光学信息记录介质的制作方法
【专利摘要】在本发明中，提供了一种光学信息记录介质，包括在其表面上具有凹部的基板、记录层、以及反射层。通过利用记录层的光学密度的范围与基板的凹部的深度的范围的组合，从而能抑制反射率降低。
【专利说明】光学信息记录介质
【技术领域】
[0001]本技术涉及一种光学信息记录介质。更具体地，本技术涉及一种包括在其表面上具有凹部的基板、记录层以及反射层的光学信息记录介质。
【背景技术】
[0002]作为可记录光学信息记录介质，存在以可重写压缩盘(⑶-RW)或者可重写数字通用光盘(DVDiRW)为代表的可重写光学信息记录介质以及以可记录压缩盘(⑶-R)或者可记录数字通用光盘(DVD-R)为代表的一次写入光学信息记录介质，具体地，一次写入光学信息记录介质作为低成本介质对市场的拓展具有极大的贡献。
[0003]作为用于一次写入光学信息记录介质的记录材料，存在无机材料和有机染料材料，但是，通常有机染料材料主要被用作记录材料。作为使用有机染料材料的光学信息记录介质，已经采用具有如下配置的光学信息记录介质，即，其中，反射层设置在包括有机染料材料的记录层的表面上。作为反射层的材料，广泛使用银(Ag)。作为不同于银(Ag)的材料，公开了一种使用铝(Al)的实施例(例如，见专利文献I至4)。
[0004]引用列表
[0005]专利文献
[0006]PTLl:日本未经审查专利申请公开N0.5-54431
[0007]PTL2:日本未经审查专利申请公开N0.5-62245
[0008]PTL3:日本未经审查专利申请公开N0.6-195746
[0009]PTL4:日本未经审查专利申请公开N0.6-282870
【发明内容】
[0010]技术问题
[0011]近年来，希望进一步降低介质的成本，并且作为满足该需求的技术，已经调查了使用铝(Al)而非银(Ag)作为反射层材料的情况。然而，当使用铝(Al)作为反射层材料时，与使用银(Ag)作为反射层材料的情况相比较，反射率降低。
[0012]本技术提供一种能够抑制反射率降低的光学信息记录介质。
[0013]技术解决方案
[0014]为解决上述问题，本技术提供一种光学信息记录介质，包括:在其表面上具有凹部的基板；记录层；以及反射层，其中，通过记录层的光学密度的范围与基板的凹部的深度的范围的组合来抑制反射率降低。
[0015]有利效果
[0016]如上所述，根据本技术，能够抑制反射率降低。
【专利附图】
【附图说明】
[0017]图1A是示出了根据本技术的实施方式的光学信息记录介质的配置实施例的示意性截面图，并且图1B是示出了图1A中的一部分的放大的截面图。
[0018]图2A是示出了最大反射率Rtop相对于有效的凹槽深度d和推挽信号PPb的变化的示图，并且图2B是示出了图2A中的区域A的放大的示图。
[0019]图3A是示出了具有深槽的光学信息记录介质的一部分的放大的截面图，图3B是示出了具有特定深度的凹槽的光学信息记录介质的一部分的放大的截面图，并且图3C是示出了具有浅槽的光学信息记录介质的一部分的放大的截面图。
[0020]图4A是示出了样本1-1至1-8以及样本2_1中一次写入光学信息记录介质的最大反射率Rtop的评估结果的示图，并且图4B是示出了在样本1-1至1-8以及样本2-1中一次写入光学信息记录介质的未记录时间处推挽信号PPb的评估结果的示图。
[0021]图5A是示出了在样本3-1至6-2中一次写入光学信息记录介质的未记录时间处推挽信号PPb的评估结果的示图，并且图5B是示出了在样本3-1至6-2中一次写入光学信息记录介质的最大反射率Rttjp的评估结果的示图。
【具体实施方式】
