技术总结
本发明提供一种成膜装置、成膜方法以及基板载置台。能够形成均匀的膜，且能够仅在基板上形成膜。成膜装置具有基板载置台、对基板实施成膜处理的处理室和处理气体供给机构。基板载置台包括：其上表面成为载置基板的载置面的载置部；以包围载置部的外周的方式设置的外周环；将载置部的温度调节成能够利用处理气体进行成膜的第1温度的第1温度调节部；能够将外周环的温度调节成无法利用处理气体进行成膜的第2温度的第2温度调节部，在载置部和外周环之间，整周地设置有作为绝热部发挥功能的间隙，载置面形成得比基板小，间隙以在基板被载置到载置面时基板的超出部分整周地搭于外周环的方式形成。
技术研发人员：田中诚治;里吉务
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
文档号码：201610425922
技术研发日：2016.06.16
技术公布日：2016.12.28