专利名称：电子照相用感光体及其制造方法
技术领域：
本发明涉及一种电子照相用感光体及其制造方法。
背景技术：
在电子照相应用设备如复印机、激光打印机等中的传统电子照相成像过程中，有较短波长的气体激光器如He-Ne激光器、Ar激光器和He-Cd激光器被用作光源，电子照相用感光体的一个表面暴露于其下，从而形成静电潜像。形成一个厚层的Cds、ZnO、Se等用于可以与这种气体激光器一起使用的电子照相用感光体的光敏层。因此，由气体激光器辐射电子照相用感光体的用于曝光的光束完全被该厚光敏层吸收，使得不会发生由电子照相用感光体衬底表面上的反射造成的干扰。
近年来，取代气体激光器，紧凑且价廉的半导体激光器或发光二极管(简称“LED”)正越来越多地用作对电子照相用感光体曝光的光源。随着使用光源的变化，对半导体激光器或LED发出的波长在700nm或更长的光敏感的电子照相用感光体被采用。例如，具有多层结构的多层电子照相用感光体被采用，在这种感光体结构中，包含一种酞青颜料如酞菁铜或氯酞菁铜的电荷发生层和电荷输迁移层层压在一起。
当把对长波具有光敏性的电子照相用感光体安置在激光束扫描系统的电子照相打印机中并暴露于激光束时，在所成的图像中会出现图像中带有干涉条纹图案的不均匀性。这种图像中带有干涉条纹图案的不均匀性的出现部分是因为长波激光光束没有被光敏层完全吸收，并且透过光敏层的光到达电子照相用感光体的衬底表面且被反射。然后，反射的光在光敏层中并多次反射并因而变成相干光，导致干涉条纹。
避免造成图像中不均匀性的这些干涉条纹的一种方法是在电子照相用感光体的衬底表面制造粗糙不平。图15A和15B表示光在衬底表面被反射的一种方式。图15A表示光在平滑衬底表面1中反射的方式。入射光束L11、L12和L13在平滑衬底表面1上被规则地反射。因为形成在平滑衬底表面1上的光敏层2的厚度T1均匀地形成，所以在衬底表面上反射的光束L11、L12和L13也在光敏层2的表面规则地反射。因此，在衬底表面1平滑的情况下，具有匹配相位的光束L11、L12和L13被多层反射并且相互加强(或减弱)，从而形成干涉图案。因而也在形成于感光体表面的图像中出现干涉条纹。
图15B表示光在粗糙衬底表面3上被反射的方式。在粗糙衬底表面3上，入射光束L21、L22和L23被不规则地反射，且在彼此不同的方向上散射。形成在粗糙衬底表面3上的光敏层4的厚度随着位置不同而不同，例如如图15B中的T21或T22所示，并且因此，虽然在衬底表面3上不规则反射的光束L21、L22和L23在光敏层4的表面上规则地反射，但它们的相位不同。因此，在衬底表面3粗糙的情况下，不会形成光束L21、L22和L23的干涉图案，从而避免了在形成于感光体表面上的图像中出现干涉条纹。
一般地，电子照相用感光体的光敏层通常通过浸没和涂敷法形成，因为这种方法有很高的产量，该方法中将衬底浸没在添有感光体涂敷溶液的涂敷池中，并再以预定的速率提升衬底。在此浸没涂敷法中，当提升衬底时，在与提升方向相反的方向中产生斑纹，使得出现厚度不均匀的倾向。另外，在涂敷溶液中包含易蒸发的有机溶剂，使得只有溶剂从涂敷池中的涂敷溶液蒸发，并且涂敷溶液的粘滞度和浓度发生变化。结果，涂敷时的厚度不稳定。
为了避免不均匀的厚度并稳定地形成均匀的厚度，在涂敷过程中精确测量层的厚度并在衬底上形成光敏层，根据测量结果控制涂敷量，从而调节厚度。为此目的，提出了各种测量光敏层厚度的方法。作为测量厚度的方法，采用利用步进高度仪、涡流仪测量膜厚度的接触法，测量膜厚度的接触法，如颜色和色差法、光学干涉测量法等以及光吸收法，但光学干涉测量法使用的最为普遍，因为操作较为简单，并且可以在短时间内进行测量(如日本待审查专利申请JP-A-4-336540(1992，P4，Fig.2))。
以下将简要描述通过光学干涉测量法测量层厚度的原理。图16A和16B分别表示透明膜5和7中光的反射行为。图16A表示入射到透明膜5的光束在透明膜5中多次反射的方式。从透明膜5的一个表面5a测得的作为反射光束L32的光束是通过合成在透明膜5中被多次反射的光束而获得的光束。光是一种波，因此，在合成光束时，如果相位差是2π的整数倍，则光束相互增强，如果相位差是π的奇数整数倍，则光束彼此相消，于是，发生了干涉。
图16B表示光在形成于衬底6上的透明膜7中的反射方式。根据方程(1)可以获得光在形成于衬底6上的透明膜7中的反射率R反射率R＝{R12+R22-2R1R2cos(X)}/{1+R12+R22-2R1R2cos(X)} …(1)此处X＝4πN1d/λλ光的波长d透明膜的厚度R1透明膜一个表面的反射率R2衬底一个表面的反射率N1透明膜的折射率N2衬底的折射率其中N2＞N1。
根据方程(2)和(3)分别可以获得透明膜的表面7a的反射率R1和衬底的表面6a的反射率R2R1＝(1-N1)/(1+N1) …(2)R2＝(N1-N2)/(N1+N2)…(3)在光束通过光学干涉而相互加强(减弱)的波长中反射率R变为最大值(或最小值)，于是，当反射率R随着波长λ而不同，从而获得一个提供最大(或最小)反射率R的波长，可以获得方程(4)(1/λn)-(1/λn+1)＝1/2N1d…(4)此处λn为具有第n个最大值(或最小值)的波长。
当一致光束互相加强(或减弱)的波长和折射率时，可以根据方程(4)得到透明膜7的厚度。膜的折射率和波长例如可以用光谱仪测量，并且因此可以根据方程(4)利用测量结果获得膜的厚度。对于一种不知道其折射率的膜，形成具有限定厚度的膜并继续根据方程(4)获得已知厚度的膜的折射率，使得可以获得由相同材料形成的膜的任何厚度。
