信息记录介质用玻璃基板的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及信息记录介质用玻璃基板的制造方法。
【背景技术】
[0002]以往，在用于计算机等的信息记录介质(磁盘记录介质)中，使用了铝基板或玻璃基板。在这些基板上形成有磁性薄膜层，利用磁头使磁性薄膜层磁化，由此在磁性薄膜层中记录信息。
[0003]近年来，在硬盘驱动器(HDD)装置中，记录密度愈发高密度化。因记录密度的高密度化，信息记录介质(介质)与在信息记录介质上浮起并进行记录的读写的磁头之间的间隙(飞行高度)缩小至几nm左右。
[0004]随着浮起高度变小，在将信息记录介质用于硬盘驱动器装置中的情况下，容易发生访问记录于介质中的数据时的读取错误和/或写入错误、及磁头碰撞介质表面的磁头碰撞等问题。为了抑制这些问题，作为信息记录介质而被容许的基板表面的缺陷的大小也进一步减小，因此，作为信息记录介质用玻璃基板也追求更高的表面平滑性，为了抑制附着在玻璃基板表面的异物、玻璃基板表面的起伏，对制造方法进行了各种钻研。
[0005]另一方面，近年来，HDD的存储容量被进一步提高，目前开发出具有如下记录密度的装置:在一张2.5英寸的记录介质中，记录容量为500GB(单面250GB)、面记录密度为630Gbit/平方英寸以上。
[0006]在信息记录介质用玻璃基板的制造工序中采用了使用双面研磨装置来研磨玻璃基板的表面的工序。例如，在日本特开2005 — 8353号公报(专利文献I)中使用了具有用于从载置在下侧平台上的下侧研磨垫回收研磨后的玻璃基板的特殊结构的工具。
[0007]现有技术文献
[0008]专利文献
[0009]专利文献1:日本特开2005-8353号公报
【发明内容】
[0010]发明所要解决的问题
[0011]在使用上述工具从下侧平台上的下侧研磨垫取出研磨后的玻璃基板时，有时玻璃基板牢固地吸附在下侧研磨垫上。若下侧研磨垫吸附玻璃基板的吸附力大，则在从下侧研磨垫上取出玻璃基板时需要较大的力，因此，在使用取出器具的情况下，担心由该器具引起的污渍重新附着在玻璃基板上。
[0012]在对污渍附着的状态下的玻璃基板进行了信息记录介质(磁盘)化之后，会导致记录特性的下降。
[0013]从下侧研磨垫取出玻璃基板时的较大的力施加给下侧研磨垫和下侧平台，担心对下侧研磨垫和下侧平台造成损伤。
[0014]若下侧研磨垫和下侧平台产生损伤，则在使用下侧研磨垫和下侧平台而研磨后的玻璃基板上产生划痕等缺陷，在进行了信息记录介质化之后，会导致记录特性的下降。在双面研磨装置中，上侧研磨垫和上侧平台也可能产生相同的问题。
[0015]本发明就是鉴于上述实际情况而完成的，其目的在于提供一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，所述信息记录介质用玻璃基板的制造方法能够提供一种在对信息记录介质用玻璃基板进行了信息记录介质化之后，不会导致记录特性的下降的信息记录介质用玻璃基板。
[0016]用于解决问题的手段
[0017]基于本发明的信息记录介质用玻璃基板的制造方法是一种使用研磨装置的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，所述研磨装置在平台上安装有由含有多个发泡孔的部件构成的研磨垫，并使用上述研磨垫对玻璃基板的表面进行研磨，所述信息记录介质用玻璃基板的制造方法包括以下的工序。
[0018]包括:在上述平台上载置上述玻璃基板的工序；利用上述研磨装置一边向上述玻璃基板供给液体状研磨剂一边对上述玻璃基板的表面进行研磨的工序；以及从上述平台取出研磨后的上述玻璃基板的工序。
[0019]在向上述研磨垫供给了上述液体状研磨剂的状态下，上述研磨垫对上述玻璃基板的吸附力为0.50g/cm2以上且15g/cm2以下。
[0020]在另一方式中，上述研磨垫具有连通相邻的上述发泡孔的多个连通孔，在沿着上述平台的法线方向的上述研磨垫的纵截面中，截面积为0.0lmm2以上的上述连通孔以在上述纵截面中每25mm230个以上的密度存在。
[0021]在另一方式中，在沿着上述平台的法线方向的上述研磨垫的纵截面中，截面积为0.0Imm2以上的上述连通孔以在上述纵截面中每25mm 280个以上的密度存在。