[0022]将按照下列顺序参照附图来描述本技术的实施方式。
[0023]1.概述
[0024]2.光学信息记录介质的配置
[0025]3.光学信息记录介质的光学特性
[0026]4.推挽信号PPb与最大反射率Rttjp之间的兼容性原理
[0027]5.制造光学信息记录介质的方法
[0028][1.概述]
[0029]当使用铝(Al)作为反射层材料时，与使用银(Ag)作为反射层的材料时相比较，反射率劣化，因此，难以在优良的推挽信号与反射率之间实现很好的平衡。根据发明人的发现，推挽信号与反射率处于矛盾关系。即，当增加基板的凹部(例如，凹槽)的深度时，能够改善推挽信号，但是，反射率劣化。因此，为在优良的推挽信号与反射率之间实现很好的平衡，发明人已经进行了积极的测试。结果，发明人发现与预测的相反，在对预定范围的记录层的光学密度和预定范围的基板的凹部的深度进行组合的情况下，抑制了反射率相对于凹部中的深度的改变而变化。
[0030][2.光学信息记录介质的配置]
[0031]图1A是示出了根据本技术的实施方式的光学信息记录介质的配置实施例的示意性截面图，并且图1B是示出了图1A中的一部分的放大DE截面图。光学信息记录介质10是所谓的单层式一次写入光学信息记录介质，如图1A所示，记录层2、反射层3以及保护层4依次层压在基板I的一个主表面上。
[0032]在根据本实施方式的光学信息记录介质10中，通过使用激光束L从基板I的表面C侧照射记录层2来执行信息信号的记录或者再现。例如，通过使用具有数值孔径在0.44至0.46范围内的物镜而会聚波长在770nm至790nm范围内的激光束L并且使用所会聚的激光束从基板I的表面C侧照射记录层2，执行信息信号的记录或者再现。例如，作为这样的光学信息记录介质10，可以使用单层式⑶-R。
[0033]在下文中，将顺序地描述构成光学信息记录介质10的基板1、记录层2、反射层3以及保护层4。
[0034](基板)
[0035]基板I具有环形形状，同时在中心提供开口(在下文中，称为中心孔)。基板I的一个主表面是不平坦的表面，并且记录层2设置在该不平坦的表面上。在下文中，该不均匀表面的凹部被称为凹槽la，并且其突出部被称为槽脊lb。
[0036]例如，作为凹槽Ia和槽脊Ib的形状，可以使用诸如螺旋形状、同心形状等的各种形状。此外，出于例如线性速率的稳定、地址信息相加等目的，凹槽Ia和/或槽脊Ib摆动(蜿蜒)。
[0037]例如，将基板I的直径选为120mm。考虑到硬度来选择基板I的厚度，优选为，0.3mm至1.3mm,更优选为,0.6mm至1.3mm,例如,选择为1.2_。此外,例如,将中心孔的直径选为15mm。例如,基板I的凹槽Ia的厚度D在198nm至220nm的范围内。
[0038]作为基板I的材料，例如，可以使用塑胶材料或者玻璃，就成本而言，优选使用塑胶材料。作为塑胶材料，例如，可以使用聚碳酸酯树脂、聚烯烃树脂、丙烯酸树脂等。
[0039](记录层)
[0040]记录层2是一种通过激光束L的照射而能够记录信息信号的记录层。记录层2包括作为主要成分的有机染料。作为有机染料，例如，可以使用酞菁染料、非酞菁染料、叶啉染料、花青染料、部花青染料、苯乙烯基染料、菁染料以及偶氮染料中的至少一种。
[0041](反射层)
[0042]反射层4优选包括作为主要成分的铝(Al )。这是因为与其中反射层3包括作为主要成分的银(Ag)相比较，这能够降低光学信息记录介质10的成本。
[0043](保护层)
[0044]保护层2是一种通过对诸如紫外线固化树脂等光敏树脂进行固化而获得的树脂层。作为树脂层材料，例如，使用紫外线固化丙烯酸树脂。
[0045][3.光学信息记录介质的光学特性]
