本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示基板及显示基板制备方法。
背景技术：
随着显示技术的发展，消费者对显示装置的显示要求越来越高。然而，有机发光二极管(organiclightemittingdiode,oled)凭借其自发光、高亮度、广视角、快速反应以及rgb全彩组件皆可制作等特质，被广泛应用于显示装置中。
但是，现有oled器件中发光层的有机材料的衰减程度不一致，衰减程度不一致的有机材料会导致oled器件出现显示残影、显示画面不均等问题，从而最终导致oled器件的寿命偏低现象。寿命偏低的oled器件已严重制约了oled产业的发展，因此有效提升显示器件寿命成为当务之急。
技术实现要素：
有鉴于此，本发明实施例致力于提供一种显示基板及显示基板制备方法，以解决现有显示装置寿命偏低的问题。
第一方面，本发明一实施例提供一种显示基板，该显示基板包括像素层和层叠设置于像素层上的电子传输层，像素层包括多个像素单元，各像素单元对应的电子传输层的区域的厚度不完全相同。
在本发明一实施例中，各像素单元的对应的电子传输层的区域的厚度根据像素单元的电流效率和寿命值得出。
在本发明一实施例中，像素单元包括红色像素单元、绿色像素单元、蓝色像素单元中的至少一种。
在本发明一实施例中，红色像素单元对应的电子传输层的区域的厚度范围为200埃至500埃。
在本发明一实施例中，绿色像素单元对应的电子传输层的区域的厚度范围为150埃至450埃。
在本发明一实施例中，蓝色像素单元对应的电子传输层的区域的厚度范围为150埃至450埃。
在本发明一实施例中，多个像素单元各自独立成岛，各像素单元对应的电子传输层的区域分别独立对应覆盖到各像素单元上。
第二方面，本发明另一实施例还提供一种显示基板制备方法，该方法包括：在显示基材上设置包括多个像素单元的像素层；在像素层上蒸镀电子传输层，其中，蒸镀的各像素单元对应的电子传输层的区域的厚度不完全相同。
在本发明一实施例中，电子传输层采用精密金属掩膜板蒸镀而成。
在本发明一实施例中，在像素层上蒸镀电子传输层，其中，蒸镀的各像素单元对应的电子传输层的区域的厚度不完全相同步骤包括：设定各像素单元对应的电子传输层的区域的厚度值；根据设定的厚度值分别蒸镀与各像素单元对应的电子传输层的区域。
在本发明一实施例中，设定各像素单元对应的电子传输层的区域的厚度值步骤包括通过实验验证像素单元对应的电子传输层的区域的厚度与像素单元的电流效率和寿命值的关系，根据该关系设定像素单元对应的电子传输层的区域的厚度。
本发明实施例提供的显示基板通过根据像素单元的具体特性将其所对应的电子传输层的厚度设定为最优电子传输层厚度的方式，也就是说，本发明实施例通过将显示基板各像素单元对应的电子传输层的厚度设定为不完全相同的方式，有效实现了提高显示基板的寿命的目的，此外，本发明通过设定各像素单元所对应的电子传输层优选厚度范围的方式，实现了进一步显著提高显示基板的寿命的目的。
附图说明
图1所示为本发明第一实施例提供的显示基板的结构示意图。
图2a至图2c所示为本发明第二实施例提供的显示基板的电子传输层厚度与像素层的电流效率之间的关系示意图。
图3a和图3b所示为本发明第二实施例提供的显示基板的像素层寿命改善示意图。
图4所示为本发明第三实施例提供的显示基板制备方法的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
图1所示为本发明第一实施例提供的显示基板的结构示意图。如图1所示，本发明第一实施例提供的显示基板包括依次自下而上层叠设置的基底1、阳极层2、空穴注入层3、空穴传输层4、像素层5、电子传输层6、电子注入层7和阴极层8，其中，像素层5包括各自独立成岛的绿色像素单元51、红色像素单元52和蓝色像素单元53，电子传输层6包括分别对应覆盖到各像素单元(即绿色像素单元51、红色像素单元52和蓝色像素单元53)、且厚度不完全相同的第一电子传输层61、第二电子传输层62和第三电子传输层63。
