一种纳米金属薄膜制备箱的制作方法

文档序号:12855130阅读:241来源:国知局
一种纳米金属薄膜制备箱的制作方法与工艺

本实用新型涉及纳米金属薄膜制备技术领域,具体为一种纳米金属薄膜制备箱。



背景技术:

随着科技的发展,人们对产品的要求越来越高,而产品的外壳直接影响产品的质量,因此纳米技术的到广泛的应用,纳米金属薄膜是比较常见的纳米材料,但传统的纳米金属薄膜的制备设备过于复杂和昂贵,大大限制了纳米金属薄膜的使用。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种纳米金属薄膜制备箱,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种纳米金属薄膜制备箱,包括纳米金属薄膜制备箱主体,所述纳米金属薄膜制备箱主体内设有电离室、制备室和冷却室,所述电离室、所述制备室和所述冷却室在所述纳米金属薄膜制备箱主体内从上到下依次设置,所述电离室内设有阳极壁,所述阳极壁内设有阴极板,所述电离室底部对应所述阴极板的位置上设有喷射口,所述喷射口贯穿所述阳极壁,所述纳米金属薄膜制备箱主体外侧顶部对应所述阳极壁和所述阴极板之间的位置上设有进气口,所述纳米金属薄膜制备箱主体外侧对应所述冷却室的位置上设有进液口和出液口,所述冷却室内部设有冷却管道,所述冷却管道的两端分别与所述进液口和所述出液口连接。

优选的,所述制备室内设有基片,所述基片设置在所述制备室底部对应所述喷射口的位置上。

优选的,所述纳米金属薄膜制备箱主体外侧对应所述制备室的位置上设有箱门,所述箱门的一侧与所述纳米金属薄膜制备箱主体铰接。

优选的,所述箱门上设有锁定装置和把手,所述锁定装置设置在所述把手的上方。

优选的,所述箱门上设有观察窗,所述观察窗设置为矩形结构。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:

1、本实用新型结构设计合理,通过采用喷射法来制备纳米金属薄膜,使沉积速度更快,能够适用于复杂的表面,同时可以使用各种基片材料,且基片不需进行损伤表面的预处理;

2、观察窗的增添设计,能够观察到纳米金属薄膜在制备过程中的各个阶段,便于对纳米金属薄膜制备的研究和改进。

附图说明

图1为本实用新型一种纳米金属薄膜制备箱的内部结构示意图;

图2为本实用新型一种纳米金属薄膜制备箱的外部结构示意图;

图3为本实用新型冷却室的内部结构示意图。

图中:1-纳米金属薄膜制备箱主体,2-电离室,3-制备室,4-冷却室,5-阳极壁,6-阴极板,7-喷射口,8-进气口,9-进液口,10-出液口,11-冷却管道,12-基片,13-箱门,14-锁定装置,15-把手,16-观察窗。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3,本实用新型提供一种技术方案:一种纳米金属薄膜制备箱,包括纳米金属薄膜制备箱主体1,所述纳米金属薄膜制备箱主体1内设有电离室2、制备室3和冷却室4,所述电离室2、所述制备室3和所述冷却室4在所述纳米金属薄膜制备箱主体1内从上到下依次设置,所述电离室2内设有阳极壁5,所述阳极壁5内设有阴极板6,所述电离室2底部对应所述阴极板6的位置上设有喷射口7,所述喷射口7贯穿所述阳极壁5,所述纳米金属薄膜制备箱主体1外侧顶部对应所述阳极壁5和所述阴极板6之间的位置上设有进气口8,所述纳米金属薄膜制备箱主体1外侧对应所述冷却室4的位置上设有进液口9和出液口10,所述冷却室4内部设有冷却管道11,所述冷却管道11的两端分别与所述进液口9和所述出液口10连接。

所述制备室3内设有基片12,所述基片12设置在所述制备室3底部对应所述喷射口7的位置上,所述纳米金属薄膜制备箱主体1外侧对应所述制备室3的位置上设有箱门13,所述箱门13的一侧与所述纳米金属薄膜制备箱主体1铰接,所述箱门13上设有锁定装置14和把手15,所述锁定装置14设置在所述把手15的上方,所述箱门13上设有观察窗16,所述观察窗16设置为矩形结构。

工作原理:首先打开箱门13将基片12放置到制备室3底部对应喷射口7的位置上,再向进气口8内通入惰性气体,且向进液口9内注入冷却液,最后给本装置接电,惰性气体在电离室2内的几百伏电压下发生辉光放电,放电中的离子撞击阴极的蒸发材料,蒸发材料的原子由表面蒸发出来,蒸发原子被惰性气体冷却而凝结从喷射口7喷出,附着在设备室3底部的基片12表面上,使基片表面形成良好的纳米金属薄膜。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

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