 50以下的信息记录介质用玻璃基板，则即使在用于磁性 记录面中的记录密度为630Gbit/平方英寸以上的记录密度非常高的信息记录介质的情况 下，也能够充分抑制信噪比（S/N比）的降低。
[0039] 接着，对于玻璃基板的制造方法进行说明，根据该制造方法，即使在磁性薄膜层的 形成前实施碱处理，也能够抑制S/N比的降低。
[0040] (玻璃基板1G的制造工序）
[0041] 接下来，参照图3,对本实施方式的玻璃基板1G和信息记录介质1的制造方法进行 说明。图3是示出玻璃基板1G和信息记录介质1的制造方法的流程图。
[0042] 首先，在步骤10(以下，省略为"S10"，步骤11以后也同样）的"玻璃熔融工序"中， 使构成玻璃基板的玻璃还料恪融。
[0043] 在S11的"模压成型工序"中，通过使用了上模和下模的模压，将熔融玻璃坯料制 造成玻璃基板。所使用的玻璃组成使用了通常的铝硅酸盐玻璃。作为玻璃基板的制造方法， 不限于成型，也可以是作为公知的方法的从板状玻璃的切割等，玻璃组成也不限于此。
[0044] 在S12的"第1磨削工序（第1研削工序）"中，对玻璃基板的两主表面进行磨削 加工。该第1磨削工序是使用利用了行星齿轮机构的双面磨削装置来进行的。具体而言， 从上下方将磨削盘按压于玻璃基板的两面，向玻璃基板的主表面供给研削液，使它们相对 地移动来进行磨削加工。通过该磨削加工，得到具有大致平坦的主表面的玻璃基板。