一种负型感光性树脂组合物、图案形成方法、固化膜、绝缘膜、滤色器及显示装置制造方法
【专利摘要】本发明提供能够以低曝光量形成密合性优异的图案的负型感光性树脂组合物、使用该负型感光性树脂组合物的图案形成方法、使用该负型感光性树脂组合物而形成的固化膜、绝缘膜及滤色器、以及具备该固化膜、绝缘膜或滤色器的显示装置。本发明的负型感光性树脂组合物含有下述式（1）所示的化合物。式中，R1和R2分别独立地表示氢原子或有机基团，R1和R2中的至少一方表示有机基团。对于R1和R2，它们可以键合而形成环状结构，也可以包含杂原子的键。R3表示单键或有机基团。R4～R9分别独立地表示氢原子、有机基团等，但是，R6和R7不为羟基。R10表示氢原子或有机基团。
【专利说明】一种负型感光性树脂组合物、图案形成方法、固化膜、绝缘膜、滤色器及显示装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及负型感光性树脂组合物、使用该负型感光性树脂组合物的图案形成方法、使用该负型感光性树脂组合物而形成的固化膜、绝缘膜及滤色器、以及具备该固化膜、绝缘膜或滤色器的显示装置。
【背景技术】
[0002]负型感光性树脂组合物具有因紫外线等电磁波的照射而固化的特性。对于该负型感光性树脂组合物而言，由于能够使照射了电磁波的部分固化而得到所需形状的图案，因此广泛地用于显示装置、半导体装置、电子部件、微机电系统(MEMS)等各种用途。例如在显示装置中，被用作液晶显示器、有机EL显示器等中的平坦化膜、绝缘膜、滤色器、黑矩阵、间隔件、隔壁等材料。
[0003]作为此类负型感光性树脂组合物。为了确保制品的可靠性，在形成微小图案时也要求与基板密合这样的高密合性。为此，以往，提出了一种负型感光性树脂组合物，其含有胺系硅烷偶联剂作为密合增强剂(参照专利文献I)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本特开2000-035670号公报
[0007]专利文献2:日本特开2011-052214号公报
【发明内容】
[0008]发明要解决的课题
[0009]但是，近年来，从更进一步提高生产率的观点出发，迫切需要能够以低曝光量形成良好形状的图案的负型感光性树脂组合物。
[0010]但是，如专利文献I那样，在含有胺系硅烷偶联剂作为密合增强剂的情况下，虽然提高了与基板的密合性，但是存在使图案形成所需的曝光量增加的问题。
[0011]本发明鉴于上述课题而完成，其目的在于提供能够以低曝光量形成密合性优异的图案的负型感光性树脂组合物、使用该负型感光性树脂组合物的图案形成方法、使用该负型感光性树脂组合物而形成的固化膜、绝缘膜及滤色器、以及具备该固化膜、绝缘膜或滤色器的显示装置。
[0012]用于解决课题的手段
[0013]本发明人为了达成上述目的反复进行了深入研究。结果发现可以通过使负型感光性树脂组合物含有特定的化合物来解决上述课题，以至完成本发明。具体而言，本发明提供如以下所述的物质。
[0014]本发明的第一方式为一种含有下述式(I)所示的化合物的负型感光性树脂组合物。[0015]【化1】
[0016]
【权利要求】
1.一种负型感光性树脂组合物，其含有下述式(I)所示的化合物，
2.根据权利要求1所述的负型感光性树脂组合物，其还含有选自具有卡多结构的树月旨、具有酚性羟基的树脂、聚酰亚胺树脂和环氧树脂中的树脂。
3.根据权利要求1所述的负型感光性树脂组合物，其还含有碱可溶性树脂、光聚合引发剂和有机溶剂。
4.根据权利要求3所述的负型感光性树脂组合物，其还含有光聚合性单体。
5.根据权利要求3或4所述的负型感光性树脂组合物，其还含有着色剂。
6.根据权利要求5所述的负型感光性树脂组合物，其中，所述着色剂为遮光剂。`
7.一种图案形成方法，其使用权利要求1~6中任一项所述的负型感光性树脂组合物形成涂膜或成形体，并对该涂膜或成形体以规定图案状照射电磁波，进行显影。
8.一种固化膜，其使用权利要求1~4中任一项所述的负型感光性树脂组合物来形成。
9.一种绝缘膜，其使用权利要求1~4中任一项所述的负型感光性树脂组合物来形成。
10.一种滤色器，其使用权利要求5或6所述的负型感光性树脂组合物来形成。
11.一种显示装置，其具备权利要求8所述的固化膜、权利要求9所述的绝缘膜或权利要求10所述的滤色器。
【文档编号】G02B5/20GK103797418SQ201280040593
【公开日】2014年5月14日 申请日期:2012年6月15日 优先权日:2011年6月24日
【发明者】盐田大, 黑子麻祐美, 野田国宏, 田所惠典 申请人:东京应化工业株式会社