质涂层的聚酰亚胺覆盖衬底 (图 5)。
[0130] 〈实施例6>
[0131] 以实施例1中相同的方式，将氧化硅层形成于聚酰亚胺薄膜的两个表面上，将透 明电极层形成于氧化硅层的外表面上，然后将硬质涂层形成于透明电极层的外表面上。进 一步地，将装置保护层形成于硬质涂层的外表面上，从而制造包括顺序堆叠的装置保护层、 硬质涂层、透明电极层、氧化硅层、聚酰亚胺薄膜、氧化硅层、透明电极层、硬质涂层以及装 置保护层的聚酰亚胺覆盖衬底（图6)。
[0132] 〈实施例7>
[0133] 以实施例1中相同的方式，将氧化硅层形成于聚酰亚胺薄膜的两个表面上，将透 明电极层形成于氧化硅层的外表面上，然后将硬质涂层形成于透明电极层的外表面上。进 一步地，将装置保护层形成于硬质涂层的其中一个上，从而制造包括顺序堆叠的电极保护 层、硬质涂层、透明电极层、氧化硅层、聚酰亚胺薄膜、氧化硅层、透明电极层以及硬质涂层 的聚酰亚胺覆盖衬底（图7)。
[0134] 〈性能评价〉
[0135] 通过以下过程测量所述聚酰亚胺覆盖衬底的性能。结果显示在下面的表1和2中。
[0136] (1)平均透光率（％)的测定
[0137] 使用分光光度计（CU-3700D，KONICA MINOLTA)测量每一个聚酰亚胺覆盖衬底在 350nm~700nm的透光率。
[0138] (2)黄度指数的测定
[0139] 利用分光光度计（CU-3700D，KONICA MINOLTA)测量每一个聚酰亚胺覆盖衬底的黄 度指数。
[0140] (3)水蒸气透过率（g/m2*天）的测定
[0141] 利用水蒸气透过率测试仪（MOCON/US/Aquatran-型号-1)测量每一个聚酰亚胺覆 盖衬底的水蒸气透过率（WVTR)。
[0142] (4)铅笔硬度的测定
[0143] 利用电子铅笔硬度测试仪将三菱测试电笔（UNI)以180mm/min的速率在Ikg负重 下于每一个聚酰亚胺覆盖衬底上画50mm长的线5次，此后，当没有表面划痕时，测试铅笔硬 度。
[0144] (5)粘附力的测定
[0145] 根据标准测试方法（ATSM D3359)，将每一个聚酰亚胺覆盖衬底交叉（cross-cut)、 贴压，然后测量。
[0146] (6)弯曲性能的测定
[0147] 每一个聚酰亚胺覆盖衬底在直径为IOmm的圆柱体上卷绕和解绕10000次，然后用 肉眼和显微镜观测薄膜的破裂。有任何破裂的情况都标记为"不合格"，没有破裂的情况则 标记为"合格"。
[0148] (7)抗划伤性的测定
[0149] 利用钢丝棉在负重500g条件下以50mm/sec的速度以IOOmm的长度在每一个聚酰 亚胺覆盖衬底上前后摩擦500次，然后利用肉眼和光学显微镜计算划痕的数目。没有划痕 的情况标记为"〇"，划痕数目少于1~5的情况标记为"A"，然后划痕数目为5以上的情况 标记为"X"。
[0150] (8)抗冲击性的测定
[0151] 每一个聚酰亚胺覆盖衬底放置在0. rr玻璃上，然后一个球于距玻璃50cm的高处 掉下，然后用肉眼和光学显微镜观测玻璃的损坏和裂纹。有任意一个细小裂纹形成的情况 都标记为"不合格"，没有细小裂纹的情况标记为"合格"。
[0152] (9)耐化学性的测定
[0153] 每一个聚酰亚胺覆盖衬底浸在2. 38%四甲基氢氧化铵（TMAH)、二甲基乙酰胺 (DMAc)、N-甲基-2-吡咯烷酮（NMP)、1 %氢氧化钾（KOH)、丙酮、异丙醇（IPA)、甲乙酮（MEK) 和NaSO2(硫酸钠）中lhr，然后用肉眼观察。有云斑或不正常现象发生的情况标记为"X"， 干燥后重量变化在〇. 01 %内的情况标记为"0"。
[0154] 【表1】
[0155]
[0158] 从表1中可以明显看出，与没有任何表面处理的对比实施例1相比，在聚酰亚胺薄 膜的表面上形成氧化硅层的对比实施例2中，透光率和黄度指数有提升，在聚酰亚胺薄膜 的表面上形成硬质涂层的对比实施例3中，抗划伤性和铅笔硬度有提升。
[0159] 含有装置保护层的实施例1至7与没有装置保护层的对比实施例4相比，弯曲性 能和抗冲击性得到提升，并且展现了适用于光电装置的5以下的黄度指数和85%以上的透 光率，，与没有任何表面处理的对比实施例1相比有令人满意的水蒸气透过率、铅笔硬度、 粘附力、弯曲性能、抗划伤性、抗冲击性和耐化学性。
