专利名称：一种光学纯高喜树碱中间体的制备方法
技术领域：
本发明涉及有机化学技术领域，是合成光学纯高喜树碱(即R-高喜树碱)手性中间体化合物R-⑶E环(I)的制备方法，其为三酮类化合物(R)-5-乙基-5-羟基-4，5，8，9-四氢氧杂卓并[3，4-f]_中氮茚-3，7，11 (IH)。
背景技术：
高喜树碱是近年来发展起来的新一代拓扑异构酶I抑制剂抗肿瘤药物，具有活性高、选择性强和毒性低的特点，先后有两个高喜树碱类衍生物diflomotecan和elomotecan进入临床研究。高喜树碱及其衍生物的全合成主要有两条路线I、由环AB和环DE经过Mitsunobu反应和分子内的Heck反应缩合而成
权利要求
1. 一种光学纯高喜树碱中间体R-CDE环(I)的制备方法，其化学结构如下
2.如权利要求I所述的方法，其特征在于R1为含C1 C5的直链烷基，R2和R3为相连的或不相连的含C1-C5的直链或支链烷基；步骤I)中所用碱为六甲基二硅基胺基钾，所用溶剂为四氢呋喃，反应温度为0°C 25°C;步骤2)中所用溶剂为叔丁醇与水的混合物，比例为I : 1，反应温度为0°C 25°C ;步骤3)中所用碱为三乙胺，所用溶剂为二氯甲烷，反应温度为0°C 25°C ;步骤4)中所用氰化物为氰化钠，所用溶剂为DMS0，反应温度为30°C 600C ;步骤5)中所用酸为盐酸或三氟乙酸，所用溶剂为乙醇，反应温度为60°C 80°C。
3.权利要求I或2所述方法制备的化合物R-CDE环(I)。
4.权利要求3所述的化合物R-CDE环(I)在制备R-高喜树碱类化合物中的应用。
全文摘要
本发明涉及合成光学纯高喜树碱的手性中间体化合物R-CDE环(I)的制备方法。高喜树碱的化学结构中存在一个手性中心，构效关系研究表明R构型异构体活性明显高于S构型异构体，制备R-高喜树碱的关键是获得光学纯的中间体R-CDE环(I)。本发明提供一种制备R-CDE环(I)的方法，合成路线如下其中，R1为氢或含C1-C5的直链烷基，R2和R3为相连的或不相连的含C1-C5的直链或支链烷基。本发明提供了一种分离简便、成本低廉、收率和纯度高的R-CDE环(I)的制备方法。
文档编号C07D491/147GK102702214SQ20121020409
公开日2012年10月3日 申请日期2012年6月19日 优先权日2012年6月19日
发明者姚建忠, 张万年, 盛春泉, 祝令建, 缪震元 申请人:中国人民解放军第二军医大学