本发明涉及光学
技术领域：
，具体而言，涉及一种发光器件的制作方法、发光器件及混合发光器件。
背景技术：
：随着科学技术的不断发展，人们对显示器画质的要求不断提升，QLED(量子点发光二极管)显示以其高的色彩纯度、色饱和度和广色域被认为是未来最具代表性的显示技术。目前QLED器件主要利用溶液法制程来制作，如喷墨打印、丝网印刷、旋涂、狭缝涂布等，由于显示的像素非常小，目前子像素的涂布一般利用喷墨打印工艺来进行选择性涂布，即在有像素隔离结构构筑的RGB子像素凹槽内，利用喷嘴依次打印R、G、B量子点墨水。由于目前蓝光QLED器件的效率较低，直接利用量子点构筑RGB显示的QLED器件还有一定难度，而传统的LED与OLED的蓝光发展较为成熟，因此可以利用量子点的RG光致结合LED或者OLED电致蓝光来实现RGB显示的方式，短期内可以较快实现。然而，在上述喷墨打印工艺中，喷嘴喷出的液滴形态非常不稳定，常常在主液滴周围能观察到很多细小的液滴，分散出来的小液滴容易偏离原来的位置，落入到邻近子像素区域中，从而导致各子像素内材料落入量不同或混色问题的产生，进而影响了发光器件最终的性能或产生色差，降低了产品的良率。技术实现要素：本发明的主要目的在于提供一种发光器件的制作方法、发光器件及混合发光器件，以解决现有技术中的发光器件由于混色而导致色差的问题。为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种发光器件的制作方法，包括以下步骤：步骤S1，将具有多个镂空部的掩模板设置于基板上；步骤S2，采用溶液法使墨水通过镂空部设置于基板的表面；步骤S3，将基板表面的墨水干燥，形成发光层或功能层。进一步地，墨水为量子点材料墨水，制作方法还包括至少重复一次步骤S1至S3的过程，各次重复过程中，所采用的掩模板的镂空部对应基板的不同区域，所采用的墨水的发光颜色也不同。进一步地，步骤S1中的掩模板具有改性表面，改性表面包括掩模板的远离基板的一侧表面，改性表面具有亲水性或疏水性；步骤S2所使用的墨水与改性表面具有不同亲疏水性。进一步地，改性表面还包括掩模板的靠近基板的一侧表面。进一步地，改性表面为疏水性表面时，制作方法还包括形成改性表面的过程：步骤S01，将掩模板浸入具有疏水性材料的溶液中，以使疏水性材料固定于掩模板的表面，优选疏水性材料为含氟的硅烷偶联剂；步骤S02，将固定有疏水性材料的掩模板与溶液分离，并对掩模板进行干燥处理，以形成具有疏水性的改性表面。进一步地，制作方法还包括对掩模板进行预处理的过程，预处理的过程包括：对掩模板的表面进行紫外线臭氧光解氧化，以使掩膜板的亲水性表面完全裸露。进一步地，步骤S1中的基板具有像素隔离结构，且像素隔离结构具有多个相互隔离的子像素区域，镂空部对应各子像素区域设置；步骤S2使墨水通过镂空部进入对应的子像素区域中。进一步地，步骤S1中的基板的表面具有亲水区域和疏水区域，镂空部对应亲水区域或疏水区域设置；步骤S2使疏水性的墨水通过镂空部进入疏水区域中，或使亲水性的墨水通过镂空部进入亲水区域中。进一步地，墨水为空穴注入材料墨水、空穴传输材料墨水、电子注入材料墨水和电子传输层材料墨水中的任一种，在步骤S3中，将墨水干燥，以形成对应的空穴注入层、空穴传输层、电子注入层或电子传输层；或墨水为量子点材料墨水或有机发光材料墨水，在步骤S3中，将墨水干燥，以形成对应的量子点发光层或有机发光层。进一步地，步骤S2中采用喷涂工艺或喷墨打印工艺以使墨水通过镂空部设置于基板的表面，喷涂工艺优选为超声喷涂。根据本发明的另一方面，提供了一种发光器件，发光器件由上述制作方法制备而成，发光器件为电致发光器件或光致发光器件。根据本发明的另一方面，还提供了一种混合发光器件，发光器件包括电致发光器件以及设置于电致发光器件出光侧的光致发光器件，电致发光器件和/或光致发光器件为制作方法制备而成。