应当理解，将像素层5中所包含的多个像素单元设定为各自独立成岛的形式，不仅为实现显示基板的柔性可折叠特性提供了前提条件，而且简化了在各像素单元上层叠设置厚度不完全相同的电子传输层6步骤。
此外，应当理解，像素层5中所包含的像素单元之间的具体位置关系可根据实际情况自行设定，不局限于本发明实施例所提及的各自独立成岛的设置方式。
此外，应当理解，像素层5所包含的像素单元的具体类型及数量亦可根据实际情况自行设定，以充分提高本发明实施例提供的显示基板的适应能力和应用广泛性。比如，在本发明一实施例中，像素层5包括绿色像素单元51、红色像素单元52和蓝色像素单元53中的至少一种。
注意，在本发明第一实施例中，电子传输层6与各像素单元(即绿色像素单元51、红色像素单元52和蓝色像素单元53)分别对应的第一电子传输层61、第二电子传输层62和第三电子传输层63的具体厚度值为根据各像素单元的电流效率和寿命值与电子传输层之间的厚度关系通过多次实验验证获得的，即通过实验测定各像素单元的最优电子传输层厚度，然后分别将各像素单元对应的电子传输层区域设定为最优厚度，从而最终实现最大程度地提升显示基板的寿命的目的。
应当理解，最优电子传输层厚度即为能够使显示基板的寿命值达到最优值的厚度。
此外，应当理解，图1所示的显示基板仅仅是示意图，在实际的显示基板结构中，一般情况下，由于各像素单元对应的电子传输层的厚度虽然不同，但是厚度差远远小于整体显示基板的厚度，因此所存在的较小的厚度差不会影响显示基板的平整度、稳定性等性能。
优选地，在本发明一实施例中，将层叠设置于电子传输层6上的电子注入层7依据电子传输层6的厚度差进行适当调整，以便使显示面板具备更好地平整度。比如，依据电子传输层6的具体厚度差将电子注入层7与电子传输层6之间设定为凹凸契合结构。
优选地，在本发明另一实施例中，根据所要设定的电子传输层6的厚度差对像素层5的高度进行适当调整，以便使显示面板具备更好地平整度。比如，基于层叠设置的电子传输层6和像素层5总厚度不变的前提，依据电子传输层6的具体厚度数据对应设定像素层5的厚度。
本发明第一实施例提供的显示基板通过根据像素单元的具体特性将其所对应的电子传输层的厚度设定为最优电子传输层厚度的方式，有效实现了提高显示基板的寿命的目的。
应当理解，本发明实施例对像素层5中所包含的像素单元的类型、数量、膜厚和所在位置不作限定。
此外，应当理解，显示基板的具体层级结构包括但不限于为本发明第一实施例所提及的层级结构，其他具备厚度不完全相同的电子传输层的单层、双层或多层的显示器件结构均属于本发明实施例所限定的显示基板范围。
在本发明一实施例中，红色像素单元52对应的电子传输层的区域的厚度大于绿色像素单元51或蓝色像素单元53对应的电子传输层的区域的厚度，也就是说，第二电子传输层62的厚度大于第一电子传输层61或第三电子传输层63的厚度。应当理解，本发明实施例所限定的像素单元的厚度关系为根据多次实验验证得出的优选厚度关系，在该厚度关系内，显示基板的寿命得到了显著提高。
在本发明另一实施例中，绿色像素单元51对应的第一电子传输层61的厚度范围为150埃至450埃。同样，应当理解，本发明实施例中绿色像素单元51所对应的第一电子传输层61的厚度范围为根据多次实验验证得出的优选厚度范围，在该厚度范围内，显示基板的寿命得到了显著提高。
优选地，限定像素单元亮度衰减至测试起始亮度的97％的时间即为像素单元的寿命值。