因而，光学干涉测量法利用在电子照相用感光体光敏层上的多次反射形成的干涉图案测量光敏层的厚度。因此，当把电子照相用感光体的衬底表面制作的较为粗糙以防干涉条纹时，其中这种干涉条纹会造成图像的不均匀，从而减弱基于衬底表面以及光敏层表面上的反射的干涉，测量光敏层的厚度变得困难。
为了解决这一问题，将波长长于日本工业标准(JIS)B0601规定的微观不平度十点高度(Rz)中所示衬底表面粗糙度的光用作测量光敏层厚度的光，从而抑制光束合成时峰值的消失，使得甚至通过很弱的干涉也可以测量厚度(如日本待定专利申请JP2000-A-356859(2000，P4，Fig.6))。
但是，JP-A2000-356859中公开的此项技术也有下列问题。随着成像设备分辨率的提高，用于在电子照相用感光体的表面上写入静电潜像的光的光斑直径越来越小。当光的光斑直径减小时，无论电子照相用感光体衬底表面的粗糙度如何都会发生干涉条纹。因此，当光的光斑直径较小时，衬底的表面粗糙度倾向于做得更为粗粗，以防干涉条纹的发生，并且当表面粗糙度变大时将具有更长波长的光用作测量厚度的光。因此，当用于测量厚度的光的波长变长时，相邻波长之间的距离增大，使得厚度的测量精度减小，或是不能进行测量。
发明内容
本发明的一个目的在于提供一种电子照相用感光体及其制造方法，通过限制导电衬底的表面粗糙度来防止出现图像的干涉条纹，并且可以通过光学干涉测量法精确地测量层的厚度。
本发明的发明者对图像进行了仔细的观察，包括各种电子照相用感光体及各种成像设备形成的产生有似乎是由光敏层中的多次反射导致的明暗条纹的图像，以及没有明暗条纹的图像。结果发现，虽然在衬底的表面粗糙度和明暗条纹的出现之间存在一种关联，但不能只通过轮廓最大高度(Ry)、轮廓算术平均偏差(Ra)、微观不平度十点高度(Rz)和轮廓微观不平度的平均距离(Sm)来阐明表面粗糙度和明暗条纹之间的关系，这些粗糙度通常用于表示表面粗糙度并按JIS B0601-1994标准定义，其中轮廓微观不平度的平均距离(Sm)是横截面曲线峰-峰间距的平均。
也就是说，在电子照相过程中利用相干光在光敏层中多次反射造成的干涉条纹(图像中的明暗条纹)受衬底的表面粗糙度和细小波形的影响，并且可以通过将衬底表面的Ry、Ra、Rz和Sm设置为预定大小(粗糙度)或更大以使表面粗糙来获得抑制干涉条纹发生的效果。
但是，对于出现在成像设备中形成的具有较小光斑的的图像中的干涉条纹，很难只通过Ry、Ra、Rz和Sm来关联干涉条纹的发生与表面粗糙度。但是，除了Ry、Ra、Rz和Sm以外，在作为预定测量距离的基准线长度中，通过对从顶点到底点的高度等于或大于预定宽度的峰的数量进行计数来引进峰数Pc，使得可以阐明干涉条纹的发生与表面粗糙度之间的相关度。而且，通过将Ry、Ra、Rz、Sm和Pc限定在一个优选范围来防止干涉条纹的发生，使得可以在一个具有粗糙的表面粗糙度的区域中通过光学干涉测量法精确地测量层的厚度。本发明的发明者得到了这些认识并实现了本发明。
本发明旨在提供一种包括导电衬底和导电衬底上的光敏层、并曝光于相干光的电子照相用感光体，其中，导电衬底的表面粗糙度使得轮廓最大高度(Ry)、轮廓算术平均偏差(Ra)、微观不平度十点高度(Rz)和作为峰-峰间距的横截面曲线的平均的轮廓微观不平度的平均距离(Sm)满足下式(a)Ry＝0.8～1.4μm(b)Ra＝0.10～0.15μm(c)Rz＝0.7～1.3μm(d)Sm＝5～30μm，峰数Pc满足(e)Pc＝60～100，根据本发明，可以利用Pc以及Ry、Ra、Rz和Sm作为其指数而将电子照相用感光体导电衬底的表面粗糙度限定在优选范围内。这样就实现了一种本发明的电子照相用感光体，在该电子照相用感光体中可以避免在形成于导电衬底上的光敏层中出现由光的多次反射造成的图像的干涉条纹，并且可以通过光学干涉测量法精确地测量层的厚度。在此，峰数Pc是根据Society ofAutomotive Engineers(SAE)Standard的J911-1986定义的参数PPI的表面粗糙度指数，并且是一个通过对上述基准线长度中顶点到底点之间具有至少预定宽度的高度的峰的数量进行计数而获得的值。
本发明还旨在提供一种制作电子照相用感光体的方法，其中通过顺次涂敷在导电衬底上形成一个电荷产生层，一个电荷迁移层，或是一个底层、一个电荷产生层和一个电荷迁移层，该方法包括制备导电衬底，该衬底中轮廓最大高度(Ry)、轮廓算术平均偏差(Ra)、微观不平度十点高度(Rz)和作为峰-峰间距的横截面曲线的平均的轮廓微观不平度的平均距离(Sm)满足下式
(a)Ry＝0.8～1.4μm(b)Ra＝0.10～0.15μm(c)Rz＝0.7～1.3μm(d)Sm＝5～30μm，峰数Pc满足(e)Pc＝60～100，当进行涂敷以在导电衬底上形成层时，依次通过光学干涉测量法测量层的厚度，将测量结果反馈给控制装置，和根据测量结果，通过控制装置的输出控制涂敷量，从而调节层的厚度。
根据本发明，制备导电衬底，该衬底的表面粗糙度限定在利用Pc以及Ry、Ra、Rz和Sm作为表面粗糙度指数的优选范围，进行涂敷以在导电衬底上形成构成光敏层的层时，通过光学干涉测量法测量层的厚度，反馈测量结果，并且在制造电子照相用感光体的同时调节层的厚度。然后，导电衬底的表面粗糙度处于优选范围，并且可以通过光学干涉测量法精确地测量层的厚度，使得当涂敷并形成构成光敏层的层时，可以稳定地形成层的厚度，并且可以避免厚度的不均匀性。另外，可以制造一种电子照相用感光体，感光体中光敏层的厚度精度非常高，并且不会出现干涉条纹。
另外，本发明旨在提供一种成像设备，该设备包括上述电子照相用感光体和用于以1200dpi或更大的象素密度进行图像曝光以在电子照相用感光体的表面上形成静电潜像的曝光设备。
