用于制备内含层的方法和材料以及由其制成的装置的制作方法

文档序号:7111021阅读:113来源:国知局
专利名称:用于制备内含层的方法和材料以及由其制成的装置的制作方法
技术领域
一般来讲,本公开涉及用于制备电子装置的方法。它还涉及由该方法制备的装置。_5] 相关领域说明采用有机活性材料的电子装置存在于许多不同种类的电子装置中。在此类装置·中,有机活性层夹置在两个电极之间。—种类型的电子装置为有机发光二极管(OLED)。OLED在显示器领域有着良好的应用前景,这是因为其功率转换效率高并且加工成本低。此类显示器尤其适用于电池供电的便携式电子装置,包括移动电话、个人数字助理、掌上个人电脑、以及DVD播放机。这些应用要求显示器具有高信息量、全彩、以及快速的视频速率响应时间,并且能量消耗低。全彩OLED的生产的当前研究定向于开发高性价比的、高通量的彩色像素制备方法。对于通过液体处理来制造单色显示器,旋涂法(参见例如David Braun和“AlanJ. Heeger, Appl. Phys. Letters”, 58,1982 (1991))得到了广泛应用。然而,全彩显不器的制造需要对用于制造单色显示器的工序进行某些修改。例如,为了制备具有全彩图像的显示器,要将每个显示像素分成三个次像素,每个次像素发射红、绿和蓝三原显示色之一。将全彩像素分成三个子像素导致需要对当前方法加以改进以防止液体着色材料(即油墨)铺展和颜色混合。在文献中记述了若干用于提供油墨内含的方法。这些方法基于内含结构、表面张力不连续性、以及两者的组合。内含结构是防止油墨铺展的几何障碍物像素阱、像素堤等。为了有效,这些结构必须大,与沉积材料的湿厚度相当。当将发光油墨印刷到这些结构中时,其润湿到所述结构的表面上,因此使靠近该结构的厚度均匀性降低。术语“发射”和“发光”在本文中互换使用。因此,必须将该结构移到发光“像素”区域以外,使得不均匀性在操作中不可见。由于显示器(尤其是高分辨率显示器)上的空间有限,因此这降低了可用的像素发光面积。当沉积连续的电荷注入层和传输层时,实际的内含结构一般对质量有负面影响。因此,所有这些层必须以印刷方式形成。此外,当存在低表面张力材料的印刷区域或气相沉积区域时,会产生表面张力不连续性。这些低表面张力材料一般必须在往像素区域中印刷或涂覆第一有机活性层之前来施加。一般来讲,由于当涂覆连续的非发光层时使用这些处理会对质量有所影响,因此所有的层必须以印刷方式形成。两种油墨内含技术的组合的实例为光致抗蚀剂岸结构(像素阱、像素槽)的CF4等离子体处理。一般来讲,所有的活性层必须在像素区域中印刷。所有这些内含方法均存在阻碍连续涂布的缺点。一层或多层的连续涂布是可取的,因为其可获得更高的产率和更低的设备成本。因此,需要改进用于形成电子装置的方法。
发明概述
本发明提供一种用于在第一层之上形成内含的第二层的方法,所述方法包括以下步骤
形成具有第一表面能的第一层;
用底涂材料处理第一层以形成底涂层;
使底涂层以图案形式暴露于辐射下,获得暴露区域和未暴露区域;
使所述底涂层显影以有效地从所述未暴露区域移除所述底涂层,获得具有底涂层图案的第一层,其中底涂层图案具有高于所述第一表面能的第二表面能;以及
通过在所述第一层上的底涂层的图案上液相沉积形成所述第二层;
其中所述底涂材料具有式I或式I’
权利要求
1.用于在第一层之上形成内含的第二层的方法,所述方法包括 形成具有第一表面能的第一层; 用底涂材料处理所述第一层以形成底涂层; 使底涂层以图案形式暴露于辐射下,获得暴露区域和未暴露区域; 使所述底涂层显影以有效地从所述未暴露区域移除所述底涂层,获得具有底涂层图案的第一层,其中所述底涂层的图案具有高于所述第一表面能的第二表面能;以及通过在所述第一层上的底涂层的图案上液相沉积形成所述第二层; 其中所述底涂材料具有式I或式I’
2.根据权利要求I所述的方法,其中通过用液体处理实施显影。