应用本发明的技术方案，提供了一种发光器件的制作方法，由于该制作方法是通过将具有多个镂空部的掩模板设置于基板上，再采用溶液法使墨水通过镂空部设置于基板的表面，然后将基板表面的墨水干燥，形成发光层或功能层，从而利用掩模板阻挡了墨水向其他颜色区域的分散，有效地避免了混色问题的产生，提高了发光器件的色彩精确度。除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本发明作进一步详细的说明。附图说明构成本发明的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：图1示出了本发明实施方式所提供的发光器件的制作方法的流程示意图。具体实施方式需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。为了使本
技术领域：
的人员更好地理解本发明方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。需要说明的是，本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。正如
背景技术：
中所介绍的，现有喷墨打印工艺中由于喷嘴喷出后墨水液滴分散，分散出来的小液滴容易偏离原来的位置，落入其他颜色的区域中，从而导致混色问题的产生，进而影响了发光器件最终的颜色而产生色差。本申请的发明人针对上述问题进行研究，提出了一种发光器件的制作方法，如图1所示，包括以下步骤：步骤S1，将具有多个镂空部的掩模板设置于基板上；步骤S2，采用溶液法使墨水通过镂空部设置于基板的表面；步骤S3，将基板表面的墨水干燥，形成发光层或功能层。本发明的上述制作方法，通过将具有多个镂空部的掩模板设置于基板上，并使镂空部对应基板上的目标区域，基板上的非目标区域可以对应掩模板的镂空部也可以对应掩模板的非镂空部，再采用溶液法使墨水通过镂空部设置于基板的表面，然后将基板表面的墨水干燥，形成发光层或功能层，从而利用掩模板阻挡了墨水向其他颜色区域的分散，尤其是量子点墨水向其他邻近区域扩散，有效地避免了混色问题的产生，提高了发光器件的色彩精确度。下面将更详细地描述根据本发明提供的发光器件的制作方法的示例性实施方式。然而，这些示例性实施方式可以由多种不同的形式来实施，并且不应当被解释为只限于这里所阐述的实施方式。应当理解的是，提供这些实施方式是为了使得本申请的公开彻底且完整，并且将这些示例性实施方式的构思充分传达给本领域普通技术人员。本申请中的墨水可以为空穴注入材料墨水、空穴传输材料墨水、电子注入材料墨水和电子传输层材料墨水中的任一种，在步骤S3中，将墨水干燥，以形成对应的空穴注入层、空穴传输层、电子注入层或电子传输层；或墨水为量子点材料墨水或有机发光材料墨水，在步骤S3中，将墨水干燥，以形成对应的量子点发光层或有机发光层。并且，为了使发光器件能够具有各种颜色的出射光，优选上述量子点材料墨水中的量子点独立地选自红色量子点、蓝色量子点和绿色量子点中的任一种。当上述墨水为量子点材料墨水时，在执行步骤S3之后，制作方法还可以包括至少重复一次步骤S1至S3的过程，各次重复过程中，所采用的掩模板的镂空部对应基板的不同区域，所采用的墨水的发光颜色也不同。通过在基板的目标区域上设置不同发光颜色的量子点材料墨水并干燥，以调整发光器件最终的发光颜色；并且，通过在基板表面的不同位置上设置红色量子点和绿色量子点，在蓝色背光的照射下，该发光器件能实现红色和绿色的光致发光，从而实现RGB的全彩显示。并且，根据材料种类的不同，上述墨水可以分为亲水性墨水和疏水性墨水。