一种CVD镀膜机的制作方法

本实用新型属于化学气相沉积技术领域，具体涉及一种CVD镀膜机。

背景技术：

镀膜制程在工业界的应用极广，一般常使用在金属加工业、半导体业以及光电产业等。镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等很多种。金属加工业中的镀膜是指以物理或者化学方法在工件表面镀上单层或者多层薄膜，化学气相沉积法为目前主流的镀膜方法，镀膜机中的阴极电极和阳极电极均放置于真空镀膜室内，镀膜激发源主要采用的是射频电源或者直流高压电源。尽管现有化学气相沉积镀膜机的配置工艺较为稳定成熟，但其在实际生产操作及维护中仍存在不足。现有镀膜机的设备整体冗繁、占地面积大，且镀膜机使用操作不便，影响工作效率。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题是，提供一种CVD镀膜机，解决了现有技术中CVD镀膜机的设备整体冗繁、占地面积大以及镀膜机的使用操作不便、工作效率低的技术问题。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案：一种CVD镀膜机，其特征在于：包括柜体、固定于柜体上端面的底盘、垂直于柜体上端面且与柜体固定的立柱、位于立柱内侧的导向轴以及导向升降装置、与导向升降装置固定且与导向轴滑动连接的钟罩、以及设置于柜体外部的机械泵，工作时，钟罩罩住底盘以形成镀膜腔室，机械泵对镀膜腔室抽气；

所述底盘上设置有用于放置待镀膜工件的工作台，以及用于对工作气体进行加热的电极；

所述柜体内部设置有给镀膜腔室进行通气的进气装置、控制工作台升降的第一升降装置、以及给电极通电的加热电源装置。

优选的，所述进气装置包括输气管以及若干第一气动控制阀，所述第一气动控制阀安装于输气管中，所述输气管与外部气体以及钟罩连通。

优选的，所述第一升降装置包括伺服电机、第一丝杆、以及滑块，所述伺服电机与第一丝杆连接，所述滑块与工作台固定连接，滑块与第一丝杆螺纹连接。

优选的，所述导向升降装置为蜗轮蜗杆升降装置，蜗轮蜗杆升降装置带动钟罩沿导向轴做上下升降运动。

优选的，所述钟罩包括位于上部的冷却层以及位于下部的用于镀膜腔室密封的密封层，所述冷却层设置有冷却管路，冷却管路的进水端经水阀后与冷水机的出水口连接，冷却管路的出水端与冷水机的进水口连接。

优选的，所述底盘上开设有排气孔，排气孔通过输气管与柜体外部的机械泵连接，所述输气管中设置有第二气动控制阀。

优选的，所述底盘底部安装有测定镀膜腔室内部压力的薄膜规以及电阻规。

优选的，所述底盘上开设有进气孔，进气孔与进气管连通，所述进气管中设置有第三气动控制阀。

优选的，所述柜体上方固定安装有拖链。

优选的，所述柜体的底部安装有脚轮。

本实用新型的有益效果：本实用新型公开一种CVD镀膜机，通过合理的布局，该种CVD镀膜机的设备结构简单、占地面积小、同时镀膜机的使用操作方便、工作效率高。

附图说明

图1为CVD镀膜机主视图；

图2为CVD镀膜机右视图；

图3为导向升降装置与钟罩的左视图；

图4为导向升降装置与钟罩的后视图；

图5为钟罩剖面图。

图中附图标记，1-柜体，1.1-进气装置，1.1.1-输气管，1.1.2-第一气动控制阀，1.1.3-进气管，1.2-第一升降装置，1.2.1-伺服电机，1.2.2-第一丝杆，1.3-加热电源装置；1.3.1-加热电源，1.3.2-铜排；2-底盘，2.1-排气孔，2.2-进气孔；3-立柱；4-导向轴；5-导向升降装置，5.1-导向丝杆，5.2-驱动电机，5.3-蜗轮箱，5.4-蜗轮，5.5-蜗杆；6-钟罩，6.1-冷却层，6.2-密封层；7-拖链；8-机械泵；9-工作台；10-电极，10.1-阳极，10.2-阴极；11-输气管；12-第二气动控制阀；13-进气管；14-第三气动控制阀；15-薄膜规；16-电阻规；17-冷却管路，17.1-冷却部，17.2-进水部的进水端，17.3-出水部的出水端；18-水阀；19-脚轮。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例1：

