一种水晶灯玻璃的生产工艺的制作方法

文档序号:12959248阅读:592来源:国知局

本发明涉及水晶玻璃加工技术领域,具体涉及一种水晶灯玻璃的生产工艺。



背景技术:

水晶灯饰一般由k9水晶加工制作完成,借助水晶的晶莹剔透,色泽纯净,形成通体明亮,闪闪发光的装饰效果。源于欧洲宫廷贵族,在中国丰富发展,品种多样,是家居必备的装饰用品。现有的水晶灯玻璃的制作方法工艺复杂,而且生产出的水晶灯玻璃产品在使用过程中容易磨损或腐蚀,使用一段时间后,表面会堆积灰尘之类的污垢,使得水晶灯玻璃不再晶莹透彻,影响使用效果。因此,现有的水晶灯挂件玻璃的制作方法有待于进一步完善。



技术实现要素:

本发明的目的在于克服上述现有技术的不足,提供一种水晶灯玻璃的生产工艺,该工艺简单可控,节约能耗,生产出的水晶灯玻璃耐磨损、耐腐蚀,多层镀膜可以利用光催化效应达到自清洁的效果,透光性好,具有一定的经济效益。

本发明解决技术问题采用如下技术方案:

一种水晶灯玻璃的生产工艺,包括以下步骤:

(1)将已成型的水晶灯饰品清洗,烘干,放入磁控溅射托盘,然后送入真空镀膜机镀膜;

(2)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,直流电源溅射不锈钢平面靶,在水晶灯饰品上磁控溅射一tiox层;

(3)使用氮气和氩气的混合气体作为反应气体,直流电源溅射铬平面靶,在tiox层上磁控溅射一氮化铬薄膜层;

(4)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,交流电源溅射锌锡靶,在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层;

(5)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,交流电源溅射钛靶,在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层。

优选地,所述步骤(1)清洗的具体过程为:将成型的水晶灯饰品放在丙酮中超声清洗10~20min后,再用乙醇超声清洗10~20min,最后在去离子水中超声清洗10~20min。

优选地,所述步骤(2)氩气与氧气的体积比为1:2~3。

优选地,所述步骤(2)溅射的功率为80~120kw,tiox层的厚度为30~50nm。

优选地,所述步骤(3)氩气与氮气的体积比为1:2~3,直流电源溅射的功率为5~20kw,氮化铬薄膜层的厚度为20~30nm。

优选地,所述步骤(4)氩气与氧气的体积比为1:2~3,锌锡合金中锌与锡的质量比为1:1,交流电源溅射的功率为30~50kw,氧化锌锡层的厚度为20~30nm。

优选地,所述步骤(5)氩气与氧气的体积比为1:1~2,交流电源溅射的功率为20~45kw,氧化钛层的厚度为20~30nm。

优选地,所述水晶灯饰品为水晶灯吊坠、水晶灯散珠或水晶灯饰球。

与现有技术相比,本发明具有如下的有益效果:

(1)本发明的水晶玻璃的生产工艺,简单可控,节约能耗,生产出的水晶灯玻璃耐磨损、耐腐蚀,多层镀膜可以利用光催化效应达到自清洁的效果,透光性好,具有一定的经济效益。

(2)本发明的水晶玻璃的生产工艺,先后通过真空镀膜机镀上tiox层、氮化铬薄膜层、氧化锌锡层、氧化钛层;其中,tiox层具有良好的光透过率和吸收性,氮化铬涂层具有良好的抗粘结性,不容易在加工过程中产生积屑,改善水晶玻璃的加工性能;氧化锌锡薄膜层纯净均匀,稳定性强,膜层结合力强;最外层的二氧化钛层可以利用光催化效果达到自清洁的目的,使用效果好。

具体实施方式

以下结合具体实施例对发明作进一步详细的描述。

实施例1

一种水晶灯玻璃的生产工艺,包括以下步骤:

(1)将已成型的水晶灯饰品清洗,烘干,放入磁控溅射托盘,然后送入真空镀膜机镀膜;其中,清洗的具体过程为:将成型的水晶灯饰品放在丙酮中超声清洗12min后,再用乙醇超声清洗15min,最后在去离子水中超声清洗13min。其中,水晶灯饰品为水晶灯吊坠、水晶灯散珠或水晶灯饰球。

(2)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,直流电源溅射不锈钢平面靶,在水晶灯饰品上磁控溅射一tiox层;其中,氩气与氧气的体积比为1:2.3,溅射的功率为108kw,tiox层的厚度为46nm。

(3)使用氮气和氩气的混合气体作为反应气体,直流电源溅射铬平面靶,在tiox层上磁控溅射一氮化铬薄膜层;其中,氩气与氮气的体积比为1:3,直流电源溅射的功率为16kw,氮化铬薄膜层的厚度为26nm。

(4)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,交流电源溅射锌锡靶,在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层;其中,氩气与氧气的体积比为1:2.6,锌锡合金中锌与锡的质量比为1:1,交流电源溅射的功率为50kw,氧化锌锡层的厚度为25nm。

(5)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,交流电源溅射钛靶,在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层。其中,氩气与氧气的体积比为1:2,交流电源溅射的功率为45kw,氧化钛层的厚度为30nm。

实施例2

一种水晶灯玻璃的生产工艺,包括以下步骤:

(1)将已成型的水晶灯饰品清洗,烘干,放入磁控溅射托盘,然后送入真空镀膜机镀膜;其中,清洗的具体过程为:将成型的水晶灯饰品放在丙酮中超声清洗15min后,再用乙醇超声清洗16min,最后在去离子水中超声清洗17min。其中,水晶灯饰品为水晶灯吊坠、水晶灯散珠或水晶灯饰球。

