气相沉积工艺(Physical vapor deposit1n ;PVD)，即用于显示器市场的大面积基板上的溅镀沉积。根据一些实施例，大面积基板或具有多个大面积基板的各自的载体可具有至少0.67平方米的尺寸。典型地，此尺寸可为约0.67平方米(0.73米X 0.92米-第4.5代)至约8平方米的尺寸，更典型地是约2至约9平方米，或者甚至是高达12平方米。典型地，提供用于本文所描述的实施例所述的结构、装置(例如是阴极组件)以及方法的基板或载板，如本文中所述是大面积基板。举例来说，大面积的基板或载板可以是第4.5代，对应的基板尺寸为大约0.67平方米(0.73米X 0.92米)；第5代，对应的基板尺寸为大约1.4平方米(1.1米X 1.3米)；第7.5代，对应的基板尺寸为大约4.29平方米(1.95米X 2.2米)；第8.5代，对应的基板尺寸为大约5.7平方米(2.2米X 2.5米)；或者甚至第10代，对应的基板尺寸为大约8.7平方米(2.85米X 3.05米)。可类似地实施甚至更大的例如第11代及第12代及对应的基板面积。
[0054]鉴于上述内容，描述多个实施例，其中在阴极阵列的至少一对邻近的阴极中，磁铁组件在极性方面在阴极之间交替，即，外磁铁和内磁铁在一个阴极中形成N-S-N极性布置并在邻近的阴极中形成S-N-S极性布置。如图6所示，也可在磁铁组件之间提供可类似的交替，例如针对一个阴极具有多于一个的磁铁组件的情况。
[0055]进一步地，可提供多个任选的修改，可以除彼此之外或替代彼此的方式提供所述修改。根据另外的实施例，至少两个磁铁组件为邻近的磁铁组件。根据另一实施例，至少两个磁铁组件中的每一者的剖面具有两个外磁极性及一个内磁极性，其中内磁极性不同于外磁极性。根据另外的实施例，装置包括至少三个磁铁组件。较优地，装置包括至少五个磁铁组件。根据另外的实施例，磁铁组件群组中的至少两个邻近的磁铁组件的相邻的外磁极性具有相同的磁极性。根据另外的实施例，具有磁极性相同的相邻的外磁极性的至少两个邻近的磁铁组件与至少一个磁铁组件交替，所述至少一个磁铁组件的外磁极性与所述两个邻近的磁铁组件的所述相邻外磁极性不同。根据另外的实施例，磁铁组件的外磁极性在磁铁组件之间交替。根据另一实施例，磁铁组件对应于一或多个阴极。根据另外的实施例，每个阴极对应于磁铁组件中的一者。根据另外的实施例，两个相邻阴极之间的距离使得此两个相邻阴极彼此互相作用。较优地，两个相邻的阴极之间的距离小于500mm。更优地，两个相邻的阴极之间的距离在300mm与400mm之间。甚至更优地，两个相邻的阴极之间的距离在235mm与250mm之间。根据另一实施例，阴极是平面式阴极。较优地，装置包括一个单一平面式阴极。根据沉积系统的另一实施例，装置包括具有纵轴的可旋转阴极。这些纵轴平行设置。根据沉积系统的另外的实施例，此系统用以涂布溅镀材料层于基板上。
[0056]尽管上述内容是针对本发明的实施例，但是可设计出本发明的其它和进一步实施例而不背离本发明的基本范围，且本发明的范围由以下权利要求书确定。
【主权项】
1.一种用以涂布溅镀材料层于基板(12)上的装置(10 ;166 ;224)，所述装置(10 ;166 ;224)包括: 至少两个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)，其中每个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)具有外磁极性(64、68、76、78、84、86、92、94、100、102、108、110)及内磁极性(66、80、88、96、104、112)； 其中所述至少两个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)中的一者的所述外磁极性不同于所述至少两个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)中的另一者的相邻的外磁极性。
2.如权利要求1所述的装置，其中所述至少两个磁铁组件出0、74、82、90、98、106)是邻近的磁铁组件(60、74、82、90、98、106)。