其中，当上述量子点材料墨水为亲水性墨水时，上述亲水性墨水包括亲水性量子点，且亲水性量子点为表面配体含亲水基团的量子点，优选亲水基团为羧基、氨基、羟基或巯基；当上述量子点材料墨水为疏水性墨水时，上述疏水性墨水包括疏水性量子点，且疏水性量子点为表面配体含疏水基团的量子点，优选疏水基团为烷烃链或酯基。上述具有亲水性或疏水性的量子点材料墨水还可以包括可固化树脂或其单体以及溶剂(或称作分散剂)。其中，溶剂可以选自沸点为40～250℃之间的长链烃、醇、酯和醚的混合物作为有机溶剂。优选地，烃为直链或支链烷烃，例如，烃为C6-10烷烃。有机溶剂可以为氯苯、邻二氯苯、四氢呋喃、苯甲醚、吗啉、甲苯、邻二甲苯、间二甲苯、对二甲苯、烷基苯、硝基苯、正己烷、环己烷、正庚烷、环庚烷、二氧六环、二氯甲烷、三氯甲烷、二氯乙烷、氯仿、氯苯、1,4二氧杂环己烷、1,2二氯乙烷、1,1,1-三氯乙烷、1,1,2,2-四氯乙烷、四氢萘、萘烷、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜氯仿、四氢呋喃、二氯甲烷、甲苯、正己烷、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、丙酮、二氧六环、二甲基甲酰胺和二甲基亚砜。其中，可固化树脂选自环氧树脂、丙烯酸树脂、有机硅树脂，或者对应的单体交联形成可固化树脂。上述亲水性和疏水性量子点墨水中还可以包括带双键的交联剂，光固化剂或热固化剂等。在一种优选的实施方式中，步骤S1中的掩模板具有改性表面，改性表面包括掩模板的远离基板的一侧表面，改性表面具有亲水性或疏水性；步骤S2所使用的墨水与改性表面具有不同亲疏水性。通过使疏水性墨水通过具有亲水性改性表面的掩模板的镂空部设置于基板上的对应位置，或使亲水性墨水通过具有疏水性改性表面的掩模板的镂空部设置于基板上的对应位置，能够使墨水不会粘附在掩模板上，从而提高了材料的导向性，进而不仅能够利用溶液法中的喷涂工艺来制作像素，还能够利用精度较低的喷墨打印设备来制作像素，降低了采用精密喷墨打印设备所需的成本。在上述优选的实施方式中，为了利用掩模板进一步提高材料的导向性，更为优选地，改性表面还包括掩模板的靠近基板的一侧表面。通过使掩膜板的靠近基板的一侧也具有改性表面，且改性表面与墨水具有不同亲疏水性，能够使具有亲水性或疏水性的墨水在从镂空部通过时不会粘附在靠近基板的一侧表面上。现有技术一般采用金属材料或其他亲水性耐紫外老化的材料制备掩模板。由于金属表面的氧化层与水能很好的亲和，从而能够使大部分金属表面都是亲水的，进而能够使疏水性墨水能够通过上述掩模板的镂空部设置于基板上的对应位置，而不会粘附在表面改性掩模板上，进而提高了疏水性材料的导向性。为了得到具有疏水性改性表面的掩膜板，优选地，上述制作方法还包括在掩模板上形成改性表面的过程：步骤S01，将掩模板浸入具有疏水性材料的溶液中，以使疏水性材料固定于掩模板的表面；步骤S02，将固定有疏水性材料的掩模板与溶液分离，并对掩模板进行干燥处理，以形成具有疏水性的改性表面。通过上述优选的实施方式能够使亲水性墨水通过上述掩模板的镂空部设置于基板上的对应位置，而不会粘附在表面改性掩模板上，进而提高了亲水性材料的导向性。为了使制备而成的掩模板具有更好的疏水性，优选疏水性材料为含氟的硅烷偶联剂。此外，为了充分利用掩膜板的亲水性，优选地，形成改性表面的过程包括：对掩膜板表面进行紫外线臭氧光解氧化，以形成具有亲水性的改性表面。通过对掩膜板表面进行紫外线臭氧光解氧化，以将掩膜板表面残留的各种油污、化学物质去除露出亲水性的金属表面，从而得到具有亲水性改性表面的掩膜板。上述紫外线臭氧光解氧化的工艺条件本领域技术人员可以根据现有技术进行设定。由于采用了具有改性表面的掩模板或掩模板的表面完全裸露，因此上述步骤S2中可以采用喷涂工艺或喷墨打印工艺以使墨水通过镂空部设置于基板的表面。