与掩模绝缘体309的表面一致的形状，悬在多个像素电极305的表面的上方。之后，在共用电极308和辅助配线310之上设置密封膜315。密封膜315设置的目的是:防止来自外部的水分、大气的侵入，抑制EL层307、共用电极308等对水分抵抗力弱的材料的劣化。因此，作为密封膜315，优选使用具有致密的膜质的氮化硅类的绝缘层。进一步，作为层叠膜，也可以设置氧化硅类、氧化铝类的无机绝缘层、树脂类的有机绝缘层。
[0083]另外，在本实施方式中，在形成密封膜315后，进一步利用填充材料311贴合相对基板，但也能够省略相对基板、填充材料311。例如，在将滤色片设置在第一基板301侧或按RGB各色分开形成发光层的情况下，能够省略相对基板。在这样的情况下，能够实现显示装置200整体的薄型化和轻量化。
[0084]在本实施方式中，也与第一实施方式同样地使用设置在像素内的掩模绝缘膜而自匹配地形成辅助配线。因此，本实施方式的显示装置200也能够获得与对第一实施方式的显示装置100说明的效果同样的效果。
[0085](第三实施方式)
[0086]图10表示本发明的第三实施方式的显示装置300的像素的结构的。与第一实施方式的不同在于，第三实施方式的显示装置300中，在形成掩模绝缘体309后，在其表面实施等离子体处理，使掩模绝缘体309的表面具有拨水性。其它结构与第一实施方式的显示装置100相同。
[0087]在本实施方式的情况下，在如上述的图7所示那样形成掩模绝缘体309之后，对掩模绝缘体309的表面，使用含有氟或氟化合物的气体进行等离子体处理。
[0088]图10表示将掩模绝缘体309暴露于形成有含有氟的等离子体316气氛中的状态。此时，在由树脂材料构成的掩模绝缘体309的表面生成氟化物317，拨水性提高。其结果是，在图8中涂敷含有金属胶体的溶液时，在进行过等离子体处理的掩模绝缘膜309的表面，所涂敷的溶液不相溶。因此，能够以更高的对位精度在堤堰部306上形成辅助配线310。
[0089]在本实施方式中，也与第一实施方式同样地使用设置在像素内的掩模绝缘膜而自匹配地形成辅助配线。因此，本实施方式的显示装置300也能够获得与对第一实施方式的显示装置100说明的效果相同的效果。
[0090]作为本发明的实施方式，上述的各实施方式只要不相互矛盾，就能够适当地组合实施。此外，对于基于各实施方式的显示装置、本领域技术人员适当地进行构成要素的追加、削除或设计变更而得到的显示装置，或进行工序的追加、省略或条件变更而得到的显示装置，只要具备本发明的主旨，就包含于本发明的范围。
[0091]此外，关于从本说明书的记载而明确或对本领域技术人员而言容易预测到的作用效果，即使是与根据上述的各实施方式的方式实现的作用效果不同的其它作用效果，也应当解释为是根据本发明实现的。
【主权项】
1.一种具有包括多个像素的显示部的显示装置，其特征在于，包括: 与所述多个像素对应地设置的多个像素电极； 设置在所述多个像素电极之间的堤堰部； 至少设置在所述像素电极上的EL层； 设置在所述堤堰部和所述EL层之上的共用电极； 分别设置在由所述堤堰部划分的多个区域内的所述共用电极上的绝缘体；和 设置在相邻的所述绝缘体之间的所述共用电极上的辅助配线， 所述绝缘体设置成:在以所述像素电极的表面为基准时，所述绝缘体的顶部位于比所述堤堰部上的所述共用电极的顶部更靠上方的位置。2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于: 所述绝缘体的端部与所述堤堰部重叠。3.如权利要求1或2所述的显示装置，其特征在于: 所述辅助配线的端部与所述绝缘体重叠。4.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于: 在用与所述像素电极的主面垂直的面来截断所述绝缘体的情况下，所述绝缘体的轮廓为曲线状。5.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于: 还包括隔着填充材料与所述显示部相对设置的密封基板， 所述绝缘体和所述填充材料由相同材料构成。6.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于: 所述绝缘体和所述填充材料由具有透光性的树脂材料构成。