一种蒸镀装置的制作方法

本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种蒸镀装置及蒸镀方法。

背景技术：

一般蒸镀机厂商不断致力于提升蒸镀机整体特性，如蒸镀质量、传送稳定性及机台稼动率等。其中，在蒸镀机稼动效率改善方面，蒸镀机厂商持续改善蒸镀源耐久性以期提升此指标，但除了改善蒸镀源耐久性，其他机构耐久性也须一并改善才能达到这个目的，其中监控镀率机构就是需重要考量。

现行蒸镀机中的蒸镀源上一般设有镀率监控装置，该镀率监控装置主要是通过其装置中的晶振片监控蒸镀源的蒸镀速率及稳定性，但随着镀率监控时间不断地延长，晶振片将会损耗完，这时就需要打开蒸镀机的腔体更换新的晶振片才可继续进行镀率监控作业，由于每一次更换晶振片都必须停机，降低了蒸镀机的稼动效率。

因此，有必要提供一种新的技术方案改善上述方案中存在的一个或者多个问题。

需要注意的是，本部分旨在为权利要求书中陈述的本实用新型的实施方式提供背景或上下文。此处的描述不因为包括在本部分中就承认是现有技术。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种蒸镀装置，进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致的一个或者多个问题。

本实用新型实施例提供一种蒸镀装置，该装置包括：

蒸镀腔体；

N个蒸镀源，每个蒸镀源设于所述蒸镀腔体内，用以对位于蒸镀腔体内的待镀膜基板进行蒸镀处理；

N组镀率监控装置，每组镀率监控装置包括一主镀率监控装置及一备用镀率监控装置，且每组镀率监控装置对应一个蒸镀源；以及

控制电路，所述控制电路与所述N个蒸镀源、各主镀率监控装置及备用镀率监控装置电性连接；其中，所述控制电路，用于在每组的所述主要镀率监控装置使用时间结束时，控制切换到相对应的备用镀率监控装置进行监控。

进一步，所述蒸镀源上方设有所述每组镀率监控装置。

进一步，所述每组镀率监控装置与所述蒸镀源之间间隔预设距离。

进一步，所述预设距离为150mm。

进一步，所述每组镀率监控装置以环型方式排列。

进一步，所述每组镀率监控装置中的所述主镀率监控装置和备用镀率监控装置平行设置。

进一步，所述每组镀率监控装置均包括晶振片。

进一步，所述晶振片为石英晶振片或光学玻璃晶振片。

进一步，所述使用时间与所述晶振片的损耗相关。

进一步，所述使用时间为8～10天。

本实用新型的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：

本实用新型提供的一种蒸镀装置，一方面，该装置延长了镀率监控装置的使用时间，减少了停机更换晶振片的次数，提升了蒸镀机的稼动率；另一方面，当其中一组镀率监控系统发生不可预期的问题(如设备异常时)可切换到另一组镀率监控装置进行作业，增加了作业的弹性。

附图说明

图1示出本实用新型示例性实施例中一种蒸镀装置的结构示意图；

图2示出本实用新型示例性实施例中一种蒸镀装置的电路示意图。

图中附图标记为：100，蒸镀装置；101，蒸镀腔体；102，待蒸镀基板；103，镀率监控装置；104，主镀率监控装置；105，备用镀率监控装置；106，晶振片；107，控制电路；108，蒸镀源。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施方式使得本实用新型将更加全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。

此外，附图仅为本实用新型的示意性图解，并非一定是按比例绘制。图中相同的附图标记表示相同或类似的部分，因而将省略对它们的重复描述。附图中所示的一些方框图是功能实体，不一定必须与物理或逻辑上独立的实体相对应。

本实用新型实施例提供一种蒸镀装置，如图1所示，该蒸镀装置100包括蒸镀腔体101、N个蒸镀源108、N组镀率监控装置103以及控制电路107。

所述N个蒸镀源108设于所述蒸镀腔体101内，用以对位于蒸镀腔体101内的待镀膜基板102进行蒸镀处理。

所述N组镀率监控装置103，每组镀率监控装置103包括一主镀率监控装置104及一备用镀率监控装置105，且每组镀率监控装置103对应一个蒸镀源108。

所述控制电路107与所述N个蒸镀源108、各主镀率监控装置104及备用镀率监控装置105电性连接；其中，所述控制电路107用于在每组的所述主要镀率监控装置104使用时间结束时，控制切换到相对应的备用镀率监控装置105进行监控。