根据本发明，成像设备包括具有导电衬底的电子照相用感光体和曝光设备，导电衬底的表面粗糙度限定在利用Pc以及Ry、Ra、Rz和Sm作为表面粗糙度指数的优选范围，而曝光设备以1200dpi或更大的象素密度进行图像曝光以在电子照相用感光体的表面上形成静电潜像。因而，可以利用光斑直径较小的光束在包括具有优选表面粗糙度的导电衬底的电子照相用感光体上形成静电潜像，使得可以实现一种成像设备，该设备中可以避免图像干涉条纹的出现，并且可以形成高分辨率和高质量的图像。
在本发明中，优选曝光设备发射波长在780nm的激光。
通过下面参考附图的详细描述，本发明的其它目的、特点及优点将变得更加清晰，其中图1A和1B是本发明实施例的电子照相用感光体的简化结构视图；图2是表示轮廓最大高度Ry的定义的简图；图3是表示微观不平度十点高度Rz的定义的简图；图4是表示峰数Pc的定义的简图；图5是用于产生感光体的涂敷设备的简化结构简图；图6是从光发射一侧看去的探针的简化结构正视图；图7是成像设备的简化结构截面图，是本发明的另一个实施例；图8是用于黑色成象的激光扫描单元和成像站的结构放大图；图9是测量底层厚度时的反射光谱曲线；图10是测量底层厚度时的反射光谱曲线；图11是测量底层厚度时的反射光谱曲线；图12是测量电荷产生层和电荷迁移层的合并厚度时的反射光谱曲线；图13是测量电荷产生层和电荷迁移层的合并厚度时的反射光谱曲线；图14是测量电荷产生层和电荷迁移层的合并厚度时的反射光谱曲线；图15A和15B是表示光在衬底表面反射的方式的视图；和图16A和16B是表示光在透明膜中反射行为的视图。
具体实施例方式
下面参考附图对本发明的优选实施例进行描述。
图1A和1B是本发明实施例的电子照相用感光体10的简化结构视图电子照相用感光体10(以下简称为“感光体”)包括一种具有导电性的材料制成的导电衬底11、一个形成在导电衬底11外围表面上的底层12、一个形成在底层12外围表面上的电荷产生层13和一个形成在电荷产生层13外围表面上的电荷迁移层14。此处，底层12、电荷产生层13和电荷迁移层14构成一个光敏层15。
图1A所示的导电衬底11具有柱状形状，由一种金属如铝、铜、不锈钢或黄铜制成。导电衬底11不必一定由金属制成，也可以是一种聚酯膜或纸的柱状件，在聚酯膜或纸上形成有一个金属膜如铝合金，或形成有一种导体材料膜如氧化铟。导电衬底11的形成使得外围表面16的表面粗糙度满足下列范围。在JIS B0601-1994中定义的Ry、Ra、Rz和Sm处于下列范围。(a)Ry＝0.8～1.4μm，(b)Ra＝0.10～0.15μm(c)Rz＝0.7～1.3μm，(d)Sm＝5～30μm。根据SAE J911-1986中定义的参数PPI的峰数Pc处于(e)Pc＝60～100的范围。
加工导电衬底11的表面从而具有表面粗糙度的方法可以是下列任意一种使表面粗糙的机械方法，如切削、打磨、蚀刻、散落/碰撞刚性球、不规则滚筒的接触压制、研磨、激光辐射和高压水溅射，或是通过氧化处理致使粗糙的方法，如阳极氧化、软水铝石处理、加热及氧化处理。例如，在切削加工中，这是一种机械方法，可以通过适当选择切削工具的材料、切削工具的刀刃形状、切削工具的切削速度以及润滑剂的类型等来获得指标值处于上述范围的表面粗糙度。以下将描述优选这些范围的表面粗糙度指标值的原因。
(a)轮廓最大高度Ry＝0.8～1.4μm图2是表示轮廓最大高度Ry的定义的简图。Ry是在表示表面粗糙度测量结果的横截面曲线的一个基准线长度L的部分中，高度最大的峰17的高度Rq与具有深度最大的谷18的深度Rv之和(Ry＝Rq+Rv)。其中，基准线长度L是沿中线m的走向取得的。(横截面曲线称作切开后的粗糙度曲线。一般地，因为通常一个大波长隆起部分被切，所以下文中测量结果的曲线被认作是粗糙度曲线)。此处，高度和深度是正交于中线m方向上的距离。
当Ry小于0.8μm时，产生由于导电衬底表面的反射光所致的干涉条纹。当Ry超过1.4μm时，粗糙的导电衬底表面16起着对光敏层15的载流子注入部分的作用，使得在成像期间可能在一个黑色部分中产生白斑或在一个白色部分中产生黑斑。
(b)轮廓算术平均偏差Ra＝0.10～0.15μmRa是中线m与粗糙度曲线的偏距绝对值的平均值。将中线m当作X轴、将正交于中线m方向上的轴当作Y轴时，Ra由方程(5)给出，并且将粗糙度曲线y表示为y＝f(x)。
Ra=1L∫0L|f(x)|---(5)]]>当Ra小于0.10μm时，干涉条纹的入射率增大，当Ra超过0.15μm时，要通过光学干涉测量法测量层的厚度变得困难。因此，Ra设置为0.10～0.15μm。
(c)微观不平度十点高度Rz＝0.7～1.3μm图3是表示微观不平度十点高度Rz的定义的简图。Rz是在基准线长度L中从最高峰到第五最高峰的高度(Yp1～Yp5)绝对值的平均值与基准线长度L中从最低谷到第五最低谷的深度(Yv1～Yv5)绝对值的平均值之和。在轮廓最大高度Ry中，当在测量范围内存在局部裂纹或凹陷时，这些裂纹或凹陷的测量值可以摘录为Ry，使得该结果远离真实的表面粗糙度。但是，Rz是多个峰和谷的平均，使得可以获得一个不远离真实表面粗糙度的结果。当Rz小于0.7μm时，产生干涉条纹。当Rz超过1.3μm时，在成像期间可以在一个黑色部分中产生白斑或在一个白色部分中产生黑斑。因此，Rz设置为0.7～1.3μm。
(d)轮廓微观不平度的平均距离Sm＝5～30μm。轮廓微观不平度的平均距离Sm是在中线延伸的方向上由一个峰的距离与该峰相邻的一个谷的距离之和给出的，并且当基准线长度L的段数为n时，Sm由方程(6)给出Sm=1nΣi=1nSmi---(6)]]>Sm在导电衬底11和光敏层15以及对干涉条纹出现的灵敏度之间有一个固有的相关度。当Sm小于5μm或大于30μm时，易于产生干涉条纹。因此，Sm设置为5～30μm。