3.如权利要求1至2中任一项项所述的装置，其中所述至少两个磁铁组件(60、74、82、90,98,106)中的每一者的剖面具有两个外磁极性(64、68、76、78、84、86、92、94、100、102、108、110)和一个内磁极性(66、80、88、96、104、112)，其中所述内磁极性不同于所述外磁极性。
4.如权利要求1至3中任一项所述的装置，其中所述装置(10；166 ；224)包括至少三个、较优地至少五个磁铁组件出0、74、82、90、98、106)。
5.如权利要求4所述的装置，其中磁铁组件的群组中的至少两个邻近的磁铁组件的相邻的外磁极性具有相同的磁极性。
6.如权利要求5项所述的装置，其中具有磁极性相同的相邻的外磁极性的至少两个邻近的磁铁组件与至少一个磁铁组件交替，所述至少一个磁铁组件的外磁极性与所述至少两个邻近的磁铁组件的所述相邻的外磁极性不同。
7.如权利要求1至4中任一项所述的装置，其中所述磁铁组件(60、74、82、90、98、106；216,218,220)的所述外磁极性在磁铁组件(60、74、82、90、98、106 ;216、218、220)之间交替。
8.如权利要求1至7项中任一项所述的装置，其中所述磁铁组件(60、74、82、90、98、106 ;216、218、220)对应于一或多个阴极(16、18、20、22、24、26 ；222)。
9.如权利要求8所述的装置，其中所述阴极(16、18、20、22、24、26)为可旋转阴极。
10.如权利要求8至9中任一项所述的装置，其中每个阴极(16、18、20、22、24、26；222)对应于所述磁铁组件(60、74、82、90、98、106 ;216、218、220)的一者。
11.如权利要求8至10中任一项所述的装置，其中两个相邻阴极(16、18、20、22、24、26)之间的距离(246)是使得所述两个相邻阴极(16、18、20、22、24、26)彼此互相作用的距离，较优地两个相邻阴极之间的所述距离小于500mm，更优地介于300mm与400mm之间，甚至更优地介于235mm与250mm之间。
12.如权利要求8所述的装置，其中所述阴极为平面式阴极(222)，较优地所述装置(224)包括一个单一平面式阴极。
13.一种沉积系统(14)，所述沉积系统包括:如权利要求1至12中任一项所述的装置(10 ；166 ；224);以及用以容置所述装置(10 ；166 ；224)的处理室(42)。
14.如权利要求13所述的沉积系统，其中所述装置为如权利要求8至11中任一项所述的装置(10 ；166 ;224)，且其中所述阴极(16、18、20、22、24、26)具有彼此平行设置的纵轴(114、116、118、120、122、124)。
15.如权利要求13至14中任一项所述的沉积系统，其中所述系统是用以涂布溅镀材料层于基板(12)上的系统(14) ο
【专利摘要】本发明描述了一种用以涂布溅镀材料层于基板(12)上的装置(10；166；224)。所述装置(10；166；224)包括至少两个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)，其中每个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)具有外磁极性及内磁极性。所述至少两个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)中的一者的外磁极性不同于所述至少两个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)中的另一者的相邻的外磁极性。并且，本发明描述了一种沉积系统(14)，所述沉积系统包括所述装置(10；166；224)。
【IPC分类】C23C14-35, H01J37-34
【公开号】CN104704603
【申请号】CN201280075041
【发明人】A·克勒佩尔, M·哈尼卡, E·谢尔, K·施沃恩特兹, F·皮耶拉利西, J·刘
【申请人】应用材料公司
【公开日】2015年6月10日
【申请日】2012年7月2日
【公告号】EP2867916A1, WO2014005617A1