本发明涉及一种热丝化学气相沉积炉进出气气路装置及方法，属于热丝化学气相沉积技术领域。
背景技术：
上世纪80年代初，欧美日等发达国家掀起了化学气相沉积合成金刚石膜新材料的研究，到90年代，从理论上基本上摸清了化学气相沉积金刚石膜的生长机制，进入21世纪，无论从沉积技术，加工技术还是应用方面都取得了极大的进展。这期间，人们开发了热丝CVD法，直流等离子CVD法，射频等离子CVD法，微波等离子CVD法，直流电弧等离子CVD法，火焰燃烧CVD法，甚至激光CVD法等，经过20多年的发展，就其产业化规模和影响力来讲，微波CVD和热丝CVD为主要应用技术,与微波相比，热丝化学气相沉积金刚石薄膜技术成本较低，设备简单，易于大面积生长，目前直径和厚度已达300mm和2mm以上，该方法在涂层方面也取得了很好的成绩。
影响金刚石薄膜生长质量的因素很多，其中包括了沉积腔室中反应气体的分布和流动。以往采取的管式进出气方式，容易造成气流分布不均匀，布置在热丝架上方的气管还容易有沉积物产生并掉落粉尘、颗粒状杂质。
技术实现要素：
为了克服现有技术的不足,本发明提供一种热丝化学气相沉积炉进出气气路装置及方法。
一种热丝化学气相沉积炉进出气气路装置，圆柱形腔体的上侧顶角部位沿45度角焊接进气挡板，进气挡板与腔室顶角部形成一个密闭的进气室，气挡板分布有进气孔，进气室连接进气口，圆柱形腔体的真空腔室内的底部连接电极柱、抽气室，抽气室连接升降主轴和抽气口，升降主轴连接基片台，电极柱连接热丝，抽气室有抽气室壁，抽气室与升降主轴之间有间缝隙。
气挡板上沿中间水平方向均匀地钻几十个小孔作为进气孔；进气孔的数量大于2。
进气室为进气管道，进气管道安装在圆柱形腔体的顶部，进气管道上分布有进气孔，进气孔的数量大于2，进气口连接进气管道。
进气孔包括第一进气孔和第二进气孔。
在沉积腔室底部，电极柱和升降主轴之间焊接一个金属罩作为抽气室壁，在抽气室壁下面的沉积腔室底部上开口作为抽气口，抽气室壁与沉积腔室底部形成抽气室，抽气室与升降主轴的间缝隙就成为了一个均匀出气的抽气通道。
一种热丝化学气相沉积炉进出气气路方法，含有以下步骤；
在化学气相沉积炉腔室中安装进气室和抽气室作为缓冲，从进气室上均匀分布的进气孔进气，从抽气室与升降主轴间缝隙出气；
在腔室顶角部位沿45度角焊接一块金属板作为进气挡板，形成一个环状的进气室；
在沉积腔室底部、电极柱和升降主轴之间焊接一个抽气罩，抽气罩与沉积腔室底部、升降主轴之间形成的空间；
在进气室挡板上沿中间水平方向均匀地钻的几十个小孔作为进气孔；
还包括如下步骤；
在腔室外壁上开口作为外部进气口，在进气挡板上沿中间水平方向均匀地钻几十个小孔作为进气孔；
在沉积腔室底部，电极柱和升降主轴之间焊接一个金属罩作为抽气室壁，在抽气室壁下面的沉积腔室底部上开口作为抽气口，抽气室壁与沉积腔室底部形成抽气室，抽气室与升降主轴间缝隙就成为了一个均匀出气的抽气通道。
外部气体首先通过进气口进入腔室上部的进气室，缓冲后通过几十个进气孔流动到热丝上方，最后从抽气室与升降主轴间缝隙进入抽气室，缓冲后从抽气口被抽到沉积腔室外。
进气室和抽气室体积远远大于进气孔和抽气缝，从而使进气和出气非常均匀。
本发明的优点是可以解决热丝化学气相沉积设备沉积腔室中反应气体分布不均匀的问题，同时也不易产生粉尘、颗粒掉落到沉积基体表面。进气孔和进气室尺寸相比很小，气流先在进气室充满，再有气孔溢出，可保证每个进气孔的流量大致相当。同样，下部的抽气室比抽气缝隙大得多，也可以确保抽气均匀。上部的进气室由于和水冷壁焊接在一起，冷却相对气管要好很多，不易在上形成沉积物，也就不会掉落到生长基体表面。
附图说明
当结合附图考虑时，通过参照下面的详细描述，能够更完整更好地理解本发明以及容易得知其中许多伴随的优点，但此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定，如图其中：
图1为本发明的结构示意图。
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
具体实施方式
显然，本领域技术人员基于本发明的宗旨所做的许多修改和变化属于本发明的保护范围。