举例说明，当绿色像素单元51对应的第一电子传输层61的厚度为100埃时，显示基板中的绿色像素单元51经过多次测试后的寿命平均值为120小时，即显示基板的寿命为120小时；当绿色像素单元51对应的第一电子传输层61的厚度为150埃时，显示基板中的绿色像素单元51经过多次测试后的寿命平均值为148小时，即显示基板的寿命为148小时；当绿色像素单元51对应的第一电子传输层61的厚度为300埃时，显示基板中的绿色像素单元51经过多次测试后的寿命平均值为150小时，即显示基板的寿命为150小时；当绿色像素单元51对应的第一电子传输层61的厚度为450埃时，显示基板中的绿色像素单元51经过多次测试后的寿命平均值为145小时，即显示基板的寿命为145小时；当绿色像素单元51对应的第一电子传输层61的厚度为500埃时，显示基板中的绿色像素单元51经过多次测试后的寿命平均值为125小时，即显示基板的寿命为125小时。
因此，通过上述举例数据可明确得出，当绿色像素单元51对应的第一电子传输层61的厚度范围为150埃至450埃时，显示基板的寿命得到了显著提高。
在本发明另一实施例中，红色像素单元52对应的第二电子传输层62的厚度范围为200埃至500埃。应当理解，本发明实施例中红色像素单元52所对应的第二电子传输层62的厚度范围为根据多次实验验证得出的优选厚度范围，在该厚度范围内，显示基板的寿命得到了显著提高。
举例说明，当红色像素单元52对应的第二电子传输层62的厚度为150埃时，显示基板中的红色像素单元52经过多次测试后的寿命平均值为65小时，即显示基板的寿命为65小时；当红色像素单元52对应的第二电子传输层62的厚度为200埃时，显示基板中的红色像素单元52经过多次测试后的寿命平均值为75小时，即显示基板的寿命为75小时；当红色像素单元52对应的第二电子传输层62的厚度为350埃时，显示基板中的红色像素单元52经过多次测试后的寿命平均值为80小时，即显示基板的寿命为80小时；当红色像素单元52对应的第二电子传输层62的厚度为500埃时，显示基板中的红色像素单元52经过多次测试后的寿命平均值为78小时，即显示基板的寿命为78小时；当红色像素单元52对应的第二电子传输层62的厚度为550埃时，显示基板中的红色像素单元52经过多次测试后的寿命平均值为60小时，即显示基板的寿命为60小时。
因此，通过上述举例数据可明确得出，当红色像素单元52对应的第二电子传输层62的厚度范围为200埃至500埃时，显示基板的寿命得到了显著提高。
在本发明另一实施例中，蓝色像素单元53对应的第三电子传输层63的厚度范围为150埃至450埃。同样，应当理解，本发明实施例中蓝色像素单元53所对应的第三电子传输层63的厚度范围为根据多次实验验证得出的优选厚度范围，在该厚度范围内，显示基板的寿命得到了显著提高。
举例说明，当蓝色像素单元53对应的第三电子传输层63的厚度为100埃时，显示基板中的蓝色像素单元53经过多次测试后的寿命平均值为90小时，即显示基板的寿命为90小时；当蓝色像素单元53对应的第三电子传输层63的厚度为150埃时，显示基板中的蓝色像素单元53经过多次测试后的寿命平均值为118小时，即显示基板的寿命为118小时；当蓝色像素单元53对应的第三电子传输层63的厚度为300埃时，显示基板中的蓝色像素单元53经过多次测试后的寿命平均值为125小时，即显示基板的寿命为125小时；当蓝色像素单元53对应的第三电子传输层63的厚度为450埃时，显示基板中的蓝色像素单元53经过多次测试后的寿命平均值为120小时，即显示基板的寿命为120小时；当蓝色像素单元53对应的第三电子传输层63的厚度为500埃时，显示基板中的蓝色像素单元53经过多次测试后的寿命平均值为85小时，即显示基板的寿命为85小时。
因此，通过上述举例数据可明确得出，当蓝色像素单元53对应的第三电子传输层63的厚度范围为150埃至450埃时，显示基板的寿命得到了显著提高。
图2a至图2c所示为本发明第二实施例提供的显示基板的电子传输层厚度与像素层的电流效率之间的关系示意图。具体地，图2a所示为本发明第二实施例提供的显示基板的红色像素单元的电流效率与所对应的电子传输层的厚度关系示意图；图2b所示为本发明第二实施例提供的显示基板的绿色像素单元的电流效率与所对应的电子传输层的厚度关系示意图；图2c所示为本发明第二实施例提供的显示基板的蓝色像素单元的电流效率与所对应的电子传输层的厚度关系示意图。其中，图2a至图2c中所示的像素单元对应的电子传输层的膜层厚度变化趋势相同。