本实用新型实施例提供的上述蒸镀装置，一方面，该装置延长了镀率监控装置的使用时间，提升了蒸镀机的稼动率；另一方面，当其中一组镀率监控系统发生不可预期的问题(如设备异常时)可切换到另一组镀率监控装置进行作业，增加了作业的弹性。

具体的，在一实施例中，所述N个蒸镀源108设于蒸镀腔体101内的底部。所述N个蒸镀源108以线性方式排列。所述每个蒸镀源108上方设有所述每组镀率监控装置103。所述每个蒸镀源108中的蒸镀材料为活泼金属材料。所述活泼金属材料包括锂、钾、镁、钡中的一种或多种，在此不做限定。

具体的，在一实施例中，所述待蒸镀基板102设于所述蒸镀腔体101内的顶部，且与所述蒸镀源108相对应。所述待蒸镀基板102可以为OLED基板、AMOLED基板或者LCD基板，在此不做限定。

具体的，在一实施例中，所述每组镀率监控装置103设于所述待蒸镀基板102与所述蒸镀源108之间。所述每组镀率监控装置103对应一个蒸镀源108，且所述每个蒸镀源108上方设有所述每组镀率监控装置103中的所述主镀率监控装置104。

具体的，在一实施例中，所述每组镀率监控装置103与所述蒸镀源108之间间隔预设距离。示例性的，所述每组镀率监控装置103与所述蒸镀源108之间间隔预设距离为150mm。

具体的，在一实施例中，所述每组镀率监控装置103以环型方式排列。其中，所述每组镀率监控装置103中的主镀率监控装置104与所述备用镀率监控装置105平行设置。

具体的，在一实施例中，所述每组镀率监控装置103均包括晶振片106。所述晶振片106为石英晶振片或光学玻璃晶振片中的任意一种，在此不做限定。

具体的，在一实施例中，所述每组镀率监控装置103使用时间与所述晶振片106的损耗相关。所述晶振片106的损耗是由于对所述待镀基板102进行蒸镀时，所述蒸镀材料沉积到所述待蒸镀基板102上形成目标薄膜，同时也会沉积到所述镀率监控装置103的晶振片106上，随着蒸镀时间的延长，所述晶振片106上膜层厚度随之也增厚，所述晶振片106的固有频率发生相应的衰减，如果此时对所述晶振片106继续沉积膜层，就会出现停振。所述每组镀率监控装置103的主镀率监控装置104和备用镀率监控装置105中的晶振片106损耗时间均为8～10天。

在一具体实施例中，所述蒸镀源108包括一坩埚(未示出)及设于坩埚内的待蒸镀材料(未示出)。工作时，对蒸镀腔体101抽真空达到一定的真空度(E^-5Pa)后，加热坩埚使蒸镀材料达到一定温度，蒸镀材料的气体分子从坩埚中喷出，并按照一定蒸镀速率沉积到待蒸镀基板102上，同时也会沉积到所述主镀率监控装置104的晶振片106上，所述镀率监控装置100通过对所述主镀率监控装置104的晶振片106上沉积的材料膜层的蒸镀速率进行监控，进而可以对所述待蒸镀基板102的蒸镀速率及厚度进行监控。当所述每组镀率监控装置103中的主镀率监控装置104中的晶振片106监控工作达到8～10天而耗尽时，所述控制电路107切换到所述备用镀率监控装置105中进行监控。当一组镀率监控装置中的晶振片损耗完时，所述系统的控制电路将自动切换下一组镀率监控装置进行监控。这样可以延长镀率监控装置的使用时间，减少了停机更换晶振片的次数，提升了蒸镀机的稼动率；同时，当其中一组镀率监控系统发生不可预期的问题(如设备异常时)可切换到另一组镀率监控装置进行作业，增加了作业的弹性。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例进行接合和组合。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的实用新型后，将容易想到本实用新型的其它实施方案。本申请旨在涵盖本实用新型的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本实用新型的一般性原理并包括本实用新型未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本实用新型的真正范围和精神由所附的权利要求指出。