一种真空镀膜设备用真空缓冲室的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种真空镀膜设备用真空缓冲室，包括真空缓冲室本体（1）、门（3），以及安装在门（3）上分子泵（4），真空缓冲室还包括位于真空缓冲室本体（1）内部的气体分割阀（2），气体分割阀（2）由若干块镜面板组成，并通过螺栓安装在真空缓冲室本体（1）的内部，气体分割阀（2）的连接部位为腰形孔，通过螺栓与腰形孔的安装位置调节气体分割阀的宽度。具有上述结构的该种真空镀膜设备用真空缓冲室，由于相邻的真空缓冲室安装有气体分隔阀，气体分隔阀利用其本身的长度和宽度来限制相邻真空室气氛的直接大面积流通，基本上避免相互之间的气氛影响，从而大大减小了各自真空室的实际气氛与理论气氛的差距。
【专利说明】一种真空镀膜设备用真空缓冲室
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及真空镀膜设备，尤其是涉及一种真空镀膜设备用真空缓冲室。
【背景技术】
[0002]真空镀膜工艺对各自真空缓冲室的气氛有不同的要求，以此来控制镀膜产品的需求。当前真空镀膜设备对于真空缓冲室之间的连接是通过直接连接的方式，各个真空室之间的气氛难免互相流通，因此，造成各个真空缓冲室的理论气氛与实际气氛相差比较大，这种现象直接影响了基片镀膜的质量，增加了生产成本。
实用新型内容
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的问题提供一种真空镀膜设备用真空缓冲室，其目的是通过在真空缓冲室内设置的气体分割阀，保证了各自真空缓冲室所需的气氛，从而保证了基片的镀膜质量。
[0004]本实用新型的技术方案是该种真空镀膜设备用真空缓冲室包括真空缓冲室本体、门，以及安装在门上分子泵，所述的真空缓冲室还包括位于真空缓冲室本体内部的气体分割阀，所述的气体分割阀由若干块镜面板组成，并通过螺栓安装在真空缓冲室本体的内部。
[0005]所述的气体分割阀的宽度根据实际需要调节。
[0006]所述的气体分割阀的连接部位为腰形孔，通过螺栓与腰形孔的安装位置调节气体分割阀的宽度。
[0007]具有上述结构的该种真空镀膜设备用真空缓冲室，由于相邻的真空缓冲室安装有气体分隔阀，气体分隔阀利用其本身的长度和宽度来限制相邻真空室气氛的直接大面积流通，同时，分子泵一直处于工作状态，对各自的真空室进行抽真空，通过两者的配合，可以使相邻的真空缓冲室内的气氛不能直接大面积相接触，因此，基本上避免相互之间的气氛影响，从而大大减小了各自真空室的实际气氛与理论气氛的差距。
【专利附图】
【附图说明】
[0008]下面结合附图对本实用新型作进一步说明:
[0009]图1为本实用新型打开状态的结构示意图。
[0010]图2为图1所示结构A-A方向的剖视图。
[0011]图3为本实用新型的立体结构示意图。
[0012]图4为多个真空缓冲室连接的立体结构示意图。
[0013]在图1-4中，1:真空缓冲室本体；2:气体分割阀；3:门；4:分子泵。
【具体实施方式】
[0014]由图1-4所示结构可知，该种真空镀膜设备用真空缓冲室包括真空缓冲室本体1、门3，以及安装在门3上分子泵4，真空缓冲室还包括位于真空缓冲室本体I内部的气体分割阀2，气体分割阀2由若干块镜面板组成，并通过螺栓安装在真空缓冲室本体I的内部。
[0015]气体分割阀2的宽度为可调式的，可以根据实际需要进行宽度的调节，具体是，气体分割阀2的连接部位为腰形孔，通过螺栓与腰形孔的安装位置调节气体分割阀的宽度。当真空室处于正常工作状态时候，由于相邻的真空缓冲室安装有气体分隔阀2，气体分隔阀2利用其本身的长度和宽度来限制相邻真空室气氛的直接大面积流通，同时分子泵4 一直处于工作状态，对各自的真空室进行抽真空，通过两者的配合，可以使相邻的真空缓冲室内的气氛不能直接大面积相接触，因此基本上避免相互之间的气氛影响，从而大大减小了各自真空室的实际气氛与理论气氛的差距。
[0016]本实用新型技术主要是利用气体分隔阀的本身长度和宽度来限制相邻的真空室内气氛直接相互流通。当相邻的真空室内的气氛流通得到一定的限制，且各自的真空室均安装有分子泵，分子泵处于高速抽真空状态，所以彼此相邻真空室的气氛影响基本上可以消除，保证了各自真空室所需的气氛，从而保证了基片的镀膜质量。
【权利要求】
1.一种真空镀膜设备用真空缓冲室，所述的真空缓冲室包括真空缓冲室本体(I)、门(3)，以及安装在门(3)上分子泵(4)，其特征在于:所述的真空缓冲室还包括位于真空缓冲室本体(I)内部的气体分割阀(2)，所述的气体分割阀(2)由若干块镜面板组成，并通过螺栓安装在真空缓冲室本体(I)的内部。
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备用真空缓冲室，其特征在于:所述的气体分割阀(2)的连接部位为腰形孔，通过螺栓与腰形孔的安装位置调节气体分割阀的宽度。
【文档编号】C23C14/56GK203513791SQ201320199063
【公开日】2014年4月2日 申请日期:2013年4月19日 优先权日:2013年4月19日
【发明者】薛辉, 昌江 申请人:芜湖真空科技有限公司