优选上述亲水性墨水或疏水性墨水的粘度≤50cps，以保证设备喷头能很好的控制墨水出液；并且，为了保证喷头能有效的将墨水雾化开，优选地，上述喷涂工艺为超声喷涂，而为了提高优选亲水性墨水或疏水性墨水的喷涂效果，优选超声喷涂采用的超声频率为45kHz～180kHz，优选亲水性墨水或疏水性墨水的粘度≤10cps。在一种优选的实施方式中，步骤S1中的基板具有像素隔离结构，且像素隔离结构具有多个相互隔离的子像素区域，镂空部对应各子像素区域设置；步骤S2使墨水通过镂空部进入对应的子像素区域中。上述像素隔离结构能够有效地防止不同子像素区域间的墨水混色，提高了色彩精准性。为了降低由于大面积制备发光器件时掩模板形变而导致墨水落入对应子像素区的量或位置发生偏差从而对色彩精准性带来的影响，上述掩模板可以与基板的具有像素隔离结构的一侧表面接触设置；并且，为了使亲水性墨水或疏水性墨水通过掩模板的镂空部更准确地进入像素隔离结构的子像素区域中，优选地，上述镂空部的面积小于等于对应的子像素区域的面积，更为优选地，镂空部与对应的子像素区域的形状一致。更为优选地，像素隔离结构的裸露表面包括亲水性表面或疏水性表面。当上述像素隔离结构的裸露表面为亲水性表面时，在步骤S2中，使疏水性墨水通过镂空部设置于基板的表面；当上述像素隔离结构的裸露表面为疏水性表面时，在步骤S2中，在使亲水性墨水通过镂空部设置于基板的表面，从而通过使上述像素隔离结构的表面与墨水具有不同的亲疏水性，在形成发光层或功能层的步骤中能够使墨水不会残留在像素隔离结构的上表面或者侧壁，而是在重力作用下回流到像素区域中，进而有效地防止相邻像素区域之间的混色。当采用本发明的上述制作方法制作光致发光器件时，在另一种优选的实施方式中，步骤S1中的基板的表面具有亲水区域和疏水区域，镂空部对应亲水区域或疏水区域设置；步骤S2使疏水性的墨水通过镂空部进入疏水区域中，或使亲水性的墨水通过镂空部进入亲水区域中。上述亲水区域和疏水区域能够使透光基板的表面上形成多个被分隔开的子像素区域，使亲水性量子点墨水进入亲水区域，疏水区域作为隔离结构，或使疏水性的量子点墨水进入疏水区域，亲水区域作为隔离结构，从而有效地防止了不同子像素区域间的量子点墨水混色，提高了色彩精准性；并且，相比在透明基板上设置像素隔离结构的制作方法，上述优选的实施方式不仅能够同样地使墨水注入所需的子像素区域，同时还降低了光致发光器件的制作成本。更为优选地，在基板的表面上形成多个亲水区域和多个疏水区域，且各亲水区域和各疏水区域交替排列。采用上述优选的实施方式同样能够在透光基板的表面上形成多个相互隔离的子像素区域，从而通过将不同颜色的量子点墨水分别进入到不同的子像素区域中，使上述量子点在蓝色背光的照射下能够形成发光阵列，进而制得光致发光器件实现RGB的全彩显示。在上述优选的实施方式中，为了使亲水性墨水或疏水性墨水通过掩模板的镂空部更准确地进入基板的亲水性或疏水性子像素区域中，更为优选地，掩模板的镂空部的面积小于等于对应的亲水区域或疏水区域的面积；掩模板的镂空部与对应的亲水区域或疏水区域的形状一致。上述具有亲水区域和疏水区域的基板的制备方法可以包括以下步骤：步骤S001，在基板的表面设置包括第一反应原料的原料；步骤S002，遮盖位于第一区域的第一反应原料，并对位于第二区域的第一反应原料进行紫外光照射，第一反应原料在第二区域形成第二遮盖区域；步骤S003，去除第一区域的第一反应原料，在第一区域和第二遮盖区域上设置第二反应原料；步骤S004，遮盖位于第二遮盖区域的第二反应原料，并对位于第一区域的第二反应原料进行紫外光照射，第二反应原料在第一区域形成第一遮盖区域，然后去除第二遮盖区域上的第二反应原料，其中，第一反应原料和第二反应原料选择亲水性反应物和疏水性反应物，且二者的亲疏性能相反，第一遮盖区域和第二遮盖区域对应亲水区域和疏水区域。在上述基板的制备方法中，上述包括第一反应原料的原料还可以包括溶剂、偶联剂和引发剂。