(e)峰数Pc＝60～100图4是表示峰数Pc定义的简图。峰数Pc是根据Society of Automotive Engineers’Standard的SAE J911-1986定义的参数PPI的表面粗糙度指数。对于Pc设置峰一侧和谷一侧上离粗糙度曲线19的中线m的预定参考水平H。当粗糙度曲线19一旦超过设置在谷一侧的参考水平H之后粗糙度曲线19超过设置在峰一侧上的参考水平H时，继续计一个数。Pc是在基准线长度L中的累积计数值。在此实施例中，以0.2μm作为设置在峰一例上的参考水平H，以-0.2μm作为谷一侧上的参考水平，并且以4mm作为基准线长度L对Pc计数。
峰数Pc是一个受光反射时散射程度影响的指数。比轮廓算术平均偏差Ra有更多不规则性的峰的数量，通过在Pc测量期间使参考水平H例如大于轮廓算术平均偏差Ra来得到限定，而限定Pc的范围。
当Pc小于60并且具有不规则性的峰的数量较小时，在图像形成中产生干涉条纹。当Pc大于100并且具有不规则性的峰的数量较大时，光的散射反射增多。因此，虽然在图像形成中没有可能出现干涉条纹，但漫射反射增加，以至于不能获得相干光。因此，不能通过光学干涉测量法测量层的厚度。因此，Pc设置为60～100。
下面是对于Pc有一个优选范围的可能原因。在感光体10上被光辐射、从而形成静电潜像的小面积中，例如在1200dpi或更大像素密度的小光斑面积中，形成在导电衬底表面16上的合适数量的较大不规则性允许在该小面积中发生充分的漫射反射，避免了在成像器件出现干涉条纹。另一方面，在光学干涉测量法中，测量区大小约为2～5mm，诸如用于测量感光体10的层厚度的光发射/接收探针的直径，即使形成在导电衬底表面16上的适当数量的较大不规则性允许用于测量层厚度的光被漫射反射，也会在一个很宽的测量区中出现多次反射时的发生轻微的干涉并且似乎可以通过光学干涉测量法检测此干涉来测量层的厚度。
参见图1，底层12形成在导电衬底表面16上以便涂敷导电衬底表面16上的缺陷，改善电荷从导电衬底11向电荷产生层13的注入特性，改善光敏层15相对于导电衬底11的粘附特性，并且改善电荷产生层13的涂敷特性。作为用作底层12的材料，优选使用聚酰胺、共聚酰胺、酪蛋白、聚乙烯醇、纤维素或明胶。底层12通过在有机溶剂中溶解至少一种选自上述材料的物质并用该溶液涂敷导电衬底11而形成，厚度约为0.1-5μm。出于提高低温和低湿度条件下的特性并调节电阻率的目的，在底层12中可以包含并分散无机颜料，如氧化铝、氧化锡和氧化钛。
电荷产生层13包含通过光辐射而产生的作为主要成分的电荷产生材料，并且还可以包含一种已知的粘合剂(或粘结剂)、增塑剂和增敏剂。对于电荷产生材料，适于采用苝基颜料、多环醌基颜料、无金属酞菁颜料、金属酞菁颜料和具有方酸鎓(squarylium)、薁鎓(azulenium)或噻喃鎓(thiapyrylium)染料和咔唑主链、苯乙烯基芪主链、三苯基胺主链、二苯并噻吩主链、噁二唑主链、芴酮主链、二芪主链、联苯乙烯基噁二唑主链或联苯乙烯基咔唑主链的偶氮颜料。在这些颜料中，尤其优选用无金属酞菁颜料、金属酞菁颜料和偶氮颜料作为数字复印机和打印机的感光体的电荷产生材料。
电荷迁移层14接收电荷产生层13中产生的电荷，并且包含用于输运电荷的电荷迁移材料，如聚硅氧烷调平剂，和作为主要成分的粘合剂(或粘结剂)，并且还可以包含一种已知的增塑剂、增敏剂等。
关于电荷迁移材料，可以优选使用电子给予物质，如聚-N-乙烯基咔唑及其衍生物、聚-γ-咔唑基乙基谷氨酸酯(carbozoyl ethyl glutamate)及其衍生物，芘-甲醛缩合物及其衍生物、聚乙烯芘、聚乙烯菲、噁唑衍生物、噁二唑(orodiazole)衍生物、咪唑衍生物、9-(对-二乙氨基苯乙烯基)蒽、1，1-二(4-二苄氨基苯基)丙烷、苯乙烯基蒽、苯乙烯基吡唑啉、苯腙和腙衍生物，或是电子接收物质，如芴酮衍生物、二苯并噻吩衍生物、茚并噻吩衍生物、菲醌衍生物、茚并吡啶衍生物、噻吨酮衍生物、苯并[c]噌啉衍生物、氧化吩嗪衍生物、四氰乙烯、四氰基醌二甲烷、promanyl、氯醌和苯醌。
关于包含在电荷迁移层14中的粘合剂(或粘结剂)，可以使用可与电荷迁移材料兼容的物质，如聚碳酸酯、聚乙烯醇缩丁醛、聚酰胺、聚酯、聚酮、环氧树脂、聚氨基甲酸酯、聚乙烯酮、聚苯乙烯、聚丙烯酰胺、酚树脂、苯氧基树脂等。
图5表示用于制造感光体10的涂敷设备21的简化结构简图。涂敷设备21包括一个用于悬承导电衬底11的臂22，其支撑方式为导电衬底11的轴延伸的方向设置为垂直方向；用于在垂直方向升降臂22的升降装置23；用于驱动升降装置23的驱动装置24；包含涂敷溶液25的容器26；用于通过光学干涉测量法测量形成在导电衬底11上的层如底层12的厚度的光谱仪27；和用于响应于光谱仪27对层厚度的测量结果向驱动装置24输出驱动控制信号的控制装置28。
容器26例如由不锈钢等材料制成，为一个矩形的固体中空容器，在其一侧上设置有一个开口。关于涂敷溶液25，不仅所示的用于形成底层12的溶液，而且用于形成电荷产生层13和电荷迁移层14的溶液都要单独地在分开的容器中制备。
关于用于形成底层12的涂敷溶液，使用一种例如将氧化钛和共聚酰胺分散在乙醇、甲醇、甲醇/二氯乙烷等溶剂中的溶液。对于用于形成电荷产生层13的涂敷溶液，使用一种把电荷产生材料如在与粘合剂、增塑剂、增敏剂等在一起的偶氮颜料分散在诸如环己酮、苯、三氯甲烷、二氯乙烷、乙醚、丙酮、乙醇、氯苯或甲基乙基酮的溶剂中的溶液。对于用于形成电荷迁移层14的溶液，使用一种把诸如与增塑剂、增敏剂等在一起的腙基化合物、聚硅氧烷调平剂和粘合剂(或粘结剂)分散到一种溶剂如二氯乙烷、苯、三氯甲烷、环己酮、乙醚、丙酮、乙醇、氯苯或甲基乙基酮的溶剂中的溶液。
