专利名称：搬送装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种在真空气氛下搬送例如加热后的基板等的薄板状 的工件的搬送装置。
背景技术：
作为用于在真空下搬送薄板状的工件的搬送装置，具有例如下述 的专利文献1中公开的装置。该搬送装置在旋转基座上设有一对连杆 臂机构，在这些连杆臂机构的各个前端部上设有能够将液晶显示板用
的玻璃基板等的板状工件保持水平的柄(hand)。如果旋转基座在固定 基座上围绕铅垂轴旋转，则使一对连杆臂机构随之转动，如果连杆臂 机构进行摆动，则使保持在柄上的板状工件在水平面内直线移动。从 而使板状工件从规定位置向其他位置搬送。
作为其他的搬送机构，具有例如下述的专利文献2中公开的装置。 在该搬送装置的旋转基座上固定有在连杆臂机构摆动时用于支撑所述 柄并引导其沿规定方向移动的导轨。通过这样的构成，能够使保持有 板状工件的柄以更稳定的姿势直线移动。
这样的搬送装置，在例如液晶显示板的制造工序中，多用于板状 工件向各处理室的搬进或搬出。在这样的制造工序中，所述搬送装置， 在例如清洁程序中的真空气氛下搬送加热后的玻璃基板中使用。
但是，所述的传统的搬送装置，在真空气氛下搬送加热后的板状 工件时，在热的条件方面，会无法承受其使用气氛。即、在这样的搬 送装置的使用中，例如，在大气压气氛气体下设置固定基座的状态下， 将旋转基座设置在保持真空状态的搬送室内部空间内。在板状工件的 搬送时，如果将该加热后的工件保持在柄上，则由于从该工件辐射的 辐射热会导致与柄邻接的连杆臂机构变形，从而会导致难以确保搬送 的精度。另外，在真空气氛下配置旋转基座的情况下，在例如旋转基座的 周边等的部位设置用于保持气密性的真空密封件。在搬送加热后的板 状基板的情况下，该真空密封件接受来自板状工件的热量，由此可能 导致真空密封件性能下降从而损害气密性。
专利文献1:日本特开2005-186259号公报 专利文献2:日本特开2005-125479号公报
发明内容
本发明在于提供一种在真空气氛下搬送加热后板状工件时，能够 解除或者降低受到来自该工件的热导致的不方便的状况的搬送装置。
本发明提供的搬送装置，其配置在真空室内，具有固定基座、相 对于该固定基座保持为可转动地的旋转基座、支撑于该旋转基座的直 线移动机构、和支撑于该直线移动机构的柄，其中，在上述旋转基座 的期望的旋转位置通过上述直线移动机构的动作，水平保持上述柄上
载置的板状工件并进行搬送，其特征在于在上述旋转基座或者上述 直线移动机构的下表面侧的合适部位设有热辐射面，在形成上述真空 室的壁中的与上述旋转基座的下表面侧相对的壁的至少一部分上设有 热吸收面。
优选在上述旋转基座或者上述直线移动机构的下表面侧的合适部 位设有反射来自上述的柄侧的热的热反射面。
优选上述热吸收面设于上述真空室的底面或者上述固定基座的向 上述真空面的露出面的至少一部分。
优选设有向外部排放通过上述吸收面吸收的热量的冷却单元。
上述冷却单元优选包括以与设于上述吸收面的部件接触的方式饶 设的制冷剂循环通路。
优选上述直线移动机构构成为连接多个臂而成的连杆臂机构，在 该连杆臂机构的上表面侧的合适部位设有上述热反射面，并且在上述 连杆臂机构的下表面侧的合适部位设有上述热辐射面。
优选上述直线移动机构还具有支撑在上述旋转基座上，并且引导 上述柄沿规定方向移动的导轨，在上述导轨和上述柄之间设有上述热 反射面。
图1是本发明的搬送装置的整体立体图。