(2)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,直流电源溅射不锈钢平面靶,在水晶灯饰品上磁控溅射一tiox层;其中,氩气与氧气的体积比为1:2.6,溅射的功率为120kw,tiox层的厚度为45nm。

(3)使用氮气和氩气的混合气体作为反应气体,直流电源溅射铬平面靶,在tiox层上磁控溅射一氮化铬薄膜层;其中,氩气与氮气的体积比为1:2.8,直流电源溅射的功率为20kw,氮化铬薄膜层的厚度为30nm。

(4)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,交流电源溅射锌锡靶,在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层;其中,氩气与氧气的体积比为1:3,锌锡合金中锌与锡的质量比为1:1,交流电源溅射的功率为50kw,氧化锌锡层的厚度为30nm。

(5)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,交流电源溅射钛靶,在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层。其中,氩气与氧气的体积比为1:1~2,交流电源溅射的功率为20~45kw,氧化钛层的厚度为20~30nm。

实施例3

一种水晶灯玻璃的生产工艺,包括以下步骤:

(1)将已成型的水晶灯饰品清洗,烘干,放入磁控溅射托盘,然后送入真空镀膜机镀膜;其中,清洗的具体过程为:将成型的水晶灯饰品放在丙酮中超声清洗12min后,再用乙醇超声清洗17min,最后在去离子水中超声清洗15min。其中,水晶灯饰品为水晶灯吊坠、水晶灯散珠或水晶灯饰球。

(2)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,直流电源溅射不锈钢平面靶,在水晶灯饰品上磁控溅射一tiox层;其中,氩气与氧气的体积比为1:2.5,溅射的功率为110kw,tiox层的厚度为47nm。

(3)使用氮气和氩气的混合气体作为反应气体,直流电源溅射铬平面靶,在tiox层上磁控溅射一氮化铬薄膜层;其中,氩气与氮气的体积比为1:2.6,直流电源溅射的功率为15kw,氮化铬薄膜层的厚度为25nm。

(4)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,交流电源溅射锌锡靶,在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层;其中,氩气与氧气的体积比为1:2.8,锌锡合金中锌与锡的质量比为1:1,交流电源溅射的功率为50kw,氧化锌锡层的厚度为30nm。

(5)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,交流电源溅射钛靶,在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层。其中,氩气与氧气的体积比为1:1.6,交流电源溅射的功率为45kw,氧化钛层的厚度为30nm。

实施例4

一种水晶灯玻璃的生产工艺,包括以下步骤:

(1)将已成型的水晶灯饰品清洗,烘干,放入磁控溅射托盘,然后送入真空镀膜机镀膜;其中,清洗的具体过程为:将成型的水晶灯饰品放在丙酮中超声清洗18min后,再用乙醇超声清洗16min,最后在去离子水中超声清洗15min。其中,水晶灯饰品为水晶灯吊坠、水晶灯散珠或水晶灯饰球。

(2)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,直流电源溅射不锈钢平面靶,在水晶灯饰品上磁控溅射一tiox层;其中,氩气与氧气的体积比为1:2.3,溅射的功率为90kw,tiox层的厚度为45nm。

(3)使用氮气和氩气的混合气体作为反应气体,直流电源溅射铬平面靶,在tiox层上磁控溅射一氮化铬薄膜层;其中,氩气与氮气的体积比为1:2.3,直流电源溅射的功率为12kw,氮化铬薄膜层的厚度为26nm。

(4)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,交流电源溅射锌锡靶,在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层;其中,氩气与氧气的体积比为1:2.8,锌锡合金中锌与锡的质量比为1:1,交流电源溅射的功率为46kw,氧化锌锡层的厚度为27nm。

(5)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,交流电源溅射钛靶,在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层。其中,氩气与氧气的体积比为1:1.5,交流电源溅射的功率为40kw,氧化钛层的厚度为25nm。

实施例5

一种水晶灯玻璃的生产工艺,包括以下步骤:

(1)将已成型的水晶灯饰品清洗,烘干,放入磁控溅射托盘,然后送入真空镀膜机镀膜;其中,清洗的具体过程为:将成型的水晶灯饰品放在丙酮中超声清洗16min后,再用乙醇超声清洗12min,最后在去离子水中超声清洗17min。其中,水晶灯饰品为水晶灯吊坠、水晶灯散珠或水晶灯饰球。

(2)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,直流电源溅射不锈钢平面靶,在水晶灯饰品上磁控溅射一tiox层;其中,氩气与氧气的体积比为1:2.6,溅射的功率为100kw,tiox层的厚度为36nm。

(3)使用氮气和氩气的混合气体作为反应气体,直流电源溅射铬平面靶,在tiox层上磁控溅射一氮化铬薄膜层;其中,氩气与氮气的体积比为1:2.6,直流电源溅射的功率为10kw,氮化铬薄膜层的厚度为25nm。

(4)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,交流电源溅射锌锡靶,在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层;其中,氩气与氧气的体积比为1:2.2,锌锡合金中锌与锡的质量比为1:1,交流电源溅射的功率为40kw,氧化锌锡层的厚度为22nm。

(5)使用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,交流电源溅射钛靶,在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层。其中,氩气与氧气的体积比为1:1.2,交流电源溅射的功率为35kw,氧化钛层的厚度为25nm。

以上所述仅是本发明的优选实施方式,本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

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