衬底处理设备及其操作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种衬底处理设备及操作所述设备的方法，且更确切地说，涉及用于改进处理的可靠性的衬底处理设备及操作所述设备的方法。
【背景技术】
[0002]玻璃衬底通常用于平面显示器设备(例如，有机发光二极管显示器)的衬底中。此类玻璃衬底经历清洁处理、激光退火处理、曝光处理和刻蚀处理，以便被制造为平面显示器设备的衬底。
[0003]此处，在激光退火处理中，激光照射到玻璃衬底上，使得玻璃衬底的非晶硅薄膜结晶。存在多种类型的激光退火处理和应用到其上设备。举例来说，第2013-0071288号韩国专利申请案早期公开案揭示了激光处理设备及用于控制所述设备的方法，且第0780291号韩国专利揭示了激光退火设备。
[0004]在执行处理的同时，具有预定长度和厚度的线型激光束以特定时间的时间间隔被重复照射到玻璃衬底上，因此获得均匀结晶的且高品质的薄膜。此外，玻璃衬底通过平台以特定速度在处理进行方向上进行传送，使得玻璃衬底的处理部分之间的距离在激光束重复照射的同时保持恒定。此处，平台的传送通过提供给平台的电机执行。
[0005]在重复执行所述处理时，由于其元件的干扰或机械磨损，电机的操作特征可能发生改变。如果电机的操作特征发生改变，那么即使精确的控制输入信号被输送到电机，电机的输出(例如，旋转量或旋转速度)也可能具有误差。因此，不能够精确地控制电机的输出，造成平台的传送速度的不规律变化。
[0006]如上文所述，当在执行处理的同时误差发生在电机或平台中时，玻璃衬底的处理部分之间的距离变得不规律，使得难以在玻璃衬底上形成均匀结晶的且高品质的薄膜。因此，制品的品质降级，这降低了处理的可靠性。
[0007]具体而言，典型设备不配备有用于在处理期间监控在电机的输出中是否出现误差的单元，因此用户难以立刻检测电机或平台中的异常。
【发明内容】
[0008]本发明提供用于迅速检测用于传送平台的驱动模块的操作特征的异常的衬底处理设备以及操作所述衬底处理设备的方法。
[0009]本发明还提供了用于生成通知信号使得用户识别驱动模块的操作特征的异常的衬底处理设备以及操作所述衬底处理设备的方法。
[0010]根据一个示例性实施例，衬底处理设备包含:平台，衬底安装在所述平台上；驱动模块，其经配置以传送所述平台；以及监控模块，其经配置以监控所述驱动模块的状态以获得状态数据，并且使用所述状态数据确定所述驱动模块是否是异常的。
[0011]所述驱动模块可以包含驱动电机，所述驱动电机经配置以在处理进行方向上传送所述平台，其中所述监控模块可以获得由所述驱动电机产生的驱动声音的状态数据。
[0012]所述监控模块可以包含:传感器单元，其经配置以获得所述驱动电机的驱动声音；计算单元，其连接到所述传感器单元以通过执行傅立叶变换转换驱动声音的状态数据；确定单元，其经配置以从所述计算单元接收转换过的状态数据，并且比较转换过的状态数据与预设参考范围以确定所述驱动模块是否异常；以及通知单元，其经配置以在接收来自所述确定单元的异常状态数据之后生成通知信号。
[0013]驱动电机可以包含伺服电机，其中所述传感器单元可以包含电容式麦克风。
[0014]所述衬底处理设备可以进一步包含光照射模块，所述光照射模块经配置以将光照射到衬底。
[0015]根据另一示例性实施例，操作衬底处理设备的方法包含:操作驱动模块以传送能够传送衬底的平台；监控所述驱动模块的状态以获得状态数据；对所述状态数据进行转换；以及比较转换过的状态数据与预设参考范围以确定是否出现异常。
[0016]所述方法可以包含在所述驱动模块的操作之前在所述平台上安装衬底。
[0017]所述驱动模块的状态的监控可以包含获得由所述驱动模块的驱动电机产生的驱动声音的状态数据。
[0018]状态数据的转换可以包含执行短时傅立叶变换，以转换所获得的状态数据并且从转换过的状态数据计算基本频率。
[0019]转换过的状态数据与预设参考范围的比较可以包含:如果基本频率的输出范围落入预设基本频率参考范围内，那么确定驱动模块处于正常状态；并且如果输出范围并不落入所述参考范围内，那么确定驱动模块处于异常状态。
[0020]所述方法可以包含在比较转换过的状态数据与预设参考范围之后如果确定驱动模块处于异常状态，那么生成通知信号。
【附图说明】
[0021]通过结合附图进行的以下描述可以更详细地理解示例性实施例，其中:
[0022]图1是图示根据一个实施例的衬底处理设备的框图。
[0023]图2是图示根据一个实施例的平台的操作状态的示意图。
[0024]图3A是图示其中光照射到照射目标的状态的示意图。
[0025]图3B是在驱动模块的正常状态下的照射目标的平面视图。
[0026]图3C是在驱动模块的异常状态下的照射目标的平面视图。
[0027]图4是图示根据一个实施例的衬底处理方法的流程图。
[0028]图5A是图示在具有时间轴和振幅轴的平面上通过传感器单元获得的驱动声音的状态数据的曲线。
[0029]图5B是图5A的区域A的放大视图。
[0030]图5C是图示从由驱动声音转换来的频率组分中提取的谐波频率的曲线。
[0031]图f5D是说明计算出的基本频率的曲线。
【具体实施方式】
[0032]在下文中，将参考附图详细描述具体实施例。然而，本发明可以用不同形式实施，并且不应被解释为限于本文中所阐述的实施例。实际上，提供这些实施例是为了使得本发明将是透彻并且完整的，且这些实施例将把本发明的范围完整地传达给所属领域的技术人员。在图式中，为了清晰起见可放大尺寸。相似参考标号在全文中指代相似元件。
[0033]图1是图示根据一个实施例的衬底处理设备的框图，图2是图示根据一个实施例的操作状态的示意图，图3A是图示其中光照射到照射目标的状态的示意图，图3B是在驱动模块的正常状态下的照射目标的平面视图，并且图3C是在驱动模块的异常状态下的照射目标的平面视图。图4是图示根据一个实施例的衬底处理方法的流程图，图5A是图示在具有时间轴和振幅轴的平面上通过传感器单元获得的驱动声音的状态数据的曲线，图5B是图5A的区域A的放大视图，图5C是图示从由驱动声音转换来的频率组分中提取的谐波频率的曲线，并且图f5D是说明计算出的基本频率的曲线。
[0034]根据一个实施例的衬底处理设备可将光照射到照射目标S，以处理照射目标。更详细地说，根据一个实施例的衬底处理设备可以是用于将准分子激光照射到玻璃衬底以使安置在衬底上的非晶硅薄膜结晶的激光退火设备。也就是说，照射目标S可以是衬底，并且所述光可以是激光。
[0035]参考图1和图2，根据一个实施例的衬底处理设备包含:处理腔室100，其具有用于容纳例如衬底的照射目标S的内部空间；平台200，其安装在处理腔室100中以安装和支撑照射目标S ;驱动模块300，其连接到平台200以在处理进行方向上传送平台200 ;光照射模块400，其安装在处理腔室100外部以将光照射到照射目标S ;控制模块500，其用于控制驱动模块300和光照射模块400的操作；以及监控模块600，其用于监控驱动模块300的状态，