通过分析图2a至图2c可知，随着电子传输层膜层厚度的不断变化，各像素单元的电流效率亦为不断变化的，并且各像素单元的电流效率变化规律不同，电流效率与寿命值有关，因此可得出各像素单元所对应的最优电子传输层厚度不相同的结论。
图3a和图3b所示为本发明第二实施例提供的显示基板的像素层寿命改善示意图。具体地，图3a所示为本发明第二实施例提供的显示基板的绿色像素单元的寿命改善示意图；图3b所示为本发明第二实施例提供的显示基板的蓝色像素单元的寿命改善示意图。
在图3a中，横坐标q1为原绿色像素单元，q2为电子传输层膜层减薄后的绿色像素单元；纵坐标为t97寿命，单位为小时，其中，t97代表97％相对亮度，即像素单元亮度衰减至测试起始亮度的97％。如图3a所示，原绿色像素单元q1经过多次测试后的寿命平均值为124小时，电子传输层膜层减薄后的绿色像素单元q2经过多次测试后的寿命平均值为146小时。因此，经过计算可得出(146-124)/124＝18％，即电子传输层膜层减薄后的绿色像素单元的寿命提高了18％。
同理，在图3b中，横坐标q3为原蓝色像素单元，q4为电子传输层膜层减薄后的蓝色像素单元；纵坐标为t97寿命，单位为小时，其中，t97代表97％相对亮度，即像素单元亮度衰减至测试起始亮度的97％。如图3b所示，原蓝色像素单元q3经过多次测试后的寿命平均值为93小时，电子传输层膜厚减薄的蓝色像素单元q4经过多次测试后的寿命平均值为118小时。因此，经过计算可得出(118-93)/118＝27％，即电子传输层膜层减薄后的蓝色像素单元的寿命提高了27％。
本发明第二实施例通过多次测试显示基板的电子传输层厚度与像素层的电流效率之间的关系以及电子传输层厚度与像素层寿命之间的关系的方式，有效验证了通过调节像素单元所对应的电子传输层的厚度能够实现改变显示基板的寿命的结论。
图4所示为本发明第三实施例提供的显示基板制备方法的流程示意图。如图4所示，本发明第三实施例提供的显示基板制备方法包括：
步骤s1：在显示基材上设置包括多个像素单元的像素层。
步骤s2：在像素层上蒸镀电子传输层，其中，蒸镀的各像素单元对应的电子传输层的区域的厚度不完全相同。
实际制备过程中，首先获取一显示基材，然后在获取的显示基材上层叠设置包括多个像素单元的像素层，最后在像素层上蒸镀电子传输层，其中，各像素单元对应的电子传输层的区域的厚度不完全相同。
本发明第三实施例提供的显示基板制备方法通过为像素单元蒸镀不同厚度的电子传输层的方式，有效实现了提高显示基板的寿命的目的。
在本发明一实施例中，步骤s3包括设定各像素单元对应的电子传输层的区域的厚度值；根据设定的厚度值分别蒸镀与各像素单元对应的电子传输层的区域。也就是说，本发明实施例将各像素单元上覆盖的电子传输层进行独立蒸镀，以便更好地实现电子传输层的厚度不完全相同的目的。比如，在实际的制备过程中，各像素单元所对应的电子传输层的蒸镀速率相同，通过对蒸镀时间的调整以实现电子传输层的厚度不同的目的。
其中，设定各像素单元对应的电子传输层的区域的厚度值的步骤包括：
通过实验验证像素单元对应的电子传输层的区域的厚度与像素单元的电流效率和寿命值的关系，根据该关系设定像素单元对应的电子传输层的区域的厚度。
也就是说，本发明实施例通过电子传输层膜层厚度验证实验，能够验证出使多个像素单元各自的电流效率和寿命值达到最优值的电子传输层厚度，从而最终解决现有显示基板寿命偏低的问题。
在本发明另一实施例中，电子传输层的蒸镀操作采用精密金属掩膜板进行。应当理解，采用精密金属掩膜板进行蒸镀操作能够实现对各像素单元上所覆盖的电子传输层的分别独立蒸镀，以便使各像素单元上覆盖最优膜层厚度的电子传输层，从而最终实现提高显示基板的寿命的目的。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本发明的保护范围之内。