[0046]通过记录层2的光学密度(OD)的范围与基板I的槽Ia的深度D的范围的组合，抑制最大反射率Rtop的降低。通过该抑制，最大反射率R_优选被保持在大于或者等于0.6的范围内。当最大反射率Rtop大于或者等于0.6时，通过一般消费者驱动能够满意地执行光学信息记录介质10的记录或者再现。
[0047]通过记录层2的光学密度的范围与基板I的槽Ia的深度D的范围的组合，优选的是，在未记录的时间内推挽信号PPb被改进。通过该改进，优选的是，在未记录的时间内的推挽信号PPb被设置为处于0.080至0.13的范围内。当未记录时间处的推挽信号PPb处于该范围内时，通过一般消费者驱动能够满意地执行光学信息记录介质10的记录。
[0048]在通过光学信息记录介质10使用数值孔径在0.44至0.46范围内的物镜而会聚波长在770nm至790nm范围内的激光束L并且使用所会聚的光从基板I的表面C侧照射记录层2，执行信息信号的记录或者再现的情况下，优选记录层2的光学密度的范围是大于0.560并且小于或者等于0.700的范围，并且优选基板I的凹槽Ia的深度D的范围是198nm至220nm的范围。这是因为当凹槽Ia的深度D处于198nm至220nm的范围内时，可以根据凹槽Ia的深度D的增加而增加未记录时间处的推挽信号PPb，并且能够抑制最大反射率Rtop相对于凹槽Ia的深度改变而发生的变化。[0049]在通过光学信息记录介质10使用数值孔径在0.44至0.46范围内的物镜而会聚波长在770nm至790nm范围内的激光束L并且使用所会聚的光从基板I的表面C侧照射记录层2执行信息信号的记录或者再现的情况下，更优选记录层2的光学密度的范围是大于0.560并且小于或者等于0.710的范围，并且更优选基板I的凹槽Ia的深度D的范围是203.5nm至220nm的范围。这是因为当槽Ia的深度D处于203.5nm至220nm的范围内时，可以根据槽Ia的深度D的增加而增加未记录时间处的推挽信号PPb，并且能够抑制最大反射率R_相对于槽Ia的深度改变而发生的变化。
[0050]通过记录层2的光学密度的范围与基板I的槽Ia的深度D的范围的组合，优选的是，抑制了最大反射率Rtop在槽Ia的深度D的范围内的变化。更具体地，优选的是，通过记录层2的光学密度的范围与基板I的槽Ia的深度D的范围进行组合，最大反射率Rtop相对于槽Ia的深度D的增加而发生的变化可以被抑制，同时，未记录时间处的推挽信号PPb根据凹槽Ia的深度D在凹槽Ia的深度D的范围内的增加而增加。通过这样地抑制最大反射率R_的变化，优选最大反射率R_基本恒定。此处，基本恒定意味着最大反射率Rtop的变化范围为小于或者等于0.015。
[0051]最大反射率Rttjp是当对应于EFM调制信号的IlT信号的再现信号处于最大电平时的反射率，并且最大反射率Rttjp由下列等式(I)表示。
[0052]Rtop=R0X Itop/10- (I)
[0053]此处，R0表不光学信息记录介质10上的镜面部分的反射率，10表不镜面部分中的再现信号电平，并且1_表示对应于EFM调制信号的IlT信号的再现信号的最大电平。
[0054]未记录时间处的推挽信号PPb由下列等式(2)表示。
[0055]PPb= (I1-12)^y(VI2)眶…(2)
[0056]此处，I1和I2表示当将光学检测器的光接收元件在照射方向上分割成两部分时的各个输出，PP表示峰值-峰值，并且max表示最大值。
[0057]光学密度是表示当光穿过某一物体时多少强度被削弱的无量纲的量。当不包括散射和反射时，光学密度被简称为吸光率。在分析化学中，波长λ的光学密度Al由下列等式
(3)定义。