图2是图1所示的搬送装置的侧视图。 图3是图1所示的搬送装置的主视图。 图4是沿图2的IV-IV线的局部截面图。 图5表示臂的截面构造。
图6是本发明的搬送装置配置在真空室内状态的一例的局部截面
具体实施例方式
以下参照附图，对本发明的搬送装置和具有该搬送装置的冷却构 造的优选实施方式进行具体的说明。
图1至图4表示本发明的搬送装置。搬送装置A用于搬送例如液 晶显示板用的基板等的薄板状工件。如图1至图3所示，该搬送装置A 包括固定基座1、相对于固定基座1保持为可以绕铅垂轴Os旋转的旋 转基座2、相对于旋转基座2被支撑为可摆动的一对连杆臂机构3A、 3B、分别支撑于连杆臂机构3A、 3B的柄4A、 4B、用于分别在规定的 水平方向内引导柄4A、 4B的两组导轨5A、 5B。柄4A、 4B用于将上 述薄板状工件W以水平姿势保持。
如图4具体所示，固定基座1具有中空的大致为圆柱状的外形的 壳体10，其上端壁向外突出形成凸缘部11。在凸缘部11上形成中心 开口 IIA。
并且，在本实施方式中，在凸缘部ll的上表面设有吸热板61。该 吸热板61由例如在铝上实施氧化铝膜处理的表面呈黑色的辐射率大的 材料形成，其上表面为热吸收面。该辐射率例如为0.9左右。在吸热板 61的上表面相隔规定的间隔以大致为同心圆状设有作为制冷剂循环通 路的配管81。用于送出例如作为制冷剂的空气的泵(无图示)与该配 管81连接，。吸热板61、配管81和上述泵发挥作为将上述热吸收面吸 收的热量向外部放出的冷却单元的作用。另外，图2和图3中，对吸 热板61施加阴影线。在壳体10的内部，升降基座12被支撑为可升降。升降基座12具 有圆筒部12A和在该圆筒部12A下端设置的图外的外向凸缘部。圆筒 部12A的上端部通过中心开口 11A向上方突出。升降基座12的整体 构成为例如通过滚珠丝杠机构13能够沿上下方向移动。
在壳体10的凸缘部11和设于升降基座12的下端的上述外向凸缘 部之间，以包围该升降基座12的圆筒部12A的方式设有波纹管14。 波纹管14伴随着升降基座12的上下移动进行伸縮，对壳体10的凸缘 部11和升降基座12的上述外向凸缘部之间进行气密密封。
旋转基座2具有壳体20和在其下方一体连接的圆筒轴21。圆筒轴 21通过轴承231可转动地支撑于升降基座12的圆筒部12A的内部。
在圆筒部12A和圆筒轴21之间还设有真空密封件241 。该真空密 封件241对该真空密封件241的上侧空间和该真空密封件241的下侧 固定基座1内的空间进行遮蔽并保持气密性。
在圆筒轴21的下端部一体地形成有滑轮21A，该滑轮21A和安装 在支撑于圆筒部12A内的电动机M1的输出轴上的滑轮之间挂设有环 形带251。由此，如果使电动机M1驱动，则旋转基座2绕铅垂轴Os 旋转。
用于使连杆臂机构3A、 3B进行摆动的传动轴26、 27以同轴状插 通在旋转基座2的圆筒轴21中。传动轴27为圆筒状的轴，通过轴承 232可旋转地支撑于圆筒轴21的内侧。传动轴26通过轴承233可旋转 地支撑于传动轴27的内侧。
在旋转基座2的壳体20的下表面设有热辐射板62。该热辐射板 62由例如在铝上实施氧化铝膜处理的表面呈黑色的辐射率大的材料形 成。该辐射率例如为0.9左右。另外，在图2和图3中，在热辐射板 62施加阴影线。 #
在传动轴26、 27的上端部设有滑轮26A、 27A。在滑轮26A、 27A 和连杆臂机构3A、3B的旋转轴之间挂设有环形带252、 253。另一方 面，传动轴26的下端部与支撑于圆筒部12A内的电动机M2的输出轴 连接。在传动轴27的下端部设有滑轮27B，该滑轮27B和安装在支撑 于圆筒部12A内的电动机M3的输出轴上的滑轮之间挂设有环形带 254。如果使电动机M2、 M3驱动，连杆臂机构3A、 3B随着旋转轴