此时，上述步骤S001包括以下过程：A、将偶联剂和引发剂在溶剂中混合，形成基板处理液；B、将基板的至少一侧表面放置于基板处理液中，使偶联剂键合固定在透光基板的表面上并形成键合表面；C、将第一反应原料设置于键合表面。在上述步骤S002中，通过对位于第二区域的第一反应原料进行紫外光照射，以使第一反应原料与偶联剂在紫外照射下进行接枝反应，从而形成上述第二遮盖区域；在上述步骤S004中，通过对位于第一区域的第二反应原料进行紫外光照射，以使第二反应原料与偶联剂在紫外照射下进行接枝反应，从而形成上述第一遮盖区域。在上述基板的制备方法中，去除第一区域的第一反应原料的过程可以包括：用溶剂洗去第一区域上的第一反应原料，然后对基板的表面进行干燥处理；同样地，去除第二遮盖区域上的第二反应原料的过程包括：用溶剂洗去第二遮盖区域上的第二反应原料，然后对基板的表面进行干燥处理。本领域技术人员可以根据现有技术上述清洗工艺和干燥处理的工艺条件进行设定。为了使第一反应原料与偶联剂之间以及第二反应原料与偶联剂更好地进行接枝反应，优选地，上述偶联剂的通式为(X1-X2-X3-)Si-Y，其中，Y为带有乙烯基的基团或末端带SH基的烃基，X1、X2和X3分别独立地选自Cl、CH3、OCH3、OCH2CH3和CH2CH3中的任一种，且X1、X2和X3不同时为烃基；上述第一反应原料和第二反应原料的通式为A-B，其中，A为带有乙烯基的基团，此时Y为末端带SH基的烃基，或A为末端带SH基的烃基，此时Y为带有乙烯基的基团，B为带亲水基团的残基，此时第一反应原料或第二反应原料为亲水性反应物，优选亲水基团为磺酸基、胺基、羟基、羧基和氨基中的任一种或多种，或B为带疏水基团的残基，此时第一反应原料或第二反应原料为疏水性反应物，优选亲水基团为烃基、酯基、卤素和硝基中的任一种或多种。本发明的上述制作方法也可以用来制作电致发光器件的发光层或功能层中的任一层或多层，此时，上述基板为第一电极基板，并且，当在上述步骤S3中形成发光层时，优选地，在步骤S3之后，制作方法还包括步骤S4：在发光层的远离第一电极基板的一侧设置第二电极。采用上述优选的实施方式能够形成结构为第一电极基板/发光层/第二电极的电致发光器件；当在步骤S3中形成功能层时，优选地，在步骤S3之后，制作方法还包括步骤S4：功能层为第一注入层或第一传输层，在第一注入层或第一传输层的远离第一电极基板的一侧设置发光层，并在发光层的远离第一电极基板的一侧设置第二电极。采用上述优选的实施方式能够形成具有功能层的电致发光器件。在上述优选的实施方式中，当在步骤S3中形成的功能层为第一注入层时，更为优选地，在步骤S4中，制作方法还包括以下过程：在设置发光层的过程之前，重复步骤S1至S3，以在第一注入层的表面设置第一传输层；在设置发光层的过程之后，重复步骤S1至S3，以在发光层的表面设置第二传输层；以及在设置发光层的过程之后，重复步骤S1至S3，以在第二传输层的表面设置第二注入层。采用上述优选的实施方式能够形成结构为第一电极基板/第一注入层/第一传输层/发光层/第二传输层/第二注入层/第二电极的电致发光器件。在上述电致发光器件中，当第一电极为阳极时，第二电极为阴极时，第一注入层为空穴注入层，第一传输层为空穴传输层，第二注入层为电子注入层，第二传输层为电子传输层；而当第一电极为阴极，第二电极为阳极时，第一注入层为电子注入层，第一传输层为电子传输层，第二注入层为空穴注入层，第二传输层为空穴传输层，以形成反型电致发光器件。但是需要注意的是，电致发光器件中各层的制备工艺并不局限于上述优选的实施方式，本领域技术人员可以结合现有技术中的常规工艺制备电致发光器件的其它各层。根据本申请的另一个方面，还提供了一种由上述制作方法制备而成的发光器件，所述发光器件为电致发光器件或光致发光器件。