技术总结
本实用新型记载了一种热蒸发镀膜机，包括机架，机架内设置有真空室，真空室上罩设有钟罩，真空室的上方转动设置有转台，转台的台边均匀设置有多个基片架，所述机架上设置有翻转基片架的拨动装置，基片架上还设置有限制基片架翻转的限位装置。将待镀膜的基片卡设在基片架上，真空室内被加热的靶材蒸发后沉降在基片表面，待基片的第一面镀膜完成后，启动拨动装置，在拨动装置的作用下基片架开始翻转，待翻转到合适位置时，限位装置将对翻转基片架进行限位，提高了翻转系统的结构稳定性。与此同时，采用拨动装置使得基片架的翻转更为灵活可靠。
技术研发人员：崔海波;李剑辉;张坚
受保护的技术使用者：成都南光机器有限公司
文档号码：201720290585
技术研发日：2017.03.23
技术公布日：2017.11.14