[0058]A=-1og10(1/10)...(3)
[0059]1:透射光强度
[0060]10:入射光强度
[0061]吸光率由对数表示，而透射率是光路长度的指数函数，因此，与光路长度成比例的吸光率用于测量有机染料的膜厚度。
[0062][4.推挽信号PPb与最大反射率Rttjp之间的兼容性原理]
[0063]图2Α是示出了最大反射率Rtop相对于有效的凹槽深度d和推挽信号PPb的变化的示图，并且图2B是示出了图2A中的面积A的放大图。在图2B中，各个曲线L。、曲线LA、曲线Lb以及曲线L。表示光学信息记录介质10的下列最大反射率R_。
[0064]曲线Ltl:其中仅在基板上层压了反射层和保护层而没有形成记录层的光学信息记录介质的最大反射率Rttjp
[0065]曲线La:具有深槽的光学信息记录介质10的最大反射率Rttjp
[0066]曲线Lb:具有特定深度的凹槽的光学信息记录介质10的最大反射率Rttjp[0067]曲线Lc:具有浅槽的光学信息记录介质10的最大反射率R_
[0068]为图2A和图2B的水平轴的有效凹槽深度d是激光束实际到达的凹槽深度，具体地，反射层3的深度。反射层3的深度取决于基板I的凹槽深度D和光学密度OD(即，记录层2的厚度t)。在下文中，在具体的光学密度OD范围内，最小值的光学密度OD被称为最小光学密度ODmin,并且最大值的光学密度OD被称为最大光学密度0Dmax。此处，记录层2的厚度t是记录层2在槽Ia内的厚度。
[0069]图3A至图3C是示出了分别具有深槽、具有特定深度的凹槽以及浅槽的光学信息记录介质的一部分的放大截面图。此处，具有特定深度的凹槽表示其中槽深度D大于或者等于特定的最小深度Dmin并且小于或者等于特定的最大深度Dmax范围内的凹槽，深槽表不比具有特定深度的凹槽更深的凹槽，并且浅槽表示比具有特定深度的凹槽更浅的凹槽。
[0070]在下文中，参照图2A至图3C，将描述根据本实施方式的光学信息记录介质10中推挽信号PPb与最大反射率Rttjp之间的兼容性原理。
[0071]推挽信号PPb的特性不依赖于基板I的槽深度D，因此，示出了凹槽Ib的以下特性而不管凹槽Ib是深槽(见图3A)、具有特定深度的凹槽(见图3B)以及浅槽(见图3C)中的哪一个。即，当有效的槽深度d处于O≤d≤λ/4范围内时，推挽信号的极性变成“正”。当有效的槽深度是λ/8时，推挽信号变成最大。
[0072]如图2Α所示，根据定义推挽信号PPb的标准范围的上限和下限的直线与推挽信号PPb的曲线的交叉点，计算出满足推挽信号PPb的标准范围的有效凹槽深度d的范围。
[0073]同时，最大反射率Rtop的特性确实依赖于基板I的凹槽深度D，因此，示出了取决于槽Ia是否是深槽(见图3A)、具有特定深度的凹槽(见图3B)以及浅槽(见图3C)中的一个的下列特性。即，当有效的凹槽深度d处于O ≤d≤ λ/4的范围内时，最大反射率R_表现出随着有效凹槽深度d从λ/4的减小而增加的趋势。当有效凹槽深度d变浅并且接近“O”时，由于其中基板I的凹槽深度D深的光学信息记录介质10，最大反射率有降低的趋势。
[0074]当使得凹槽深度D小于特定的最小深度Dmin时，与其中槽深度D被设置为如图2B中的曲线L。所示的特定的凹槽深度的情况相比较，能够改进最大反射率Rtop。然而，实际上，在满足推挽信号PPb标准的有效凹槽深度d的范围内，难以以这种方式减少槽深度D至小于特定的最小深度Dmin。
