专利名称：一种带加热装置的连续真空镀膜设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种真空镀膜设备，特别是带非真空加热装置的连续真空镀膜设备，属于太阳能电池技术领域。
背景技术：
近年，随着IXD、太阳能等行业规模的快速扩张，真空连续镀膜机作为这些行业中已被广泛应用的设备，怎样迅速简单的增加其生产能力，提高镀膜性能，意义重大，由于镀 膜腔需要高真空度，因此连续镀膜机一般包括七个室，分别是进片真空室、前缓冲真空室、前过渡真空室、镀膜真空室、后过渡真空室、后缓冲真空室以及出片室真空室，镀膜时基片依次进入这些真空室，由于基片需要一定的温度，因此在进片真空室、前缓冲真空室、前过渡真空室、镀膜真空室其中一个或多个腔室会安装有加热装置，使得基片表面获得镀膜时需要的温度，中国专利ZL200920056199. 4《多室连续真空镀膜装置》公开了这样的技术，但目前来说，这种加热方式存在着以下问题(一)升温慢由于是在真空室内加热，升温方式靠热辐射，升温速度慢，因此为了获得需要的温度，往往采用低走速甚至停留加热的办法，生产效率低；(二)对设备要求高由于有些薄膜需要在高温下沉积，因此真空室内的器件要充分考虑热膨胀及耐热性的问题，设备成本高。
发明内容针对以上技术存在的问题，本实用新型解决如何克服连续镀膜机真空室内加热速度慢、加热温度低等技术难题，设计一种真空镀膜设备的加热模式及装置，实现快速加热。为了实现以上任务，本实用新型提供一种带加热装置的连续真空镀膜设备，包括真空连续镀膜机和加热装置，真空连续镀膜机主要由真空的进片室、缓冲室、过渡室、镀膜室和出片室构成，其技术特征是真空连续镀膜机的进片室前端设有非真空加热装置，该加热装置包括加热室、加热器、保温层以及温度控制器，加热室内装有加热器，加热室外设有保温层。真空连续镀膜机的进片室前端的非真空加热装置，其加热器是由红外加热管和反射板组成的红外加热器，反射板安装在加热室的内壁上。真空连续镀膜机的进片室前端的非真空加热装置，其温度控制器包括温控模块和探测器。非真空加热装置的加热室与真空连续镀膜机的进片室之间设有隔离门。连续真空镀膜设备还包括基片传送机构，加热室内预热的基片由基片传送机构输送至真空连续镀膜机。基片传送机构为滚轮式传送机构。基片放置在基片架上。非真空加热装置的加热室为封闭腔体，其内壁装有反射板和红外加热器，加热室的下底面装有带保温层的升降平台。加热室的下底面的升降平台上装有传输滚轴和放置基片的托盘，该托盘由传输滚轴传动。加热室的下方设有控制升降平台运动的气缸。本实用新型产生的积极效果由于采用了不需要抽真空的加热室以及热惯性小的红外加热器，利用真空室抽真空的等待时间进行加热，既节约了加热时间，又避免真空室内加热速度慢、加热温度低的缺点，缩短了生产节拍，提高了生产效率；而且非真空加热室易于设计安装保温层，减少了热量散发到周围工作环境，适合连续镀膜设备所处的恒温、恒湿的洁净室使用，采用热惯性小的红外加热器，可即开即用、即关即停、避免了能量的无效投入，降低了能耗；同时由于真空室不需要加热，大大降低对元器件耐高温的要求，减少了成本和延长了元器件的使用寿命，而且本实用新型既适用新建连续真空镀膜设备还适合改建连续真空镀膜设备，改建简单方便，成本低，速度快。
图I :本实用新型实施例一的连续真空镀膜设备的布置图。 图2 :图I中A-A剖视图。图3 :本实用新型实施例二的连续真空镀膜设备的布置图。图4 :图3中B-B剖视图。图5 :实施例三连续真空镀膜设备的布置图。图6 :图5中C-C剖视图。图中1、非真空加热装置，101、加热室，102、保温层，103、反射板，104、红外加热