由于上述电致发光器件和/或上述光致发光器件是通过上述制作方法制备而成的，且该制作方法是通过将具有多个镂空部的掩模板设置于基板上，再采用溶液法使墨水通过镂空部设置于基板的表面，然后将基板表面的墨水干燥，形成发光层或功能层，从而利用掩模板阻挡了墨水向其他颜色区域的分散，有效地避免了混色问题的产生，提高了具有电致发光器件和/或光致发光器件的发光器件的色彩精确度。根据本申请的再一个方面，还提供了一种混合发光器件，该混合发光器件包括电致发光器件以及设置于电致发光器件出光侧的光致发光器件，电致发光器件和/或光致发光器件为上述的制作方法制备而成。由于上述混合发光器件中的电致发光器件和/或光致发光器件是通过上述发光器件的制作方法制备而成的，该制作方法是通过将具有多个镂空部的掩模板设置于基板上，再采用溶液法使墨水通过镂空部设置于基板的表面，然后将基板表面的墨水干燥，形成发光层或功能层，从而利用掩模板阻挡了墨水向其他颜色区域的分散，有效地避免了混色问题的产生，提高了具有电致发光器件和/或光致发光器件的混合发光器件的色彩精确度。下面将结合实施例进一步说明本发明提供的发光器件及其制作方法。实施例1本实施例提供的具有表面改性的掩模板的制作方法的步骤包括：步骤S01，将由镍合金制备而成的掩模板浸入具有疏水性材料的溶液中，上述疏水性材料为十七氟癸基三甲氧基硅烷，以使疏水性材料固定于掩模板的表面；步骤S02，将固定有疏水性材料的掩模板与溶液分离，并将掩模板干燥，得到具有疏水性的表面改性掩模板。实施例2本实施例提供的表面具有亲水区域和疏水区域的基板的制作方法的步骤包括：将偶联剂和引发剂在溶剂中混合，形成基板处理液，将透光基板的一侧表面放置于基板处理液中，使偶联剂键合固定在透光基板的表面上并形成键合表面，将第一反应原料设置于键合表面上，遮盖位于第一区域的第一反应原料，并对位于第二区域的第一反应原料进行紫外照射，以使第一反应原料与偶联剂在紫外照射下进行接枝反应，从而形成疏水区域，去除第一区域的第一反应原料，在第一区域和第二遮盖区域上设置第二反应原料，遮盖位于第二遮盖区域的第二反应原料，并对位于第一区域的第二反应原料进行紫外照射，以使第二反应原料与偶联剂在紫外照射下进行接枝反应，从而形成亲水区域，进而得到表面改性基板；其中，透光基板为玻璃，偶联剂为氯(二甲基)乙烯基硅烷，引发剂为4-二甲基吡啶，第一反应原料1H,1H,2H,2H-全氟癸硫醇，第二反应原料巯基乙胺，疏水性的第二区域对应两组96×64的微阵列图案。实施例3本实施例提供的电致发光器件的制作方法包括以下步骤：步骤S1，提供具有像素隔离结构的第一电极基板，像素隔离结构具有96×64个相互隔离的子像素区域，第一电极基板为有阳极层的基板，且阳极层为ITO阳极；步骤S2，将实施例1中提供的表面改性掩模板设置于第一电极基板的具有像素隔离结构的一侧，掩模板的镂空部与子像素区域对应；步骤S3，采用喷墨打印(型号为DimatixMaterialsPrinterDMP-2831)工艺使作为空穴注入层墨水的PEDOT:PSS的水溶液通过镂空部进入对应的子像素区域中；步骤S4，将子像素区域中的空穴注入层墨水干燥，形成空穴注入层；步骤S5，再次执行步骤S2至S4，在上述重复过程的步骤S2中，采用由镍合金制备而成的掩模板，在上述重复过程的步骤S3中采用空穴传输层墨水，且空穴传输层墨水为聚(9-乙烯基)咔唑(PVK)的甲苯溶液，以在步骤S4中形成空穴传输层；步骤S6，再次执行步骤S2至S4，在上述重复过程的步骤S2中，采用由镍合金制备而成的掩模板，在上述重复过程的步骤S3中采用绿色量子点材料墨水，且量子点材料墨水为CdSe/CdS的癸烷溶液，以在步骤S4中形成绿色量子点发光区域；步骤S7，再次执行步骤S2至S4，在上述重复过程的步骤S2中，采用由镍合金制备而成的掩模板，在上述重复过程的步骤S3中采用红色量子点材料墨水，且量子点材料墨水为CdSe/ZnS的癸烷溶液，以在步骤S4中形成红色量子点发光区域；步骤S8，再次执行步骤S2至S4，在上述重复过程的步骤S2中，采用实施例1中提供的表面改性掩模板，在上述重复过程的步骤S3中采用电子传输层墨水和电子注入层墨水，且电子传输层墨水和电子注入层墨水为ZnO的丁醇溶液，以在步骤S4中形成电子传输及注入层；步骤S9，在电子注入层的远离第一电极基板的一侧蒸镀第二电极，形成阴极层的材料为Ag。