[0022]在另一方式中，在从上述平台取出研磨后的上述玻璃基板的工序中，在上述研磨垫含有上述液体状研磨剂的状态下，从上述平台取出研磨后的上述玻璃基板。
[0023]在另一方式中，在从上述平台取出研磨后的上述玻璃基板的工序中，上述液体状研磨剂的浓度为，利用上述研磨装置对上述玻璃基板的表面进行研磨的工序中的上述液体状研磨剂的浓度的1.5倍以上。
[0024]发明效果
[0025]根据本发明，提供一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，所述信息记录介质用玻璃基板的制造方法能够提供一种在对信息记录介质用玻璃基板进行了信息记录介质化之后，不会导致记录特性的下降的信息记录介质用玻璃基板。
【附图说明】
[0026]图1是示出在磁盘中使用的玻璃基板的立体图。
[0027]图2是示出具备玻璃基板的磁盘的立体图。
[0028]图3是示出实施方式中的玻璃基板的制造方法的流程图。
[0029]图4是在研磨工序中使用的双面研磨装置的局部立体图。
[0030]图5是示出实施方式中的信息记录介质用玻璃基板的制造方法的第2抛光工序的细节的流程图。
[0031]图6是【背景技术】中的下侧研磨垫的放大纵剖视图。
[0032]图7是实施方式中的下侧研磨垫的放大纵剖视图。
[0033]图8是示出实施例1至实施例4以及比较例I至比较例3中的缺陷检查结果以及读写试验结果的图。
【具体实施方式】
[0034]下面，参考附图，对基于本发明的实施方式和实施例进行说明。在实施方式和实施例的说明中，在提及个数、量等的情况下，除了特别记载的情况外，本发明的范围并不一定限定于该个数、量等。在实施方式和实施例的说明中，存在这样的情况:对于同一部件和相应的部件，标记相同的参考标号，且不反复进行重复的说明。
[0035](玻璃基板I/磁盘10)
[0036]参照图1和图2，首先，对通过基于本实施方式的信息记录介质用玻璃基板的制造方法所得到的玻璃基板1、和具备玻璃基板I的磁盘10进行说明。图1是示出在磁盘10 (参照图2)中使用的玻璃基板I的立体图。图2是示出具备玻璃基板I来作为信息记录介质的磁盘10的立体图。
[0037]如图1所示，在磁盘10中使用的玻璃基板I (信息记录介质用玻璃基板)呈在中心形成有孔IH的环状的圆板形状。圆形盘形状的玻璃基板I具有正面主表面1A、背面主表面1B、内周端面IC和外周端面1D。
[0038]玻璃基板I的大小并不特别限制，例如，外径可以是0.8英寸、1.0英寸、1.8英寸、2.5英寸或者3.5英寸等。出于防止破损的观点，玻璃基板I的厚度例如为0.30mm?2.2mm。本实施方式中的玻璃基板I的大小为:外径约65mm，内径约20mm，厚度约0.8mm。玻璃基板I的厚度是通过在玻璃基板I上的处于点对称的任意多个点处测量的值的平均而计算出的值。
[0039]如图2所示，关于磁盘10，在上述的玻璃基板I的正面主表面IA上形成磁性膜，从而形成含有磁性记录层的磁性薄膜层2。在图2中，仅在正面主表面IA上形成有磁性薄膜层2，但可以在背面主表面IB上也形成有磁性薄膜层2。
[0040]磁性薄膜层2通过将分散有磁性粒子的热固化性树脂旋涂于玻璃基板I的正面主表面IA上而形成(旋涂法)。磁性薄膜层2也可以通过溅射法或非电解镀层法等形成于玻璃基板I的正面主表面IA。
[0041]形成在玻璃基板I的正面主表面IA的磁性薄膜层2的膜厚在旋涂法的情况下为约0.3 μ m?约1.2 μ m，在派射法的情况下为约0.04 μ m?约0.08 μ m，在非电解镀层法的情况下为约0.05 μ m?约0.1 μ m。从薄膜化和高密度化的观点出发，优选磁性薄膜层2通过溅射法或非电解镀层法来形成。
[0042]作为用于磁性薄膜层2的磁性材料，并不特别限定，可以使用以往公知的磁性材料，但是，为了得到高保持力，以结晶各向异性高的Co为基本成分，为了调整残留磁通密度，优选加入了 Ni或Cr的Co系合金等。作为适用于热辅助记录的磁性层材料，可以采用FePt系的材料。
[0043]为了提高磁头的光滑度，可以在磁性薄膜层2的表面薄薄地涂覆润滑