管，2、进片真空室(简称进片室)，3、前缓冲真空室(简称前缓冲室)，4、前过渡真空室(简称前过渡室)，5、镀膜真空室(简称镀膜室)，6、后过渡真空室(简称后过渡室)，7、后缓冲真空室(简称后缓冲室)，8、出片室真空室(简称出片室),9、基片，10、滚轮,10’、基片架，11、隔离门，10’ ’、托盘，12、升降平台，13、气缸。
具体实施方式
连续真空镀膜设备的加热装置，包括加热室、加热器、保温层以及温度控制系统，加热室位于连续真空镀膜设备的前端，加热器位于加热室内，保温层位于加热室外，加热室不需要抽真空。加热室与进片真空室相连，加热室入口处安装有可以打开和关闭的隔离门。加热器为红外加热器，包括红外加热管和反射板，反射板安装在加热室的内壁上。温度控制系统包括温控模块和探测系统。本实用新型在连续真空镀膜机的进片真空室前加装非真空加热室，利用了基片固有的进料等待时间进行加热，基片加热完成后以闻走速到达锻I旲真空室，中途不再因加热而减速或停留，由于真空中物体散热慢，真空室内可不安装加热器，同时，由于非真空加热室内可以采用热惯性小的红外加热管代替电热丝加热，升降温迅速。实施例一本实施例为改装原卧式连续真空镀膜设备，加热装置I包括加热室101、保温层102、反射板103、红外加热管104，保温层102包在加热室101外壁四周，反射板103安装在加热室101上下内壁，红外加热管104在发射板103前面，加热室101与进片真空室2相连，中间由隔离门11将腔室隔开，工作时，基片9在滚轮10的带动下，进入加热室101内，基片9触压温度控制系统的探测系统的信号检测开关，隔离门11关闭，红外加热开关打开，通过温控器与工件温度探测器配合控制，高功率红外加热管104开始加热，基片9迅速升温，经实测，本改装案例中1.5X1. 7m范围内玻璃基片9升温至预定温度(120°C )，耗时小于45 s,基片9在加热室101内的固有等待时间为210s，因此基片9能得到充分的加热，当进片真空室2的隔离门11打开后，给出感应信号，加热室101加热停止，工件离开加热室101，进入进片真空室2，之后基片9以最快走速通过进片真空室2、前缓冲真空室3、前过渡真空室4直到进入镀膜真空室5后才减至镀膜工艺所要求之走速，然后通过后过渡真空室6、后缓冲真空室7、出片室真空室8，完成镀膜，基片9再通过滚轮10送出，按照本实施例完成镀膜生产节拍由原来的7分钟缩短至4分钟，大大提高生产效率，而且由于基片9温度高，通过一段时间的观察看，薄膜附着力得到明显加强，真空室不再有加热器，设备故障大大减少了。 实施例二 本实施例为改造的立式连续真空镀膜设备，在原有的设备进片真空室2前端加装加热装置1，基片9放置在基片架10’上，基片架10’载着基片9同实施例一一样分别进入并通过加热室101、进片真空室2、前缓冲真空室3、前过渡真空室4、镀膜真空室5、后过渡真空室6、后缓冲真空室7、出片室真空室8，基片9镀膜完成后，取下基片9，基片架10’循环回到加热室101前，放好基片9后，再进入加热室101，形成闭环生产。实施例三本实施例为改装闭环卧式连续真空镀膜设备，与实施例一的开环不同处在于本实施例为闭环，由于需要托盘10’ ’来承载基片9，因此需要装载基片9的托盘10’ ’进行循环闭环运动，本实施例的闭环为上下结构，即循环传动在真空镀膜设备的下部，因此需要升降平台12在入口处将装载基片9的托盘10’ ’通过气缸13升起，在出口处将取下基片9的托盘10’’再由气缸13降落，因此本实施例的加热装置I的加热室101为下开口的封闭腔体，在其内上壁安装有反射板103和红外加热管104，外面包有保温层102，升降平台12作为其下底面进行封口，在升降平台12上安装有传输滚轴10来传输托盘10’’，在升降平台12下部安装有保温层102，因此不影响保温效果，工作时，在加热室101的下端，将基片9放在升降平台12上的托盘10’’上，升降平台12在气缸13推动下上升到加热室101内，开始启动红外加热管104进行加热，基片9迅速升温，经实测，本改装案例中两片O. 