臂22由金属或硬合成树脂制成，导电衬底11以上述方式悬承在其一端的附近，在另一端附近形成一个设置有内螺纹的内螺纹部分29。升降装置23包括一个滑动丝杠30和一个固定地设置在滑动丝杠30一个端部32的第一齿轮31。滑动丝杠30啮合在形成于臂22中的内螺纹部分29中。
驱动装置24例如包括一个电机33和一个固定地设置在电机33输出轴34中的第二齿轮35。驱动装置24的第二齿轮35与升降装置23的第一齿轮31啮合。因此，电机33输出轴34的绕轴向的旋转驱动力通过第二齿轮35和第一齿轮31传递到滑动丝杠30。然后，滑动丝杠30的绕轴向的转动在垂直方向移动在内螺纹部分29与滑动丝杠30啮合的臂22和导电衬底11。
光谱仪27，例如MCPD-1100(由Otsuka Electronics Co.，Ltd)，包括一个光发射/接收探针36(以下简称为探针)和一个光度计主体37。图6是从光发射方看的探针36的简化结构正视图。在探针36中，多个光发射光纤38和多个光接收光纤39捆扎成束并装在护套40中。因此，探针36发射用于测量层厚度的光并接收在底层12和导电衬底11中多次反射的相干光。光度计主体37配置有用于通过探针36接收到的相干光根据方程(4)计算底层12的厚度的计算部分。
控制装置28是一个可以通过安装有中央处理单元(CPU)的微电脑执行的处理电路。控制装置28例如包括只读存储器(ROM)和一个预先存储在ROM中用于操纵控制装置28的控制程序。根据从ROM读出的控制程序，控制装置28响应于从光谱仪27输出的作为测量结果的层厚度，输出用于控制驱动装置24的转动速度的控制信号。
在涂敷设备21中，当在导电衬底11上形成底层12时，通过采用光学干涉测量法的光谱仪27依次测量底层12的厚度，并且把作为测量结果的层的厚度值反馈给控制装置28，控制装置28再通过驱动装置24和升降装置23控制从涂敷溶液25中提升导电衬底11的速度，从而调节底层12的厚度。烘干在提升的同时厚度被调节的导电衬底11，并且由此形成底层12。在形成作为底层12的外层的电荷产生层13以及作为电荷产生层13的外层的电荷迁移层14时，可以按照与形成底层相同的方式调节层厚度。
在构成以上述方式制造的感光体10的导电衬底11中，表面粗糙度处于一个优选的范围，并且可以通过光学干涉测量法高精度地测量层的厚度，使得当涂敷并形成层12、13和14并构成光敏层5时，可以稳定地形成层的厚度并防止层厚度出现不均匀。另外，还可以制造不发生干涉条纹的感光体10。
图7是成像设备50的简化结构截面图，是本发明的另一个实施例。图7所示的成像设备50是本发明的另一个实施例，在此以复印机50作为成像设备的一个实例进行描述。下面将参见图7描述配置有本实施例感光体10的复印机50的结构和操作。
复印机50包括文件馈送部分53、图像读取部分54、纸张馈送部分55、成象部分56和定影部分57。文件馈送部分53包括用于馈送将被复印的文件纸张的自动翻转文件馈送器(简称RADF)58、处于预定位置上的安放从RADF58馈送的文件纸张的文件架59和文件接收盘60。RADF58相对于文件架59具有预定的位置关系，并且以RADF58可以打开并关闭的方式被支撑。RADF58以文件纸张的一面安置在文件架59上与图像读取部分54相对的预定位置的方式馈送文件纸张。当完成一面的图像读取时，文件纸张以文件纸张的另一面安置在文件架59上与图像读取部分54相对的预定位置的方式馈送文件纸张。当完成该面的图像读取时，文件纸张被排出到文件接收盘60。结合复印机50的整个操作来控制文件纸张的馈送和正反面翻转操作。当只复印文件纸张的一面时，不执行翻转操作。
图像读取部分54位于文件59之下，通过RADF58执行对馈送到文件架59上的文件纸张读取图像的操作，并且包括平行地沿文件架59的下表面往复运动的第一和第二扫描单元61和62、光学透镜63、CCD(电荷耦合器件)行传感器64，该传感器是一个光电转换器。
第一扫描单元61包括一个用于把将要读取的文件纸张的图像表面暴露于光线的曝光灯和一个把从文件纸张反射的光图像偏转到预定方向的第一反射镜66，该第一扫描单元61相对于文件架59的下表面维持恒定速度的同时，以预定的扫描速率往复运动。第二扫描单元62包括第二和第三反射镜67和68，把被第一扫描单元61的第一反射镜66偏转的反射光图像偏转到预定方向，并且在维持与第一扫描单元61有特定的速率关系的同时平行地沿文件架59的下表面往复运动。
光学透镜63按比例地缩小被第二扫描单元62的第三反射镜68偏转的反射光图像，并且在CCD行传感器64的预定位置上形成图像。CCD行传感器64是一个可以读取黑白图像或彩色图像并输出行数据、光电转换依次由光学透镜63形成的反射光图像、从而输出电信号的三行彩色CCD，其中输出的行数据是颜色分离成红(R)、绿(G)和兰(B)三种彩色分量的结果。作为电信号从CCD行传感器64输出的文件图像信息被输入到成象部分。
纸张馈送部分55位于复印机50的最下部，并包括一个用于放置作为记录介质的记录纸张P的纸盘69，用于逐一馈送纸盘69中的记录纸张P的分离辊70和馈纸辊71，将作为记录介质的记录纸张P提供给成象部分56。从纸张馈送部分55逐一单独供给的记录纸张P在通过设置于输送记录纸张P的路径上几个位置处的输送辊72到达成象部分56之前即被输送，并且以一定的纸张馈送计时将记录纸张P供给成象部分56，其中纸张馈送计时由一对设置在成象部分56之前的阻力辊73控制。