730的旋转进行摆动。
连杆臂机构3A、 3B分别连接有多个臂31~34而构成，作为直线 移动机构行使功能。臂31~34由例如具有规定刚性的不锈钢等金属构 成。连杆臂机构3A、 3B的主要构成及其操作与现有的相同，因此省 略其详细说明。臂31的基端部31A在旋转基座2的壳体20的上部设 置的开口中通过轴承234支撑为可旋转。旋转轴30通过减速机构35 与基部31A的下端连接。基部31A和壳体20的上部之间，在轴承234 的上方，设有用于保持气密性的真空密封件242。由此，将壳体20内 部进行气密密封。
在臂31~34的上表面设有热反射板71。热反射板71例如由不锈钢 制成。热反射板71的上表面(与柄4A、 4B相对的表面)被实施镜面 加工，成为热反射面。由此，该上表面辐射率变小，该反射率为例如 0.1左右。另外，在图1中，省略热反射板71的记载，在图2和图3 中，在热反射板71上施加阴影线。
在臂31-34的下表面设有热辐射板63。该热辐射板63由例如在铝 上实施氧化铝膜处理的表面呈黑色的辐射率大的材料形成，其下表面 为热辐射面。该辐射率例如为0.9左右。另外，在图2和图3中，在热 辐射板63上施加阴影线。
图5表示臂31的截面结构的一例。在臂31的主要部位，以包围 其周围的方式设有绝热部件91。热反射板71和热辐射板63通过由陶 瓷等形成的绝热部件91设置在臂31上。另外，在臂31的侧面部分， 可以设有与热辐射板63相同构成的热辐射板64。对其他的臂32~34， 也可以采用与臂31相同的截面构造。
导轨5A、 5B支撑在旋转基座2的导向部件22上，具有作为直线 移动机构的机能。具体而言，如图4所示，旋转基座2具有连接在壳 体20的中央上方的支柱部20A，在该支柱部20A的上部一体设有导向 部件22。
在导向部件22的下表面设有热辐射板65。该热辐射板65由例如 在铝上实施氧化铝膜处理的表面呈黑色的放射率大的材料形成，其下 表面为热辐射面。该放射率例如为0.9左右。另外，图2和图3中，在 热辐射板65上施加阴影。柄4A通过滑块40A支撑在内侧的两个导轨5A上。柄4B绕过柄 4A的侧面通过滑块40B支撑在外侧的两个导轨5B上。沿导向部件22 的长度方向延伸的多个叉状保持片41A、41B —体形成在柄4A、4B上， 上述薄板状工件W被载置保持在这些保持片41A、 41B上。连杆臂机 构3B的臂34 (图4中位于左侧)的前端部可旋转地连接在柄4B上。 在柄4A上设有经过外侧导轨5B的下方向外侧延伸的延长部42A。连 杆臂机构3A的臂34 (图4中位于右侧)的前端部可旋转地连接在延 长部42A上。
在导向部件22的上方还设有热反射板72。热反射板72通过支撑 部配置在柄4A、 4B (保持片41A、 41 B)和导轨5A、 5B之间，当在 保持片41A、 41B上载置加热后的工件W时，其用于反射来自工件W 的热量。如图1和图4所示，热反射板72以不对柄4A、 4B造成干扰 的方式分割成3片设置。热反射板72例如由不锈钢制成。热反射板72 的上表面(与柄4A、 4B相对的面)被实施镜面加工，形成热反射面。 由此，辐射率变小，该反射率例如为0.1左右。另外，在图2和图3 中，在热反射板72施加阴影线。