实施例4本实施例提供的制作方法与实施例3的区别在于：分别采用超声喷涂使电子传输及注入层墨水、量子点材料墨水、空穴传输层墨水和空穴注入层墨水分别进入子像素区域中，上述超声喷涂工艺中的超声频率为120kHz。实施例5本实施例提供的制作方法与实施例4的区别在于：超声喷涂工艺中的超声频率为180kHz。实施例6本实施例提供的制作方法与实施例4的区别在于：超声喷涂工艺中的超声频率为45kHz。实施例7本实施例提供的制作方法与实施例4的区别在于：超声喷涂工艺中的超声频率为90kHz。实施例8本实施例提供的光致发光器件的制作方法包括以下步骤：步骤S1，将由镍合金制备而成的掩模板设置于实施例2中表面改性基板的表面上，掩模板的96×64个镂空部与疏水区域的其中一组96×64个微阵列图案对应；步骤S2，采用喷墨打印(型号为DimatixMaterialsPrinterDMP-2831)工艺使疏水性的红色量子点墨水通过镂空部进入疏水区域中；步骤S3，将疏水区域中的量子点墨水干燥；步骤S4，将上述掩模板设置于上述表面改性掩模板的表面上，掩模板的96×64个镂空部与疏水区域的另一组96×64个微阵列图案对应；步骤S5，采用喷墨打印(型号为DimatixMaterialsPrinterDMP-2831)工艺使疏水性的绿色量子点墨水通过镂空部进入疏水区域中；步骤S3，将疏水区域中的量子点墨水干燥，其中，红色与绿色量子点墨水的粘度均为15cps，红色量子点材料为CdSe/ZnS，绿色量子点材料为CdSe/CdS，两者表面的疏水配体都为油酸。实施例9本实施例提供的制作方法与实施例8的区别在于：喷墨打印采用的红色和绿色量子点墨水的粘度为5cps。实施例10本实施例提供的制作方法与实施例8的区别在于：采用超声喷涂使疏水性的红色量子点墨水和绿色量子点墨水通过镂空部进入疏水区域中，上述超声喷涂工艺中的超声频率为120kHz。对比例1本对比例提供的电致发光器件的制作方法的步骤包括：步骤S1，提供具有像素隔离结构的第一电极基板，像素隔离结构具有96×64个相互隔离的子像素区域，第一电极基板为有阳极层的基板；步骤S2，采用喷墨打印(型号为DimatixMaterialsPrinterDMP-2831)使空穴注入层墨水进入子像素区域中；步骤S3，将子像素区域中的空穴注入层墨水干燥，形成空穴注入层；步骤S4，重复步骤S2至S3，在上述重复过程的步骤S3中分别采用空穴传输层墨水、量子点材料墨水、电子传输层墨水，以在步骤S4中顺序形成空穴传输层、发光层、电子传输层；步骤S6，在电子传输层的远离第一电极基板的一侧设置第二电极，其中，电子注入层墨水、电子传输层墨水、量子点材料墨水、空穴传输层墨水和空穴注入层墨水与实施例3相同。对比例2本对比例提供的光致发光器件的制作方法的步骤包括：步骤S1，在透光基板的第一表面上涂覆光刻胶，然后依次进行曝光和显影，以形成像素隔离结构，像素隔离结构具有两组96×64个相互隔离的子像素区域，且像素隔离结构的裸露表面为亲水性表面，像素隔离结构中隔离基体的相邻侧壁与基板垂直，相邻的侧壁之间的隔离基体为隔离条，且隔离条的远离基板的一侧表面为平面；步骤S1，在有像素隔离结构的透光基板上旋涂红色量子点材料，然后对设置有红色量子点材料的透光基板依次进行烘烤处理、曝光处理、显影处理和干燥处理，得到96×64个红色量子点阵列；步骤S2，在上述基板上旋涂绿色量子点材料，然后对设置有绿色量子点材料的透光基板依次进行烘烤处理、曝光处理、显影处理和干燥处理，得到96×64个绿色量子点阵列，其中，透光基板为玻璃，形成上述裸露表面的材料为聚酰亚胺，红色量子点材料墨水包括CdSe/ZnS，绿色量子点材料包括CdSe/CdS，量子点材料墨水的粘度为15cps。