成象部分56位于图像读取部分54和纸张馈送部分55之间并包括一个激光束扫描单元、一个成象站75和一个转印输送带机构76。转印输送带机构76位于成象部分56之下并包括一个驱动辊77、一个随动辊78、一个在驱动辊77和随动辊78之间拉紧的循环带79，一个用于对循环带79的表面充电以吸收记录纸张P的用于吸收的充电器80，和一个用于卸下被吸收在循环带79上的记录纸张P的放电器81。
循环带79通过绕图82所示方向的驱动辊77轴的旋转所驱动。以由阻力辊73控制的计时提供的记录纸张P被静电吸收到其表面并充电器80充电一边吸收的循环带79上，并且在箭头82所示的方向上输送。在箭头82所示方向由循环带79输送的过程中，图像被转印到记录纸张P上，被转印图像的记录纸张P通过放电器81与循环带79脱开并输送到定影部分57。为了通过阻力辊73进行纸张馈送的计时控制，由一个设置在输送路径中的传感器(未示出)探测输送方向上记录纸张P的边缘部分，并且响应于传感器的探测输出馈送纸张。
复印机50是一个彩色复印机，于是，对应于黑、青、品红和黄色设置四组激光束扫描单元74和成象站75。激光束扫描单元合成相机祖5具有彼此相同的结构，除了用于显影的色粉颜色不同，如黑色、青、品红和黄色，并且分别输入对应于图像文件信息的黑色分量图像的象素信号、对应于图像文件信息的青色分量图像的象素信号、对应于图像文件信息的品红色分量图像的象素信号、对应于图像文件信息的黄色分量图像的象素信号。因此，下面以黑色激光束扫描单元74和黑色成象站75为例进行描述，其它的不作说明。当希望单独表示对应于每种颜色的激光束扫描单元74和成象站75时，采用下角标黑色用b，青为c，品红为m，黄色为y。
图8是用于黑色成象的激光扫描单元74b和成像站75b的结构放大图。激光束扫描单元74b包括一个半导体激光器元件(未示出)，发射根据图像读取部分54输入的图像文件信息调制的点光束；一个多边形反射镜83b，把来自半导体激光器元件发出的激光束偏转到主扫描方向；fθ透镜84b和85b以及反射镜86b、87b和88b，把被多边形反射镜83b偏转的激光束聚焦到感光体10b的表面上，从而形成一个图像。成象站75b的感光体10b的表面暴露于被反射镜88b反射的激光束，并且由此形成静电潜像。激光束扫描单元74b构成的曝光设备对感光体10b的表面辐射光束以曝光。
作为曝光设备的激光束扫描单元74b以1200dpi或更大的象素密度进行图像曝光，使得在感光体10b的表面上形成静电潜像。也就是说，具有激光束扫描单元74的本实施例的复印机50是一种高分辨率的设备。
成像站75b包括在箭头F方向绕轴89b转动支撑的感光体10b和沿感光体10b的外围表面定位的随动设备在感光体10b的表面如上所述地暴露于激光束之前对其均匀地充电的充电器91b；显影装置92b，对通过暴露于从激光束扫描单元74b输出的激光束而形成在感光体10b表面的潜像显影，从而形成可见图像；用于转印的放电器93b，通过循环带79与感光体10b相对被把记录纸张P上显影的图像转印到循环带79上；和一个清洁单元94b，在潜像的显影处理之后去除并收集剩余在感光体10表面上的色粉。在箭头F所示的转动方向上从上到下依次设置充电器91b、显影装置92b、用于转印的放电器93b和清洁单元94b。
充电器91b通过放电对感光体10b的表面均匀地充电。感光体10b的均匀充电的表面根据图像文件信息以及曝光部分和非曝光部分之间电荷量的差异而被激光束扫描单元74b发出的激光束曝光，使得形成静电潜像。
显影装置92b包括一个与感光体10b相对的显影辊95b、一个把包含色粉的显影剂提供给显影辊95b的显影剂输送辊96b，和一个旋转支撑显影辊95b及显影剂输送辊96b、并在其内部空间放置显影剂的外套97b。显影剂从显影装置92b的显影辊提供给感光体10b的形成于静电潜像的表面，使得静电潜像被显影并转变成可见图像。可见图像通过如上所述的用于转印的放电器93b转印到循环带79上的记录纸张P上。
参见图7，在黑色图像的情况下，青、品红和黄色图像依次转印到以同样方式被转印了黑色图像的记录纸张P上，同时，被吸在循环带79上的记录纸张P在箭头82所示的方向上被输送并通过依次设置在输送方向上从上游到下游路径中的青、品红和黄色激光束扫描单元74c、74m和74y以及成象站75c、75m和75y。因而，在记录纸张P上形成全色图像。形成于全色图像的记录纸张P从放电器81处与循环带79脱离并被提供给定影部分57。
定影部分57包括一个配置有加热装置(未示出)的加热辊98，和一个与加热辊98相对并被加热辊98压住从而形成接触部分、即辊隙部分100的压力辊99。提供给定影部分57的记录纸张P被加热和施压的同时通过辊隙部分100，使得记录纸张P上的显影剂被定影以形成固化图像。
当只在一个表面上形成图像或在第一表面上形成图像并翻转纸张之后在第二表面上形成图像时，由定影部分57定影的记录纸张P通过开关闸门101向上馈送。另外，记录纸张P通过出纸辊102被排出到出纸盘103。在图像形成于一个表面上并再继续形成在其它表面的情况下，记录纸张P通过开关闸门101被向下馈送，通过“之”字形输送路径104并被翻转。然后，记录纸张P又被输送到成象部分56。图像按照与上述相同的方式形成在被提供给成象部分56的记录纸张P上。
如上所述，本实施例的复印机50包括具有导电衬底11的感光体10，导电衬底11的表面粗糙度限制在以Ry、Ra、Rz、Sm和Pc为粗糙度指标的优选范围内；激光束扫描单元74，以1200dpi或更大的象素密度对感光体10的表面上辐射光束以进行图像曝光。由此在具有感光衬底11的感光体10上以1200dpi或更大的象素密度进行图像曝光，从而形成静电潜像。因此，可以实现一种能够避免出现干涉条纹并形成高分辨率和高质量图像的复印机。