[0160] 因此，根据本发明的聚酰亚胺覆盖衬底可以被有效的用作柔性电子装置的覆盖衬 底。
[0161] 尽管为了说明性目的已经公开了本发明的优选实施例，但是本领域的普通技术人 员将理解可以在不背离所附的权利要求所公开的范围和精神的情况下进行各种变形、添加 和替换。
【主权项】
1. 一种聚酰亚胺覆盖衬底，包括： 聚酰亚胺薄膜；以及 在所述聚酰亚胺薄膜的至少一个面上由聚氨酯丙烯酸酯化合物形成的装置保护层。2. 如权利要求1所述的聚酰亚胺覆盖衬底，其中，所述聚氨酯丙烯酸酯化合物是由下 面化学式1表示的聚氨酯丙烯酸酯化合物： 〈化学式1>其中，R各自独立地为苯基、具有1至5个碳原子的烷基苯基、具有1至5个碳原子的烷 氧基苯基、环己烷基、具有1至5个碳原子的烷基环己烷基、二苯基甲烷基、^苯基乙烷基、 双环己基甲烷基或具有1至10个碳原子的烷基。3. 如权利要求1或2所述的聚酰亚胺覆盖衬底，其中，所述聚氨酯丙烯酸酯化合物的重 均分子量为1，〇〇〇~50, 000g/mol。4. 如权利要求1所述的聚酰亚胺覆盖衬底，其中，所述装置保护层的厚度为1. 0~ 30ym〇5. 如权利要求1所述的聚酰亚胺覆盖衬底，进一步地包含选自氧化硅层、硬质涂层以 及透明电极层中的一种或多种。6. 如权利要求5所述的聚酰亚胺覆盖衬底，配置为使得装置保护层、透明电极层、氧化 硅层、聚酰亚胺薄膜、氧化硅层以及硬质涂层顺序堆叠。7. 如权利要求5所述的聚酰亚胺覆盖衬底，配置为使得装置保护层、透明电极层、氧化 硅层、聚酰亚胺薄膜、氧化硅层、透明电极层以及硬质涂层顺序地堆叠。8. 如权利要求5所述的聚酰亚胺覆盖衬底，配置为使得氧化硅层、聚酰亚胺薄膜、氧化 硅层、透明电极层、装置保护层、透明电极层以及硬质涂层顺序地堆叠。9. 如权利要求5所述的聚酰亚胺覆盖衬底，配置为使得装置保护层、氧化硅层、聚酰亚 胺薄膜、氧化硅层、透明电极层、装置保护层、透明电极层以及硬质涂层顺序地堆叠。10. 如权利要求5所述的聚酰亚胺覆盖衬底，配置为使得透明电极层、装置保护层、氧 化硅层、聚酰亚胺薄膜、氧化硅层以及硬质涂层顺序地堆叠。11. 如权利要求5所述的聚酰亚胺覆盖衬底，配置为使得装置保护层、硬质涂层、透明 电极层、氧化硅层、聚酰亚胺薄膜、氧化硅层、透明电极层、硬质涂层以及装置保护层顺序地 堆叠。12. 如权利要求5所述的聚酰亚胺覆盖衬底，配置为使得装置保护层、硬质涂层、透明 电极层、氧化硅层、聚酰亚胺薄膜、氧化硅层、透明电极层以及硬质涂层顺序地堆叠。13. 如权利要求5至12中的任一项所述的聚酰亚胺覆盖衬底，其中，所述氧化硅层包括 含有由下面化学式2表示的单元结构的氧化硅： 〈化学式2>其中，m和n各自独立地是0~10的整数。14. 如权利要求5至12中的任一项所述的聚酰亚胺覆盖衬底，其中，所述氧化硅层的厚 度为0? 3~2. 0ym。15. 如权利要求5至12中的任一项所述的聚酰亚胺覆盖衬底，其中，所述硬质涂层包括 由下面化学式4表示的化合物： 〈化学式4>其中，n是0~5的整数，m是1~5的整数，&是具有1至10个碳原子的烷基或氢原 子，以及R2是具有1至10个碳原子的烷基。16. 如权利要求5至12中的任一项所述的聚酰亚胺覆盖衬底，其中，所述硬质涂层的厚 度为 1. 0 ~20. 0ym。17. 如权利要求5至12中的任一项所述的聚酰亚胺覆盖衬底，其中，所述硬质涂层包括 选自铟-锡氧化物（ITO)、铟-锌氧化物（IZO)以及铟-锡-锌氧化物（ITZO)中的一种或 多种，而且厚度为10~50nm〇
【专利摘要】本发明公开了一种聚酰亚胺覆盖衬底，该聚酰亚胺覆盖衬底配置为使得，在聚酰亚胺薄膜的至少一个面上由聚氨酯丙烯酸酯化合物形成装置保护层，从而不仅展现出高弯曲性能和抗冲击性，还有优异的耐溶剂性、光学性能、抗划伤性以及低水蒸气透过率，并因此能够有效地被用作柔性电子装置的覆盖衬底。
【IPC分类】B32B27/34, B32B27/08, B32B9/00
【公开号】CN105121159
【申请号】CN201480019435
【发明人】禹学龙, 郑鹤基, 洪起一
【申请人】可隆工业株式会社
【公开日】2015年12月2日
【申请日】2014年3月31日
【公告号】WO2014163352A1