一种CVD镀膜机，如图1和2所示，包括柜体1、底盘2、立柱3、导向轴4、导向升降装置5、钟罩6、拖链7以及机械泵8。其中，底盘2固定设置于柜体1的上端面，底盘2上设置有用于放置待镀膜工件的工作台9，以及用于对工作气体进行加热的电极10。工作台9为矩型结构，电极设置有4个，包括2个阳极10.1以及2个阴极10.2，其中1个阳极10.1与1个阴极10.2分别与另外1个阳极10.1以及阴极10.2并联连接，1个阳极10.1以及1个阴极10.2设置于工作台9前端，另1个阳极10.1以及1个阴极10.2设置于工作台9后端。底盘2上开设有排气孔2.1以及进气孔2.2。排气孔2.1通过输气管11与柜体外部的机械泵8连接，输气管11中设置有第二气动控制阀12，第二气动控制阀12控制输气管11中气流的通断。进气孔2.2与进气管13连通，进气管13与外部大气连通，进气管13中设置有第三气动控制阀14，第三气动控制阀14控制进气管13中气流流通。进行镀膜操作前，钟罩6罩住底盘2以形成镀膜腔室，机械泵8通过输气管11以及第二气动控制阀12对镀膜腔室抽气，以形成真空腔室；进行镀膜操作时，进气装置1.1对镀膜腔室进行充气，同时通过底盘底部的排气孔2.1不断排气；完成镀膜操作后，镀膜腔室内部处于真空状态，通过进气孔2.2以及第三气动控制阀14进气，以使镀膜腔室达到常压。为了便于测定镀膜腔室内部压力，底盘2底部安装有薄膜规15以及电阻规16。立柱3垂直于柜体1上端面且与柜体1固定。导向轴4以及导向升降装置5设置于立柱3内部两侧。导向轴4固定在底盘2上。导向升降装置5具体为蜗轮蜗杆升降装置。如图3和4所示，蜗轮蜗杆升降装置包括导向丝杆5.1、与导向丝杆螺纹连接的蜗轮、以及与蜗轮啮合的蜗杆、以及驱动蜗杆运转的驱动电机5.2。蜗轮5.4、蜗杆5.5设置于蜗轮箱5.3中，导向丝杆5.1的一端穿过底盘2后与柜体1底部固定。蜗轮箱5.3与钟罩6固定。驱动电机运转后，蜗轮箱带着钟罩沿导向轴以及导向丝杆做上下运动。拖链7用于走线以及管路布局而设定。其中拖链7的一端固定在柜体1上，另一端设置在钟罩6的上方。柜体1内部设置有给镀膜腔室进行通气的进气装置1.1、控制工作台升降的第一升降装置1.2、以及给电极通电的加热电源装置1.3。其中，进气装置1.1包括6根输气管1.1.1以及6个第一气动控制阀1.1.2，每个第一气动控制阀1.1.2安装于每一根输气管1.1.1中，用于控制输气管中气流通断。6根输气管1.1.1分别与对应6种外部的工体气源连通，工作气体再经过1根进气管1.1.3输送至钟罩内部。具体的，进气管1.1.3从柜体1中穿出后进入拖链7，再从拖链7穿出后与钟罩6连通。第一升降装置1.2包括伺服电机1.2.1、第一丝杆1.2.2、以及滑块。伺服电机1.2.1与第一丝杆1.2.2连接，滑块与工作台9固定连接，滑块与第一丝杆1.2.2螺纹连接。第一升降装置控制工作台上下移动，便于带操作工件的安装。加热电源装置1.3包括加热电源1.3.1.，加热电源1.3.1通过铜排1.3.2与阳极10.1以及阴极10.3连接。本实施例中，第一气动控制阀1.1.2、第二气动控制阀12、第三气动控制阀14、薄膜规15以及电阻规16均与外部控制器连接，控制器控制第一气动控制阀1.1.2、第二气动控制阀12、第三气动控制阀14执行操作。

由于镀膜工作时，镀膜腔室内部温度极高，为了避免高温损伤工件，本实施例中还设置有冷却管路17。具体的，如图5所示，钟罩6包括位于上部的冷却层6.1以及位于下部的用于镀膜腔室密封的密封层6.2。冷却管路的冷却部17.1铺设于钟罩的冷却层6.1中，冷却管路的进水部穿过钟罩6上部并通过拖链7进入柜体1内部，进水部的进水端17.2经水阀18后与冷水机(图中未标注)的出水口连接，冷却管路的出水部穿过钟罩6上部并通过拖链7进入柜体1内部，出水部的出水端17.3与冷水机的进水口连接。

为了便于镀膜机位置移动，本实施例中，柜体的底部安装有脚轮19。

CVD镀膜机的具体操作过程如下：首先利用第一升降装置将工作台升降到指定位置，安装待镀膜工件后，利用导向升降装置控制钟罩下降至与底盘密封，钟罩与底盘之间形成镀膜腔室。打开机械泵以及第二气动控制阀，将镀膜腔室内部抽真空。随后通过进气装置对镀膜腔室内部充气，且镀膜腔室内部部分气体从排气孔排出，从而保证镀膜腔室内部具备一定的气压环境。同时加热电源装置对电极供电，使得电极内部的加热丝通过一定的功率，从而达到控温目的。在一定的功率以及气压环境下实现工件镀膜。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。