实例以下将描述本发明的实例。但是，本发明不限于这些实例。
实例1到11制备一个由铝制成的直径为30mm、厚度为0.75mm、长度为322.3mm的柱状导电衬底。利用金刚石切削工具切削并处理铝制此柱状导电衬底的外围表面，同时改变切削工具的刀刃的形状、切削工具的穿行速度以及润滑剂的类型等。通过此种方式加工表面，使得表面的粗糙度处于本发明的范围内(a)轮廓最大高度Ry0.8～1.4μm，(b)轮廓算术平均偏差Ra0.10～0.15μm，(c)微观不平度十点高度0.7～1.3μm，(d)轮廓微观不平度的平均距离Sm5～30μm，和(e)峰数Pc60-100。用表面粗糙度测量计SURFCOM570A(Tokyo Seimitsu Co.Ltd.)测量切削并处理后的导电衬底的表面粗糙度，即(a)～(e)。
首先，在以上述方式加工的表面上形成底层。作为用于底层的涂敷溶液，使用这样一种溶液，即把6份重量的共聚酰亚胺树脂(由Toray Industries Inc.)溶解到94份重量的甲醇中。此涂敷溶液通过涂敷设备21施加到导电衬底，并且被调节层的厚度，形成厚度约为0.9μm的底层。涂敷设备中用于通过光学干涉测量仪测量层厚度的光谱仪为Otsuka Electronics Co.，Ltd制造的MCPD-1100。MCPD-1100有一个直径为10mm的光学探针，此探针设置在导电衬底径向的延伸方向的一个位置上，离开导电衬底的外围表面大约2mm。因而，导电衬底外围表面中的光辐射直径约为3mm。用于测量层厚度的光的波长为550nm-850nm，并且测量涂敷的底层膜的反射光谱。在测量之前，用相同的成分形成已知厚度的底层，根据方程(4)从干涉图案中获得底层的折射率，并且输入到光度计主体的计算部分。前获得的折射率和测得的涂敷底层膜的反射光谱用于根据方程(4)获得层的厚度。
接下来，形成一个电荷产生层作为底层的外层。作为电荷产生层的涂敷溶液，使用一种通过混合一份无X-金属酞菁、一重量份的butyral树脂(由Sekisui Chemical Co.，Ltd制造的S-LEC BM-2)和120重量份的四氢呋喃并通过球磨机分散该混合物12小时而制备的溶液。利用涂敷设备21将此涂敷溶液施加到底层的外层上，同时调节层的厚度，由此形成厚度约为0.2μm的电荷产生层。按照与上述测量底层厚度相同的方式测量该层的厚度。
接下来，形成一个电荷迁移层作为电荷产生层的外层。作为电荷迁移层的涂敷溶液，使用一种通过对8重量份的二氯乙烷中加入一份腙基电荷迁移材料(由NIPPON KAYAKU CO.，LTD制造的ABPH)、一重量份的聚碳酸酯树脂(由TEIJIN CHEMICALS LTD.制造的Panlite L-1250)和0.00013重量份的聚硅氧烷调平剂(由Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.制造的KF-96)并以45℃加热该混合物、然后在该混合物被溶解之后自然冷却而制备的溶液。利用涂敷设备21将该涂敷溶液施加到电荷产生层的外层并同时调节该层的厚度，由此形成一个厚度约为22μm的电荷迁移层。用于测量该层厚度的光波长为650-750nm，测量电荷产生层和电荷迁移层的组合涂敷膜的反射光谱，并且根据方程(4)获得电荷产生层和电荷迁移层的组合层的厚度。然后，从中减去电荷产生层的厚度以获得电荷迁移层的厚度。通过这种方式制备例1至11所述的配置有表面粗糙度指标处于本发明范围内的导电衬底的感光体。
比较例1-11
按照与实例1-11相同的方式通过切削和处理导电衬底的外围表面并同时改变切削条件如切削工具的刀刃的形状、切削工具的穿行速度以及润滑剂的类型等制备比较例1-11的感光体，除了精工其表面以使得表面粗糙度Ry、Ra、Rz、Sm和Pc中的至少一个指标值处于本发明的范围之外。
把以上述方式制造的实例1-11和比较例1-11的感光体安装到一个复印机中并评估该复印机的成象质量。评估感光体制造过程中底层的层厚测量(以下称作“UC”膜厚度测量)困难度及电荷产生层和电荷迁移层的总厚度测量的困难度(以下称作“CT膜厚度测量”)。以下将描述评估判断标准。
质量将实例1-11和比较例1-10的感光体安装到一个配置有激光束扫描单元的复印机中，其中该激光束扫描单元发射波长为780nm的激光，用于在对该激光敏感的感光体表面以1200dpi的象素密度进行图像曝光，使得在记录纸张上形成图像。只把比较例11的感光体安装到配置有激光束扫描单元的复印机中，其中该激光束扫描单元发射780nm波长的激光，用于在对该激光敏感的感光体表面以600dpi的象素密度进行图像曝光，使得在记录纸张上形成图像。也就是说，在比较例11中，评估通过一个低分辨率复印机形成的图像的质量，其中该复印机利用了一个包含导电衬底的感光体，导电衬底的表面粗糙度处于本发明的范围之外。
视觉观察由安装类每种感光体的复印机形成的图像并以下列判断标准进行评估当没有观察到图像缺陷时，评定该感光体为“非常好”(VG)；当略微观察到干涉条纹和/或黑色光斑、但不造成实际问题时，评定该感光体为“好”(G)；当观察到很多干涉条纹和/或黑斑，以致于感光体不能经受实际使用时，评定该感光体为“差”(P)。
UC膜厚度的测量利用形成底层的过程中测量底层厚度期间测得的反射光谱的干涉图案评估测量的困难度。图9-11是测量底层厚度期间的反射光谱曲线。图9-11中所示的线111、112和113分别是测量底层厚度期间的反射光谱。当在如同图9中线111的测量波长范围中至少有两个干涉峰并且可以很容易地测量厚度是，评定该感光体为“好”(G)。当虽然在图10中线112的测量波长范围内要观察到干涉峰比较困难，但还可以测量厚度时，评定该感光体为“可以”(F)。当在如图11中线113的测量波长范围内没有干涉峰并且不能测量该厚度时，评定该感光体为“差”(P)。