7.一种具有包括多个像素的显示部的显示装置，其特征在于，包括: 与所述多个像素对应地设置的多个像素电极； 设置在所述多个像素电极之间的堤堰部； 至少设置在所述像素电极上的EL层； 设置在所述堤堰部和所述EL层之上的共用电极；和 设置在所述堤堰部与所述共用电极重叠的区域上的辅助配线， 所述辅助配线的端部悬在所述多个像素电极的表面的上方。8.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于: 还包括以覆盖所述共用电极和所述辅助配线的方式形成的密封膜。9.如权利要求8所述的显示装置，其特征在于: 所述密封膜包括选自氮化硅膜、氧化硅膜、氧化铝膜中的至少一种膜。10.如权利要求8所述的显示装置，其特征在于: 所述密封膜为层叠膜，还包括有机绝缘层。11.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于: 还包括隔着填充材料与所述显示部相对设置的相对基板， 所述填充材料由透光性材料构成。12.—种具有包括多个像素的显示部的显示装置的制造方法，其特征在于，包括: 与所述多个像素对应地形成多个像素电极的工序； 在所述多个像素电极之间形成堤堰部的工序； 至少在所述像素电极上形成EL层的工序； 在所述堤堰部和所述EL层之上形成共用电极的工序； 在由所述堤堰部划分的多个区域内的所述共用电极上分别形成绝缘体的工序；和 在相邻的所述绝缘体之间的所述共用电极上形成辅助配线的工序， 在所述形成绝缘体的工序中，按照在以所述像素电极的表面为基准时所述绝缘体的顶部位于比所述堤堰部上的所述共用电极的顶部更靠上方的位置的方式，形成多个所述绝缘体。13.一种具有包括多个像素的显示部的显示装置的制造方法，其特征在于，包括: 与所述多个像素对应地形成多个像素电极的工序； 在所述多个像素电极之间形成堤堰部的工序； 至少在所述像素电极上形成EL层的工序； 在所述堤堰部和所述EL层之上形成共用电极的工序； 在由所述堤堰部划分的多个区域内的所述共用电极上分别形成绝缘体的工序； 在相邻的所述绝缘体之间的所述共用电极上形成辅助配线的工序；和 除去所述绝缘体的工序， 按照在以所述像素电极的表面为基准时所述绝缘体的顶部位于比所述堤堰部上的所述共用电极的顶部更靠上方的位置的方式，形成多个所述绝缘体。14.如权利要求12或13所述的显示装置的制造方法，其特征在于: 所述绝缘体通过溶液排出法形成。15.如权利要求12或13所述的显示装置的制造方法，其特征在于: 所述辅助配线通过溶液排出法形成。16.如权利要求12或13所述的显示装置的制造方法，其特征在于: 在所述除去绝缘体的工序之后，还包括在所述共用电极和所述辅助配线之上形成密封膜的工序。17.如权利要求12或13所述的显示装置的制造方法，其特征在于: 还包括隔着填充材料与所述显示部相对地配置密封基板的工序， 所述绝缘体和所述填充材料由相同材料形成。18.如权利要求17所述的显示装置的制造方法，其特征在于: 由具有透光性的树脂材料形成所述绝缘体和所述填充材料。19.如权利要求12或13所述的显示装置的制造方法，其特征在于: 在所述形成绝缘体的工序之后，还包括使用包含氟或氟化合物的气体对所述绝缘体的表面实施等离子体处理的工序。
【专利摘要】本发明提供通过辅助配线能够同时实现共用电极的低电阻化和充分的开口率的确保的高精细的显示装置，其具有包括多个像素的显示部，包括：与所述多个像素对应地设置的多个像素电极；设置在所述多个像素电极之间的堤堰部；至少设置在所述像素电极上的EL层；设置在所述堤堰部和所述EL层之上的共用电极；分别设置在由所述堤堰部划分的多个区域内的所述共用电极上的绝缘体；和设置在相邻的所述绝缘体之间的所述共用电极上的辅助配线，所述绝缘体设置成：在以所述像素电极的表面为基准时，所述绝缘体的顶部位于比所述堤堰部上的所述共用电极的顶部更靠上方的位置。
【IPC分类】H01L27/32, H01L51/56
【公开号】CN105514138
【申请号】CN201510629495
【发明人】前田典久
【申请人】株式会社日本显示器
【公开日】2016年4月20日
【申请日】2015年9月28日
【公告号】US20160104760