专利名称：太阳能电池硅片清洗装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种太阳能硅片的生产技术，特别是一种太阳能电池硅片清洗装置。
背景技术：
太阳能是取之不尽用之不竭的清洁能源，人们很早利用太阳能，到太阳能电池的出现，对太阳能的使用更是上了一个新台阶。随着光伏行业的飞速发展，人们对其成本控制及产品质量的要求也越来越高。在太阳能电池的制造过程中，由于表面的污染物会直接影响到制绒的质量、效率、成品率、优质品率以及转化效率。所以硅片的清洗也越来越受到人们的重视。很多企业都在进行清洗方面工艺的改进。硅片表面的污染物通常是以化学或物理吸附的方式存在于硅片的表面或其自身氧化膜中。清洗要求是在不损坏硅片的前提下去除各类杂质。一般的硅片清洗可分为物理清洗和化学清洗，化学清洗包括水溶性清洗和气相清洗等。由于前者价格便宜，方便操作， 对杂质的选择性好又可以将杂质清洗至很低的水平等优势，在业界一直占主导地位。现有技术中，大多采用水溶性清洗液在热风干燥式清洗机中清洗，其弊病之一就是经去离子水慢拉后不能彻底去除硅片表面水分，经热风干燥后会使部分硅片上部粘连在一起，部分硅片风干不彻底或有水纹；弊病之二是纯水慢拉要用循环水，这样的话水温就很难控制，设备制作也较复杂，若不用循环的话，水温比较受控，但水质容易变坏，从而污染硅片，导致清洗硅片不合格；弊病之三通常为了保证硅片能充分干燥，这一环节通常要设2-4 个工位来热风干燥，使得这一生产周期变长。
实用新型内容本实用新型的目的是为了解决上述现有技术的不足而提供一种清洗过程简单、方便，清洗效果好，不会产生水迹并降低清洗能耗的太阳能电池硅片清洗装置。为了实现上述目的，本实用新型所提供的太阳能电池硅片清洗装置，包括清洗槽和干燥室，其特征是在清洗槽内设有超声波发生器，在干燥室上设有负压吸风口和热量循环回路，负压吸风口和热量循环回路之间连接有空气净化回收单元。在清洗槽和干燥室之间设有输送装置，在干燥室内设有加热器。在清洗槽上设有视窗口。本实用新型提供的太阳能电池硅片清洗装置，使用时，在清洗槽内加入溶剂型清洗液进行超声波清洗，清洗后的硅片在负压状态下通过热风干燥，由此保证了干燥质量，并且通过热量循环回路和空气净化回收单元既可以回收被蒸发的溶剂，又可循环利用加热的热量，达到既环保，又节能的效果，由于具体的热量循环回路和空气净化回收单元的设计是化工设备的普通技术人员都能实现的技术，在此不作详细描述。本实用新型提供的太阳能电池硅片清洗装置，适合于采用溶剂型清洗剂对硅片进行清洗，湿硅片进入清洗溶剂后，湿硅片上的水会迅速沉落，由于溶剂具有极强的渗透性， 对硅片表面的残留物也有溶解和强力的清洗作用，再在超声波的作用下，能迅速达到清洗目的，与现有技术相比，缩短了清洗时间，简化清洗设备及清洗工艺。提高设备产能；节约了清洗能耗，也提高了对硅片清洗的清洁度。
图1是实施例结构示意图。图中清洗槽1、视窗口 11、干燥室2、加热器22、超声波发生器3，输送装置4、负压吸风口 5、空气净化回收单元6、热量循环回路7。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。实施例如图1所示，本实用新型提供的太阳能电池硅片清洗装置，包括清洗槽1和干燥室 2，其特征是在清洗槽1内设有超声波发生器3，在干燥室2上设有负压吸风口 5和热量循环回路7，负压吸风口 5和热量循环回路7之间连接有空气净化回收单元6。在清洗槽1和干燥室2之间设有输送装置4，在干燥室2内设有加热器22。在清洗槽1上设有视窗口 11。使用时，在清洗槽1内加入溶剂型清洗液进行超声波清洗，清洗后的硅片在负压状态下通过热风干燥，由此保证了干燥质量，并且通过热量循环回路7和空气净化回收单元6既可以回收被蒸发的溶剂，又可循环利用加热的热量，达到既环保，又节能的效果。
权利要求1.一种太阳能电池硅片清洗装置，包括清洗槽(1)和干燥室O)，其特征是在清洗槽(1)内设有超声波发生器(3)，在干燥室( 上设有负压吸风口( 和热量循环回路(7)，负压吸风口( 和热量循环回路(7)之间连接有空气净化回收单元(6)。
2.根据权利要求1所述的太阳能电池硅片清洗装置，其特征是在清洗槽(1)和干燥室(2)之间设有输送装置G)，在干燥室(2)内设有加热器02)。
3.根据权利要求1或2所述的太阳能电池硅片清洗装置，其特征是在清洗槽(1)上设有视窗口(11)。
专利摘要本实用新型公开了一种太阳能电池硅片清洗装置，包括清洗槽和干燥室，其特征是在清洗槽内设有超声波发生器，在干燥室上设有负压吸风口和热量循环回路，负压吸风口和热量循环回路之间连接有空气净化回收单元。在清洗槽和干燥室之间设有输送装置，在干燥室内设有加热器。在清洗槽上设有视窗口。本实用新型提供的太阳能电池硅片清洗装置，特别适合于采用溶剂型清洗剂对硅片进行清洗，由于溶剂具有极强的渗透性，对硅片表面的残留物也有溶解和强力的清洗作用，再在超声波的作用下，能迅速达到清洗目的，与现有技术相比，缩短了清洗时间，简化清洗设备及清洗工艺。提高设备产能；节约了清洗能耗，也提高了对硅片清洗的清洁度。
文档编号H01L31/18GK202308012SQ201120424978
公开日2012年7月4日 申请日期2011年11月1日 优先权日2011年11月1日
发明者俞英芸, 庞井明, 张云国, 张立波, 石义洋 申请人:宁波市鑫友光伏有限公司