[0075]难以减少凹槽深度由于下列原因而导致。为满足记录特性，需要比某一程度更高的光学密度OD (记录层2的厚度t)，而不管基板I的槽深度D。即，存在用于光学密度OD(记录层2的厚度t)的最小光学密度ODmin (记录层2的最小厚度tmin)。当设置光学密度OD以满足最小光学密度ODmin (记录层2的最小深度tmin)，而同时减少槽深度D至小于特定的最小深度Dmin，有效的凹槽深度d变得太浅，从而导致与推挽信号PPb的标准范围产生偏差。因此，在满足推挽信号PPb标准的范围内，难以减少槽深度D至小于特定的最小深度Dmin。
[0076]同时，在满足推挽信号PPb的标准范围的有效凹槽深度d的范围内，当增加基板I的槽深度D至大于特定的最大深度Dmax时，最大反射率Rttjp减少至小于或者等于如图2B中的曲线La所示的标准值。
[0077]最大反射率Rtop降低由下列原因而导致。为设置有效的槽深度d以满足推挽信号PPb的标准范围，而同时增加基板I的槽深度D至大于特定的最大深度Dmax，需要使大量的有机染料聚集在槽Ia内并且使光学密度OD (即，记录层2的厚度t)增加至大于最大的光学密度0Dmax。当以这种方式增加光学深度OD时，增加了通过记录层2的光吸收，从而导致如上所述的最大反射率Rttjp的降低。
[0078]如上，为在光学信息记录介质10的推挽信号PPb与最大反射率R_之间实现很好的平衡，应当理解的是，必须考虑下列因素。
[0079].因为有效凹槽深度依赖于槽深度D和光学密度0D，为了使得推挽信号PPb和最大反射率R_处于标准范围内，需要考虑槽深度D和光学密度OD这两个变量。
[0080]?满足标准范围的推挽信号PPb和最大反射率Rttjp在槽深度D与光学密度OD的组合之中具有极其有限的范围。具体地，满足标准范围的推挽信号PPb和最大反射率Rtop具有极其有限的范围，从而使得基板I的槽深度D大于或者等于特定的最小深度Dmin并且小于或者等于特定的最大深度Dmax,并且光学密度D大于或者等于最小的光学密度ODmin并且小于或者等于最大的光学密度0Dmax。 [0081]如上所述，发明人已经发现，为使得推挽信号PPb和最大反射率R_满足标准范围，设置凹槽深度D和光学密度OD这两个变量很重要。因此，可以将新构思引入到光学信息记录介质10的设计理念中并且拓宽反射层3的材料选择范围。
[0082][5.制造光学信息记录介质的方法]
[0083]下面，将描述制造根据本技术的实施方式的光学信息记录介质的方法的实施例。
[0084](制模基板的处理)
[0085]首先，对具有形成在一个主表面上的不平坦表面的基板I进行制模。作为基板I的制模方法，例如，可以使用注射成型(注射)方法，光致聚合法(2P方法:光致聚合)等。
[0086](形成记录层的方法)
[0087]接着，将有机染料溶解在溶剂中以制备涂敷材料。例如，作为溶剂，可以使用诸如己烷、庚烷、辛烷、癸烷、环己胺、甲基环己胺、己烷基环己胺、二甲基环己胺的脂肪族或者脂环族碳氢化合物溶剂；诸如甲苯、二甲苯、苯的芳香族碳氢化合物溶剂；诸如四氯化碳、氯仿、四氯乙烷、二溴乙烷的卤化碳氢化合物；诸如甲醇、乙醇、异丙基酒精、戊醇、异甲基丁醇、戊基酒精、己醇、庚醇、八氟戊醇、丙烯基酒精、甲基纤维素溶剂、乙烷基纤维素溶剂、四氟丙醇、环戊醇、甲基环戊醇、环己醇、甲基环己醇的酒精溶剂；诸如二乙醚、二丁醚、二异丙醚、二氧杂环乙烷的醚类溶剂；诸如丙酮、3-羟基-3-甲基-2- 丁酮的酮类溶剂；诸如乙酸乙酯和甲酸乙酯的醚类溶剂以及水等。这些可单独使用或者其多种混合使用。接着，通过例如旋涂法使用制备的涂敷材料均匀地涂敷基板I的同时使溶剂蒸发，形成记录层2。
[0088](沉积反射层的处理)
[0089]接着，基板I被运送到其中设置了包括例如Al作为主要成分的目标的真空室，真空室的内部被抽真空至处于预定压力。接着，通过对该目标进行溅射，同时将诸如Ar气体的处理气体引入到真空室内，反射层3沉积在记录层2上。