本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本发明的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，当称元件被“连接”或“耦接”到另一元件时，它可以直接连接或耦接到其他元件，或者也可以存在中间元件。此外，这里使用的“连接”或“耦接”可以包括无线连接或耦接。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的任一单元和全部组合。
本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样定义，不会用理想化或过于正式的含义来解释。
为便于对本发明实施例的理解，下面将结合附图以几个具体实施例为例做进一步的解释说明，且各个实施例并不构成对本发明实施例的限定。
实施例1：如图1所示，一种热丝化学气相沉积炉进出气气路装置，圆柱形腔体16的上侧顶角部位沿45度角焊接进气挡板2，进气挡板2与腔室顶角部形成一个密闭的进气室12，气挡板2分布有进气孔，进气孔包括第一进气孔3和第二进气孔15，进气室12连接进气口4，圆柱形腔体16的真空腔室1内的底部连接电极柱6、抽气室13，抽气室13连接升降主轴9和抽气口11，升降主轴9连接基片台8，电极柱6连接热丝5，抽气室13有抽气室壁7，抽气室13与升降主轴9之间有间缝隙10。
进气室12为进气管道，进气管道安装在圆柱形腔体16的顶部，进气管道上分布有大于2的N个进气孔(N为整数)，进气口4连接进气管道；
气挡板2上沿中间水平方向均匀地钻几十个小孔作为进气孔；进气孔的数量大于2，
在沉积腔室底部，电极柱6和升降主轴9之间焊接一个金属罩作为抽气室壁7，在抽气室壁7下面的沉积腔室底部上开口作为抽气口11，抽气室壁7与沉积腔室底部形成抽气室13，抽气室13与升降主轴9的间缝隙10就成为了一个均匀出气的抽气通道。
至此整个进出气气路就完成了：外部气体首先通过进气口4进入腔室上部的第一进气室12，缓冲后通过几十个进气孔流动到热丝5上方，最后从间缝隙10进入抽气室13，缓冲后从抽气口11被抽到沉积腔室外。
实施例2：如图1所示，一种热丝化学气相沉积炉进出气气路方法，含有以下步骤；
在化学气相沉积炉腔室中安装进气室和抽气室作为缓冲，从进气室上均匀分布的进气孔进气，从抽气室与升降主轴间缝隙出气；
在腔室顶角部位沿45度角焊接一块金属板作为进气挡板2，形成一个环状的进气室；
在沉积腔室底部、电极柱6和升降主轴9之间焊接一个抽气罩，抽气罩与沉积腔室底部、升降主轴9之间形成的空间；
在进气室挡板上沿中间水平方向均匀地钻的几十个小孔作为进气孔；
还包括如下步骤；
热丝化学气相沉积设备沉积腔室通常是圆柱形双层水冷结构，在腔室顶角部位沿45度角焊接一块金属板作为进气挡板2，形成一个密闭的进气室12，在腔室外壁上开口作为外部进气口4，在进气挡板2上沿中间水平方向均匀地钻几十个小孔作为进气孔；
在沉积腔室底部，电极柱6和升降主轴9之间焊接一个金属罩作为抽气室壁7，在抽气室壁7下面的沉积腔室底部上开口作为抽气口11，抽气室壁7与沉积腔室底部形成抽气室13，抽气室与升降主轴间缝隙10就成为了一个均匀出气的抽气通道。
至此整个进出气气路就完成了：外部气体首先通过进气口4进入腔室上部的进气室12，缓冲后通过几十个进气孔流动到热丝5上方，最后从抽气室与升降主轴间缝隙10进入抽气室13，缓冲后从抽气口11被抽到沉积腔室外。
位于热丝侧上方的进气室由于与双层水冷腔室是焊接连接，热丝辐射的热量很容易传导出去，进气室壁上不容易产生粉尘等沉积物。而进气室和抽气室体积远远大于进气孔和抽气缝，从而使进气和出气非常均匀。
实施例3：本发明公开了一种热丝化学气相沉积炉进出气气路。以往热丝化学气相沉积炉中采取的管式进出气方式，容易造成气流分布不均匀，布置在热丝架上方的气路还容易有沉积物产生并掉落粉尘、颗粒状杂质。
为解决这些问题，本发明采用腔室侧上方隔离出一个进气室，以及在腔室下方制作一个抽气室13作为缓冲。实施本发明，可以解决热丝化学气相沉积设备沉积腔室中反应气体分布不均匀的问题，同时也不易产生粉尘、颗粒掉落到沉积基体表面。
如上所述，对本发明的实施例进行了详细地说明，但是只要实质上没有脱离本发明的发明点及效果可以有很多的变形，这对本领域的技术人员来说是显而易见的。因此，这样的变形例也全部包含在本发明的保护范围之内。