35X1. 2m的玻璃基片9升温至预定温度(120°C )，耗时小于45 S，对于本改造案例中的镀膜设备，基片9在加热室101内的固有等待时间为210s，因此基片9能得到充分的加热，当进片真空室2的隔离门11打开后，给出感应信号，加热室101加热停止，工件离开加热室101，基片9同实施例一一样分别进入并通过加热室101、进片真空室2、前缓冲真空室3、前过渡真空室4、镀膜真空室5、后过渡真空室6、后缓冲真空室7、出片室真空室8，基片9镀膜完成，装载基片9的托盘10’ ’进入升降平台12，取下基片9，升降平台12在气缸13作用下下降，通过升降平台12上的传动滚轴10将托盘10’’再传给中间的传动滚轴10，直到入口处的升降平台12上，完成一个加工循环。
权利要求1.一种带加热装置的连续真空镀膜设备，包括真空连续镀膜机和加热装置，所述真空连续镀膜机主要由真空的进片室、缓冲室、过渡室、镀膜室和出片室构成，其特征在于所述真空连续镀膜机的进片室前端设有非真空加热装置，该加热装置包括加热室、加热器、保温层以及温度控制器，加热室内装有加热器，加热室外设有保温层。
2.如权利要求I所述的带加热装置的连续真空镀膜设备，其特征在于真空连续镀膜机的进片室前端的非真空加热装置，其加热器是由红外加热管和反射板组成的红外加热器，反射板安装在加热室的内壁上。
3.如权利要求I所述的带加热装置的连续真空镀膜设备，其特征在于真空连续镀膜机的进片室前端的非真空加热装置，其温度控制器包括温控模块和探测器。
4.如权利要求I所述的带加热装置的连续真空镀膜设备，其特征在于所述非真空加热装置的加热室与真空连续镀膜机的进片室之间设有隔离门。
5.如权利要求I所述的带加热装置的连续真空镀膜设备，其特征在于所述连续真空镀膜设备还包括基片传送机构，加热室内预热的基片由基片传送机构输送至真空连续镀膜机。
6.如权利要求5所述的带加热装置的连续真空镀膜设备，其特征在于所述基片传送机构为滚轮式传送机构。
7.如权利要求5所述的带加热装置的连续真空镀膜设备，其特征在于所述基片放置在基片架上。
8.如权利要求5所述的带加热装置的连续真空镀膜设备，其特征在于所述非真空加热装置的加热室为封闭腔体，其内壁装有反射板和红外加热器，加热室的下底面装有带保温层的升降平台。
9.如权利要求8所述的带加热装置的连续真空镀膜设备，其特征在于加热室的下底面的升降平台上装有传输滚轴和放置基片的托盘，该托盘由传输滚轴传动。
10.如权利要求9所述的带加热装置的连续真空镀膜设备，其特征在于所述加热室的下方设有控制升降平台运动的气缸。
专利摘要本实用新型涉及一种真空镀膜设备，特别是带非真空加热装置的连续真空镀膜设备，属于太阳能电池技术领域。解决如何克服连续镀膜机真空室内加热速度慢、加热温度低等技术难题，设计一种真空镀膜设备的加热模式及装置，其技术特征是真空连续镀膜机的进片室前端设有非真空加热装置，该加热装置包括加热室、加热器、保温层以及温度控制器，加热室内装有加热器，加热室外设有保温层，实现快速加热，缩短了生产节拍，提高了生产效率。
文档编号C23C16/54GK202390535SQ20112050967
公开日2012年8月22日 申请日期2011年12月9日 优先权日2011年12月9日
发明者刘志斌, 宋光耀, 李毅, 翟宇宁, 龙鹏 申请人:深圳市创益科技发展有限公司