如果一侧的连杆臂机构3A进行摆动，则与其连动，下侧的柄4A 支撑在内侧的两个导轨5A上，并进行水平滑动。如果另一侧的连杆臂 机构3B进行摆动，则上侧的柄4B以不对柄4A造成干扰的方式支撑 在外侧的两个导轨5B上，并进行水平滑动。此时，连接柄4A和连杆 臂机构3A的延长部42A不受导向部件22的妨碍地进行滑动。这样， 载置于柄4A、 4B的保持片41A、 41B上的工件W以稳定的姿势被搬 送。
在例如液晶显示板的制造工序中，上述构成的搬送装置A用于将 工件向处理室搬入或者搬出。此时，搬送装置A在真空气氛下配置例 如在周边配置有多个处理室的输送室中。
图6表示搬送装置A二在作为真空室的输送室B内配置的状态的一 例。在输送室B的侧壁设有与负载锁定室或处理室连通的通路，在该 通路中，设有只在与负载锁定室或处理室之间搬送工件W时开放的闸 门(未图示)。在输送室B的底壁上，形成由用于安装搬送装置A的 开口。搬送装置A通过固定基座1的凸缘部ll以密封状态固定在输送室B中，在凸缘部11的上方的部件以位于输送室B的内部空间的方式 配置。搬送装置A中的该部件处于真空气氛下。根据这样的构成，输 送室B的底壁和与其连接的搬送装置A的凸缘部11成为构成输送室B 的内部空间的壁。
在输送室B的底壁的上表面设有吸热版66。该吸热板66由例如 在铝上实施氧化铝膜处理的表面呈黑色的辐射率大的材料形成，其上 表面成为热吸收面。该辐射率例如为0.9左右。在吸热板66的上表面， 相隔规定的间隔设有作为制冷剂循环通路的配管82。用于送出例如作 为制冷剂的水的泵(未图示)与该配管82连接。吸热板66、配管82 以及上述泵发挥作为将上述热吸收面吸收的热量向外部放出的冷却单 元的作用。
在搬送装置A运转时，如果将加热到例如250 400'C的玻璃基板 等的工件W在真空气氛下进行反复搬送，则旋转基板2和连杆臂机构 3A、 3B容易接收到来自工件W的热量。设在旋转基板2和连杆臂机 构3A、 3B的旋转部分的真空密封件241、 242，直至某种程度的温度 时保持气密性，超过规定的耐用温度时则气密性会受到损害。另外， 由于臂31 34等由不锈钢等金属形成，温度越高会由于热膨胀等在大 小上产生越大的误差。导轨5A、 5B也会由于热膨胀导致大小上产生 较大的误差。
对此，本实施方式中，在与连杆臂机构3A、 3B的柄4A、 4B相对 的面或者柄4A、 4B与导轨5A、 5B之间，设有用于反射来自柄4A、 4B上保持的工件W的热量的热辐射板71、 72。因此，从工件W反射 的辐射热量，通过该热反射板71、 72的热反射面被反射。因此，可以 防止由于从接近连杆臂机构3A、 3B以及导轨5A、 5B的工件W直接 发出的辐射热量而导致的不当过热。
另外，本实施方式中，如图6所示，在旋转基座2以及连杆臂机 构3A、 3B的下表面侧的合适部位，设有热辐射板62、 63、 65。而且， 在形成输送室B的壁面中的与旋转基座2的下表面相对的壁面(输送 室B的底壁的上表面以及与其连接的凸缘部11的上表面)上，设有在 表面具有热吸收面的吸热板61、 66，在该吸热板6K 66的热吸收面上 设有作为制冷剂循环通路的配管81、 82。因此，即使由于没有被上述热反射板71、 72反射而向热反射板71、 72的周边传递的辐射热，或 来自工件W的热传导，旋转基座2和连杆臂机构3A、 3B接收到热量， 该热量也会从相对高温的热辐射板62、63、65向相对低温的吸热板61、 66辐射。并且通过吸热板61、 66吸收的热量，通过配管81、 82中流 通的制冷剂向输送室B的外部迅速放出。因此，通过这样的构成，能 够防止连杆臂机构3A、 3B和导轨5A、 5B的过热。
