一种真空吸盘的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种真空吸盘，包括吸盘底板，所述吸盘底板上分别安装有吸盘上环、吸盘密封圈、多孔陶瓷上板，所述多孔陶瓷上板上开设有1个以上的第一通孔，所述吸盘底板上开设有1个以上的第二通孔，且所述第一通孔与第二通孔相连通安装；相邻两个所述通孔之间的吸盘底板上开设有环状沟槽。本实用新型所述的一种真空吸盘，其结构简单，更换方便，定位效果好，有效提高吸盘的平整度，且延长了吸盘的使用寿命。
【专利说明】
一种真空吸盘
技术领域
[0001 ]本实用新型涉及一种真空吸盘。
【背景技术】
[0002]随着IC制造技术的飞速发展，其主要衬底材料一单晶硅片的直径不断增大，使得传统的硅片加工方法面临许多新问题。其中比较突出的问题是硅片尺寸增大后，其强度变差，容易产生翘曲变形，加工精度不易保证。同时由于多孔陶瓷上板磨损需要更换，更换时不仅存在生产成本高，而且安装定位性差。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种真空吸盘，其结构简单，更换方便，定位效果好，有效提高吸盘的平整度，且延长了吸盘的使用寿命。
[0004]为了达到上述目的，本实用新型的技术方案是:
[0005]—种真空吸盘，包括吸盘底板，所述吸盘底板上分别安装有吸盘上环、吸盘密封圈、多孔陶瓷上板，所述多孔陶瓷上板上开设有I个以上的第一通孔，所述吸盘底板上开设有I个以上的第二通孔，且所述第一通孔与第二通孔相连通安装;相邻两个所述通孔之间的吸盘底板上开设有环状沟槽。
[0006]所述吸盘底板上开设有下凹槽，所述吸盘密封圈上开设有上凹槽，所述下凹槽与上凹槽之间安装有圆柱销，且所述圆柱销与多孔陶瓷上板抵触相连。
[0007]所述吸盘密封圈外表面涂覆有防磨保护层。
[0008]所述第二通孔的通孔直径大于第一通孔的通孔直径。
[0009]本实用新型的有益效果是:一种真空吸盘，其结构简单，更换方便，定位效果好，有效提高吸盘的平整度，且延长了吸盘的使用寿命。
【附图说明】
[0010]图1为本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0011]实施例1
[0012]如图1所示一种真空吸盘，包括吸盘底板I，所述吸盘底板I上分别安装有吸盘上环
2、吸盘密封圈11、多孔陶瓷上板3，所述多孔陶瓷上板3上开设有I个以上的第一通孔4，所述吸盘底板I上开设有I个以上的第二通孔6，且所述第一通孔4与第二通孔6相连通安装;相邻两个所述通孔4之间的吸盘底板I上开设有环状沟槽5。第一通孔4、第二通孔6和环状沟槽5的配合能够提高吸盘吸附面积和吸附力。
[0013]所述吸盘底板I上开设有下凹槽7，所述吸盘密封圈11上开设有上凹槽8，所述下凹槽7与上凹槽8之间安装有圆柱销9，且所述圆柱销9与多孔陶瓷上板3抵触相连。圆柱销9的设置不仅便于更换多孔陶瓷上板3，而且定位效果好。
[0014]所述吸盘密封圈11外表面涂覆有防磨保护层10。防磨保护层10的设置能够提高吸盘密封圈11的使用寿命。
[0015]所述第二通孔6的通孔直径大于第一通孔4的通孔直径。
[0016]本实施例的一种真空吸盘，其结构简单，更换方便，定位效果好，有效提高吸盘的平整度，且延长了吸盘的使用寿命。
【主权项】
1.一种真空吸盘，其特征在于:包括吸盘底板(I)，所述吸盘底板(I)上分别安装有吸盘上环(2)、吸盘密封圈(11)、多孔陶瓷上板(3)，所述多孔陶瓷上板(3)上开设有I个以上的第一通孔(4)，所述吸盘底板(I)上开设有I个以上的第二通孔(6)，且所述第一通孔(4)与第二通孔(6)相连通安装;相邻两个所述通孔(4)之间的吸盘底板(I)上开设有环状沟槽(5)。2.根据权利要求1所述的一种真空吸盘，其特征在于:所述吸盘底板(I)上开设有下凹槽(7)，所述吸盘密封圈(11)上开设有上凹槽(8)，所述下凹槽(7)与上凹槽(8)之间安装有圆柱销(9)，且所述圆柱销(9)与多孔陶瓷上板(3)抵触相连。3.根据权利要求1所述的一种真空吸盘，其特征在于:所述吸盘密封圈(11)外表面涂覆有防磨保护层(10)。4.根据权利要求1所述的一种真空吸盘，其特征在于:所述第二通孔(6)的通孔直径大于第一通孔(4)的通孔直径。
【文档编号】H01L21/683GK205428892SQ201620215120
【公开日】2016年8月3日
【申请日】2016年3月21日
【发明人】马嫣, 张新华, 鲁志康, 尹黎明, 卢丽娟, 张苏敏
【申请人】绍兴文理学院