对上述实施例3至7和对比例1中电致发光器件进行通电实验，控制电路只让红色子像素或者绿色子像素单独发光，并用光谱扫描式亮度计(PR670)在电致发光器件上均匀选取各两个位置来测试其色坐标，测试结果如表1所示。表1通过上述测试结果可以明显看出，上述实施例3至7中采用普通喷墨打印与掩膜板结合或超声喷涂与掩模板结合的制作工艺得到的电致发光器件，色坐标的一致性较好；而上述对比例1中仅采用普通喷墨打印的制作工艺得到的电致发光器件，色坐标的变化非常大，且从色坐标的值上可以看出有明显的混色现象。并且，分别将上述实施例8至10和对比例2中的光致发光器件施加密封保护层后，设置于蓝色电致发光器件(BOLED)的出光侧，控制电路只让红色子像素或者绿色子像素相对应的蓝色背光单独发光，在蓝光的激发下，相应的红色量子点或者绿色量子点光致发光，用光谱扫描式亮度计(PR670)在出光面上均匀选取两个位置来测试其色坐标，测试结果如表2所示。表2实施例R1(x，y)R2(x，y)G1(x，y)G2(x，y)实施例80.6755，0.32190.6752，0.32250.1898，0.74540.1878，0.7424实施例90.6751，0.32200.6751，0.32250.1870，0.74730.1904，0.7427实施例100.6745，0.32220.6755，0.32140.1941，0.74290.1936，0.7425对比例20.6748，0.32250.6754，0.32300.1895，0.74470.1889，0.7456通过上述测试结果可以明显看出，采用普通喷墨打印与掩膜板结合或超声喷涂与掩模板结合的制作工艺得到的光致发光器件，色坐标的一致性较好，与上述对比例2中利用常规的曝光显影制备得到的光致发光器件相当，但降低了制备的成本。从以上的描述中，可以看出，本发明上述的实施例实现了如下技术效果：1、采用掩膜板与溶液法结合的技术方案形成发光层或功能层，利用掩模板阻挡了墨水向其他颜色区域的分散，有效地避免了混色问题的产生，提高了发光器件的色彩精确度；2、通过将像素隔离结构和掩模板相结合，不仅能够利用溶液法中的喷涂工艺来制作像素，还能够利用精度较低的喷墨打印设备来制作像素，从而降低了采用精密喷墨打印设备所需的成本；3、利用具有改性表面的掩模板能够使具有不同亲疏水性的墨水精确地进入到对应的子像素区域中，并利用像素隔离结构防止不同子像素区域间的墨水混色，由于掩膜板是放置于像素隔离结构上端使用的，制作大面积面板时，镂空部周围由于有像素隔离结构的支撑而不易形变，从而有效地解决了不同子像素区域内墨水注入量不同或注入偏差而造成的色差或是其他性能问题；4、通过透光基板上的亲水区域和疏水区域在透光基板的表面形成多个被分隔开的子像素区域，使亲水性量子点墨水进入亲水区域，疏水区域作为隔离结构，或使疏水性的量子点墨水进入疏水区域，亲水区域作为隔离结构，从而有效地防止了不同子像素区域间的量子点墨水混色，进而也有效地解决了不同子像素区域内量子点墨水混色而降低色彩精准性的问题；5、相比在透明基板上设置像素隔离结构的制作方法，本申请的上述制作方法不仅能够同样地使墨水注入所需的子像素区域，同时还降低了量子点膜的制作成本。以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。当前第1页1 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