[0090](形成保护层的处理)
[0091]接着，通过例如旋涂法，诸如紫外线固化树脂(UV固化树脂)等的光敏树脂被旋涂在反射层3上，然后，使用诸如紫外射线等光照射光敏树脂以进行固化。因此，保护层4形成在反射层3上。
[0092]通过上述处理，获得了用于此目的光学信息记录介质。
[0093](效果)[0094]根据本技术的实施方式，通过记录层2的光学密度的范围与基板I的槽Ia的深度D的范围的组合，抑制了最大反射率Rttjp的降低，并且改进未记录时间处的推挽信号PPb。因此,可以在未记录时间处的优良的推挽信号PPb与最大反射率Rtop之间实现很好的平衡。
[0095][实例]
[0096]在下文中，将通过实例详细描述本技术，但并不仅限于实例。
[0097]在本实例中，在光学密度(OD)的测量中，使用Audiodev C0.的ETA-RT (型号名称:ETA-RT3以及序列编号:050707)。此外，在测量时，相关因子被设置为“I”(未被校正的值)。
[0098]此外,在测量基板的槽深度时,使用Dr.Schwab C0.的Argus。
[0099](样本1-1 至 1-8)
[0100]首先，通过注射成型形成由聚碳酸酯树脂制成的基板。这时，包括槽脊和凹槽的不平坦表面形成在基板的一个主表面上。槽脊和凹槽的间距(即，轨道距)是1.6mm，并且凹槽的深度是200nm。
[0101]接着，制备包括酞菁染料的涂敷材料。接着，通过旋涂法将制备的涂敷材料涂敷在基板的不平坦表面上，并且沉积有机染料膜。这时，对有机染料膜的沉积条件进行调整，从而使得光学密度(OD)是0.329 (样本1-1),0.364 (样本1-2),0.382 (样本1-3),0.452 (样本 1-4)、0.515 (样本 1-5)、0.655 (样本 1_6)、0.690 (样本 1-7)以及 0.746 (样本 1-8)。
[0102]接着，通过溅射在有机染料上沉积膜厚为50nm的Al膜。接着，通过旋涂法将紫外线固化树脂涂敷在基板上，并且通过紫外射线照射对紫外线固化树脂进行固化。因此，保护层形成在基板上。
[0103]通过上述处理，获得了用于此目的的一次写入光学信息记录介质。
[0104](样本2-1)
[0105]除了对有机染料膜的沉积条件进行调整，从而使得光学密度(OD)为0.515并且具有65nm膜厚度的Ag膜沉积在有机染料层上之外，以与样本1_1至1_8的相同方式获得一次写入光学信息记录介质。
[0106](评估)
[0107]在以上述方式获得的样本1-1至1-8以及样本2-1的一次写入光学信息记录介质的内周部分(半径24mm)、中心的外围部分(半径40mm)、以及外周部分(半径58mm)中，对最大反射率R_和未记录时间处的推挽信号PPb进行的评估。图4A和图4B中示出了结果。
[0108](讨论)
[0109]从上述评估结果中有以下发现。
[0110]当使用Ag膜作为反射层时，最大反射率Rttjp在0.515的光学密度时是大于或者等于0.60的标准值。同时，当使用Al膜作为反射层时，最大反射率Rtop在0.515的光学密度时小于0.60的标准值。
[0111]当使用Al膜作为反射层时，在0.329至0.746的光学密度范围内，存在最大反射率R_随着光学密度的增加而增加。
[0112]当使用Ag膜作为反射层时，未记录时间处的推挽信号PPb在0.515的光学密度时处于0.080至0.13标准值的范围内。同时，甚至当使用Al膜作为反射层时，未记录时间处的推挽信号PPb在0.515的光学密度时处于0.080至0.13标准值的范围内。[0113]当使用Al膜作为反射层时，在光学密度大于等于0.329并且小于等于0.746的范围内，存在推挽信号PPb随着光学密度的增加而降低的趋势。