CT膜厚度测量在形成电荷迁移层的过程中测量电荷产生层和电荷迁移层的组合厚度期间，利用测得的反射光谱的干涉图案评估测量的困难度。图12-14是表示电荷产生层和电荷迁移层组合厚度的测量期间反射光谱的曲线。图12-14所示的线114、115和116分别是测量层厚度期间的反射光谱。当在如图12中线114的测量波长范围内观察到有限的干涉峰、并可以很容易地测得该厚度时，感光体评定为“好”(G)。当虽然在如图13所示的线115的测量波长范围内要观察到干涉峰较为困难、但可以测量厚度时，评定感光体为“可以”(F)。当在如图14中线116的测量波长范围内没有干涉峰并且不能测量该厚度时，评定该感光体为“差”(P)。
表1集中表示了实例1-11和比较例1-11的评估结果。如表1所示，在实例1-11中，图像质量评估结果不是“VG”就是“G”，UC膜厚度测量和CT膜厚度测量的评估结果不是“G”就是“F”。换言之，当把包括表面被精加工的导电衬底的感光体应用到高分辨率成象设备中时，其中该表面粗糙度的指标处于本发明限定的优选范围内，可以成功地形成高质量图像被通过光学干涉测量法高精度地成功测量光敏层的厚度。
在比较例1-9中，把包括表面被精加工的导电衬底的感光体应用到高分辨率成像设备中，该表面粗糙度的至少一项指标处于本发明限定的优选范围之外，图像质量评定为“P”。在比较例10中，膜厚度测量评定为“P”。特别是，在作为本发明表面粗糙度最具特征的指数、即峰数Pc小于下限的比较例9中，虽然UC和CT膜厚度测量评定为“G”，但图像质量评定为“P”。在峰数Pc大于上限的比较例10中，虽然图像质量评定为“VG”，但UC和CT膜厚度测量评定为“P”。
在比较例11中，其中把包括表面被加工使表面粗糙度的所有指标处于本发明限定的优选范围之外的导电衬底的感光体应用到600dpi低分辨率成像设备中，图像质量评定为“VG”，并且因为PC小于下限，所以UC和CT膜厚度测量评定为“G”。
比较例1-11的评估结果表明，在600dpi的低分辨率成像设备中，即使导电衬底的表面不是特别粗糙也可以获得一定的质量，并且因此很容易通过光学干涉测量法测量层的厚度。另一方面，在具有1200dpi的高分辨率成象设备中，很难实现良好的图像质量以及通过光学干涉测量法不用精确限定表面粗糙度地测量膜厚度。换言之，在包含一个曝光设备的成象设备中显著地表现出了改善图像质量并通过精确定义导电衬底的表面粗糙度利用光学干涉测量法高精度地测量膜厚度的效果，其中包含的曝光设备通过在感光体表面以1200dpi的象素密度进行图像曝光而形成静电潜像。
表1
在不脱离本发明实质和必要特征的前提下可以以其它具体的方式实施本发明。在此，本发明的实施例只出于举例说明而非限制地目的，本发明的范围由所附的权利要求限定而非由前述说明表示，所有出于权利要求范围内的改型都包含于此。
权利要求
1.一种电子照相用感光体(10)，包括导电衬底(11)；和光敏层(15)，位于导电衬底上并曝露于相干光下，其中，导电衬底的表面粗糙度为，轮廓最大高度(Ry)、轮廓算术平均偏差(Ra)、微观不平度十点高度(Rz)和作为横截面曲线峰-峰间距平均值的轮廓微观不平度的平均距离(Sm)满足下式(a)Ry＝0.8～1.4μm(b)Ra＝0.10～0.15μm(c)Rz＝0.7～1.3μm(d)Sm＝5～30μm，峰数Pc满足(e)Pc＝60～100。
2.一种制作电子照相用感光体的方法，其中，通过顺次涂敷在导电衬底(11)上形成一个电荷产生层、一个电荷迁移层，或者，一个底层、一个电荷产生层和一个电荷迁移层，该方法包括制备导电衬底，该衬底中轮廓最大高度(Ry)、轮廓算术平均偏差(Ra)、微观不平度十点高度(Rz)和作为横截面曲线峰-峰间距平均值的轮廓微观不平度的平均距离(Sm)满足下式(a)Ry＝0.8～1.4μm(b)Ra＝0.10～0.15μm(c)Rz＝0.7～1.3μm(d)Sm＝5～30μm，峰数Pc满足(e)Pc＝60～100，当进行涂敷以在导电衬底上形成各层时，依次通过光学干涉测量法测量各层的厚度，将测量结果反馈给控制装置，和根据测量结果，通过控制装置的输出控制涂敷量，从而调节各层的厚度。
3.一种成像设备，包括如权利要求1所述的电子照相用感光体(10)；和用于以1200dpi或更大的象素密度进行图像曝光以在电子照相用感光体(10)的表面上形成静电潜像的曝光设备。
4.如权利要求3所述的成像设备，其中，曝光设备发射波长为780nm的激光。
全文摘要
本发明的目的在于通过限制导电衬底的表面粗糙度来防止出现图像的干涉条纹，并且可以通过光学干涉测量法精确地测量层的厚度。设置在电子照相用感光体(10)中的导电衬底(11)的表面粗糙度轮廓最大高度Ry＝0.8～1.4μm、轮廓算术平均偏差Ra＝0.10～0.15μm、微观不平度十点高度Rz＝0.7～1.3μm和轮廓微观不平度的平均距离Sm＝5～30μm，并且峰数Pc＝60～100。在此电子照相用感光体(10)中，用于曝光的光束散射到可以避免干涉条纹的程度，并且在通过光学干涉测量法测量光敏层的厚度期间形成一种干涉图案，使得可以高精度地测量层的厚度。
文档编号G03G5/05GK1490676SQ0315894
公开日2004年4月21日 申请日期2003年9月12日 优先权日2002年9月13日
发明者桥本昌树, 森田和茂, 角井幹男, 田中裕二, 坂元雅遊亀, , 二, 男, 茂 申请人:夏普株式会社