校正网络用低温压合微波基板的制作方法

文档序号:12544277阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种校正网络用低温压合微波基板,其特征在于,包括:

玻纤布(3);

两层PTFE薄膜(4),两层PTFE薄膜(4)分别固定在所述玻纤布(3)的两侧面上;以及

两层反转铜箔(1),两层反转铜箔(1)分别通过FEP膜(2)固定在两层所述PTFE薄膜(4)与所述玻纤布(3)背对的侧面上。

2.根据权利要求1所述的校正网络用低温压合微波基板,其特征在于,所述FEP膜(2)的厚度为0.015~0.025mm。

3.根据权利要求1所述的校正网络用低温压合微波基板,其特征在于,所述反转铜箔(1)的粗造度为2~3um。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的校正网络用低温压合微波基板,其特征在于,所述反转铜箔(1)、所述FEP膜(2)、所述PTFE薄膜(4)及所述玻纤布(3)采用热压工艺组合在一起。

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