[0114]因此，当使用Al膜作为反射层时，认为难以使得最大反射率Rtop和未记录时间处的推挽信号PPb同时满足标准值。
[0115]此外，当最大反射率Rtop和未记录时间处的推挽信号PPb偏离于标准值时，存在难以通过一般消费者驱动来记录或者再现一次写入信息记录介质的趋势。
[0116](样本3-1)
[0117]除了凹槽的深度是198nm之外，以与样本1_5相同的方式获得一次写入光学信息记录介质。
[0118](样本3-2)
[0119]除了奥槽的深度是220nm之外，以与样本1_5相同的方式获得一次写入光学信息记录介质。
[0120](样本4-1)
[0121]除了光学密度是0.560之外，以与样本3-1相同的方式获得一次写入光学信息记录介质。
[0122](样本4-2)
[0123]除了光学密度是0.560之外，以与样本3-2相同的方式获得一次写入光学信息记录介质。
[0124](样本5-1)
[0125]除了光学密度是0.600，以与样本3-1相同的方式获得一次写入光学信息记录介质。
[0126](样本5-2)
[0127]除了光学密度是0.600之外，以与样本3-2相同的方式获得一次写入光学信息记录介质。
[0128](样本6-1)
[0129]除了光学密度是0.710之外，以与样本3-1相同的方式获得一次写入光学信息记录介质。
[0130](样本6-2)
[0131]除了光学密度是0.710之外，以与样本3-2相同的方式获得一次写入光学信息记录介质。
[0132](评估)
[0133]在以上述方式获得的样本3-1至6-2的一次写入光学信息记录介质的中心外周部分(半径40mm冲，对最大反射率Rttjp和未记录时间处的推挽信号PPb进行了评估。图5A和图5B的表格I中示出了结果。
[0134]表I示出了样本3-1至6-2的一次写入光学信息记录介质的评估结果。
[0135][表 I]
[0136]
【权利要求】
1.一种光学信息记录介质包括: 基板，所述基板在其表面上具有凹部； 记录层；以及 反射层； 其中，通过所述记录层的光学密度的范围与所述基板的所述凹部的深度的范围的组合抑制反射率劣化。
2.根据权利要求1所述的光学信息记录介质，其中，所述记录层的所述光学密度的所述范围是大于0.560并且小于或者等于0.700的范围，并且所述基板的所述凹部的所述深度的所述范围是198nm至220nm的范围。
3.根据权利要求2所述的光学信息记录介质，其中，通过使用具有0.44至0.46范围内的数值孔径的物镜会聚具有770nm至790nm的范围内的波长的光并且使用所会聚的光从所述基板侧的所述表面照射所述记录层来进行记录或者再现信息信号。
4.根据权利要求1所述的光学信息记录介质，其中，所述反射率保持在大于或者等于0.6的范围内。
5.根据权利要求1所述的光学信息记录介质，其中，通过所述记录层的所述光学密度的所述范围与所述基板的所述凹部的所述深度的范围的组合，改进了推挽信号。
6.根据权利要求5所述的光学信息记录介质，其中，所述推挽信号处于0.08至0.13的范围内。
7.根据权利要求1所述的光学信息记录介质，其中，所述反射层包括铝作为主要成分。
8.根据权利要求1所述的光学信息记录介质，其中，所述记录层包括有机染料。
【文档编号】G11B7/2585GK103608862SQ201380001770
【公开日】2014年2月26日 申请日期:2013年4月18日 优先权日:2012年4月26日
【发明者】竹内厚, 大和田克也 申请人:索尼公司