根据本实施方式的构成，即使通过搬送装置A搬送加热后的工件 W，也能够将来自工件W的热量有效地向输送室B的外部排出。因此， 能够防止连杆臂机构3A、 3B和导轨5A、 5B由于过热导致的热膨胀产 生较大的尺寸误差。因此，能使柄4A、 4B进行正确操作，在真空气 氛下以良好的精度平稳地搬送加热后的工件W。另外，不会对设于旋 转基座2和连杆臂机构3A、 3B的旋转部分的真空密封件241、 242的 气密性造成损坏。
以上，对本发明的实施方式进行了说明，但是本发明的范围不受 上述实施方式的限制。本发明的搬送装置各部分的具体构成，在不超 出发明的思想的范围内可以进行种种变更。
在上述实施方式中，作为冷却单元，在形成真空室的壁的内侧设 有构成冷却单元的制冷剂循环通路，但是，也可以取而代之，将制冷 剂循环通路设在形成真空室的壁的外侧。另外，作为冷却单元的构成， 也可以在形成真空室的壁的外侧或者壁内设置散热片，以该散热片进 行散热冷却。
另外，作为直线移动机构，也可以采用不具有对柄进行导向的导 轨的构成。另外，作为直线移动机构，也可以采用通过柄驱动可移动 地支撑于导轨上的柄的机构取代连杆臂机构。
ii
权利要求
1.一种搬送装置，其配置在真空室内，包括固定基座、相对于该固定基座保持为可旋转的旋转基座、支撑于该旋转基座的直线移动机构、和支撑于该直线移动机构的柄，在所述旋转基座的期望的旋转位置通过所述直线移动机构的动作，水平保持所述柄上载置的工件并进行搬送，其特征在于在所述旋转基座或者所述直线移动机构的下表面侧的合适部位设有热辐射面，在形成所述真空室的壁中的、与所述旋转基座的下表面侧相对的壁的至少一部分上，设有热吸收面。
2. 如权利要求1所述的搬送装置，其特征在于 在所述旋转基座或者所述直线移动机构的上表面侧的合适部位，设有反射来自所述柄侧的热量的热反射面。
3. 如权利要求1所述的搬送装置，其特征在于 所述热吸收面设置在所述真空室的底面或者所述固定基座的向所述真空室的露出面的至少一部分上。
4. 如权利要求1所述的搬送装置，其特征在于 设有向外部排出由所述吸收面吸收的热量的冷却单元。
5. 如权利要求4所述的搬送装置，其特征在于 所述冷却单元包括以与设有所述热吸收面的部件接触的方式绕设的制冷剂循环通路。
6. 如权利要求1所述的搬送装置，其特征在于 所述直线移动机构构成为，连接多个臂而成的连杆臂机构， 在该连杆臂机构的上表面侧的合适部位设有所述热反射面，并且在所述连杆臂机构的下表面侧的合适部位设有所述热辐射面。
7.如权利要求6所述的搬送装置，其特征在于-所述直线移动机构还具有支撑在所述旋转基座上，并用于引导所 述柄沿规定方向移动的导轨，在所述导轨和所述柄之间设有所述热反射面。
全文摘要
本发明提供一种搬送装置(A)，其配置于真空室(B)内，包括固定基座(1)、相对于固定基座(1)保持为可旋转的旋转基座(2)、支撑于旋转基座(2)的直线移动机构(3A、3B)、和支撑于直线机构(3A、3B)的柄(4A、4B)，通过直线移动机构(3A、3B)的动作对载置于柄(4A、4B)的工件(W)进行搬送。在旋转基座(2)或者直线移动机构(3A、3B)的下表面侧的适当部位设有热辐射板(62、63、65)，在形成真空室(B)的壁中的与旋转基座(2)的下表面侧相对的壁上设有吸热板(61、66)。
文档编号H01L21/677GK101627467SQ20078005193
公开日2010年1月13日 申请日期2007年3月2日 优先权日2007年3月2日
发明者佐渡大介, 冈本启, 宫本玲, 松尾英树, 西森康博 申请人:株式会社大亨