3.根据权利要求I所述的方法,其中Ar1和Ar2为不具有稠环的芳基。
4.根据权利要求I所述的方法,其中Ar1和Ar2具有式a (R6)f f^/{R&)qi&p - m 其中 R6在每次出现时相同或不同并且选自D、烷基、烷氧基、硅氧烷和甲硅烷基;f在每次出现时相同或不同并且为0-4的整数; g为0-5的整数;以及 m为I至5的整数。
5.根据权利要求I所述的方法,其中Ar1和Ar2选自苯基、联苯、三联苯基、它们的氣代衍生物以及它们的具有一个或多个选自烷基、烷氧基、甲硅烷基的取代基和具有交联基团的取代基的衍生物。
6.根据权利要求I所述的方法,其中R1至R5选自D和C1,烷基。
7.根据权利要求I所述的方法,其中a=e=0。
8.根据权利要求I所述的方法,其中a=e=4,并且R1和R5为D。
9.根据权利要求I所述的方法,其中b>0并且至少一个R2为烷基。
10.根据权利要求I所述的方法,其中c>0并且至少一个R3为烷基。
11.根据权利要求I所述的方法,其中d>0并且至少一个R4为烷基。
12.用于制备包含电极的有机电子装置的方法,所述电极具有定位在所述电极之上的第一有机活性层和第二有机活性层,所述方法包括 在所述电极之上形成具有第一表面能的第一有机活性层; 用底涂材料处理所述第一有机活性层以形成底涂层; 使底涂层以图案形式暴露于辐射下,获得暴露区域和未暴露区域; 使所述底涂层显影以有效地从或所述未暴露区域移除所述底涂层,获得具有底涂层图案的第一活性有机层,其中所述底涂层的图案具有高于所述第一表面能的第二表面能;以及 通过在所述第一有机活性层上的底涂层的图案上液相沉积形成所述第二有机活性层; 其中所述底涂材料具有式I或式I’
13.根据权利要求12所述的方法,其中所述第一活性层为空穴传输层,并且所述第二活性层为发射层。
14.根据权利要求12所述的方法,其中所述第一活性层为空穴注入层,并且所述第二活性层为空穴传输层。
15.根据权利要求14所述的方法,其中所述空穴注入层包含导电聚合物和氟化酸聚合物。
16.根据权利要求14所述的方法,其中所述空穴注入层基本上由掺入有氟化酸聚合物和无机纳米颗粒的导电聚合物组成。
17.根据权利要求14所述的方法,还包括通过在所述空穴传输层上液相沉积形成发射层。
18.有机电子装置,所述有机电子装置包括定位在电极之上的第一有机活性层和第二有机活性层,并且还包括在所述第一和第二有机活性层之间的图案化底涂层,其中所述第二有机活性层仅存在于所述底涂层存在的区域中,并且其中所述底涂层包含具有式I或式I’的材料
全文摘要
本发明提供了用于在第一层之上形成内含的第二层的方法,该方法包括以下步骤形成具有第一表面能的第一层;用底涂材料处理所述第一层以形成底涂层;使底涂层以图案形式暴露于辐射下,获得暴露区域和未暴露区域;使所述底涂层显影以有效地从所述未暴露区域移除所述底涂层,获得具有底涂层图案的第一层,其中底涂层的图案具有高于所述第一表面能的第二表面能;以及通过在所述第一层上的底涂层的图案上液相沉积形成所述第二层。所述底涂材料具有式I或式I’在式I或式I’中Ar1和Ar2相同或不同并且为芳基;R1至R5在每次出现时独立地相同或不同并且为D、F、烷基、芳基、烷氧基、甲硅烷基或可交联的基团;R6为H、D或卤素;a至e独立地为0至4的整数;f为1或2;g为0、1或2;h为1或2;并且n为大于0的整数。
文档编号H01L51/00GK102934029SQ201180027968
公开日2013年2月13日 申请日期2011年6月16日 优先权日2010年6月17日
发明者朴卿镐, N·S·拉杜, G·A·约翰森, W·J·德莱尼, A·费尼摩尔, D·D·莱克洛克斯 申请人:E·I·内穆尔杜邦公司
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