一种旋转离心雾化制备铍及铍合金微球的装置的制造方法

文档序号:8569123阅读:561来源:国知局
一种旋转离心雾化制备铍及铍合金微球的装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于粉末冶金领域、3D打印增材制造技术领域以及核能技术领域,具体涉及一种制备用于铍的3D打印增材制造成形以及核能技术的具有高球形度的铍小球的旋转离心雾化工艺。
【背景技术】
[0002]铍是原子能、火箭、导弹、航空、宇宙航行以及冶金工业中不可缺少的宝贵材料。X射线对铍有很强的透过能力,因此铍是制造X射线管小窗口不可取代的材料。铍在被中子、粒子、氘核及γ射线撞击或照射时会产生中子,因此铍又是一种中子源材料。铍由于原子序数低,通过与中子的散射作用可以很好地慢化和反射中子,所以铍在一些核核反应堆中也是一种优良的慢化剂和反射层材料。另外铍比常用的铝和钛都轻,比强度是钢的四倍,吸热能力强,热导率高,机械性能稳定,同时也可以用于制造火箭和卫星的结构材料。
[0003]不过铍部件的加工制造非常困难,不能采用传统的锻造机加的方式,目前主要采用热等静压工艺来加工铍部件,但热等静压工艺对设备要求高,灵活性差,加工成本高。随着3D打印增材制造技术的兴起,激光立体成形技术有望应用于铍部件的加工,但该技术需要球形度高、流动性好、球径在200微米以下的铍小球作为原料。同时,随着国际磁约束聚变技术的发展,中国将在国际热核聚变实验堆上参试自主设计研制的固态增殖剂氚增殖实验包层模块。而这一模块也需要球形度高、流动性好、球径在Imm左右均匀可控的铍小球。
[0004]目前制备铍小球的工艺主要有两种,一种是气雾化的方法,即利用高压惰性气流将铍的金属液流吹散,在表面张力的作用下形成雾状的近球形铍液滴,在气体中冷却形成铍小球,这种方法的特点是成本低,但球形度差,球径不均匀。
[0005]另一种方法是等离子辅助旋转电机离心雾化法,即将铍先加工成铍电极棒,与钨电极之间通过高压发电形成等离子体,将铍电极的顶端熔融,同时高速旋转铍电极,将熔融的液态铍甩出,形成雾状的球形液滴,在惰性气氛中冷却得到球形度高、球径均匀的铍小球。该方法制备铍小球虽然球形度高、球径均匀,但是需要先采用热等静压工艺制备铍电极棒,即先将镁热还原得到的大球径铍珠用高压气流冲击打碎形成不规则的铍粉,然后将铍粉采用真空电子束焊接封装在包壳里,然后利用热等静压机利用高温高压制备出铍棒,整个工艺涉及多个技术要求和设备成本非常高的环节,因此铍小球制备成本比较高昂,并不利用铍的规模化市场应用。
[0006]针对这一问题,我们结合了等离子辅助旋转电极离心雾化工艺和熔融气雾化工艺的特点开发出了一种旋转离心雾化的新工艺来制备球形度高、球径均匀可控、可以满足3D打印增材制造及聚变核能应用需求且成本相对低廉的铍小球。

【发明内容】

[0007]本实用新型属于粉末冶金领域、3D打印增材制造技术领域以及核能技术领域,具体涉及一种制备用于铍的3D打印增材制造成形以及核能领域特殊用途的具有高球形度、球径均匀可控、且成本相对低廉的铍小球的旋转离心雾化工艺所用装置。
[0008]为达到以上目的,本实用新型提出了一种旋转离心雾化制备铍及铍合金小球的装置,该装置由镁热还原炉或铍及铍合金熔融炉、惰性气体保护的密闭容器腔室、以及将从熔融炉流出的液态金属通过旋转离心力甩成大小均匀的铍液滴离心轴托构成,所述熔融炉位于所述密闭容器腔室的上部,所述离心轴托穿过所述熔融炉,所述离心轴托上端与电机驱动系统连接,所述离心轴托下端制有梯形斜面并位于所述密闭容器腔室内,所述熔融炉下端设有可通过阀门控制的引流嘴并且引流嘴位于所述密闭容器腔室内;所述密闭容器腔室内上制有惰性保护气的进气口和惰性保护气的出气口。
[0009]所述熔融炉的炉腔为环筒状。
[0010]所述离心轴托通过一根贯穿所述熔融炉内筒环的旋转离心轴与电机轴承连接;离心轴和熔融炉之间有隔热保护层;离心轴托由耐高温的钽合金制成;离心轴托为圆锥台体构型,圆锥台的梯形斜面与台面法线的夹角小于等于45度。
[0011]本实用新型的有益效果为:(I)相比熔融气雾化工艺,制备的铍小球球形度高,球径均匀可控;(2)相比等离子辅助旋转电极雾化工艺,由于无需采用热等静压工艺制备铍电极,降低了铍小球的生产成本。
【附图说明】
[0012]图1为旋转离心雾化工艺装置图。图号说明铍液滴离心轴托;2镁热还原炉或铍及铍合金熔融炉;3引流嘴;4密封容器腔室;5惰性保护气的进气口 ;6惰性保护气的出气口 -J电机驱动系统。
【具体实施方式】
[0013]本实用新型工艺包括如下步骤:
[0014](一 )该方法首先形成熔融的液态铍金属,其次将液态铍金属引流到高速旋转的轴托的梯形斜面上,利用高速旋转产生的离心力将液态铍金属甩成大小均匀的铍液滴,然后铍液滴在表面张力的作用下形成球形,进一步在保护性气体的冷却下凝固成具有高球形度、球径尺寸均匀的铍小球。
[0015]( 二)该方法需要通过一套旋转离心雾化装置来得以实现,该装置由铍液滴离心轴托、惰性气体保护的密闭容器腔室、铍金属熔融炉、电机驱动系统、铍防护系统等组成。
[0016]其中熔炼炉的炉腔为环筒状,下端设有可通过阀门控制的引流嘴;
[0017]铍液滴离心轴托通过一根贯穿真空熔炼炉内筒环的旋转离心轴与电机轴承连接;
[0018]旋转离心轴和熔融炉之间有隔热保护层;
[0019]铍液滴离心轴托由耐高温的钽合金制成;
[0020]铍液滴离心轴托为圆锥台体构型,圆锥台的梯形斜面与台面法线的夹角小于等于45度;
[0021](三)该方法可通过镁热还原法直接得到铍的液态金属,将原有的镁热还原法相适应的熔融炉改造为环筒状,制备过程中原料为氟化铍(BeF2)和镁金属,利用BeF2+Mg — Be+MgF2反应直接到到熔融的液态金属铍;
[0022](四)该方法也可通过加热现有的铍珠或其他铍原材料至熔点,得到液态铍金属流。
[0023](五)该方法中熔融的液态金属铍通过熔融炉下端的引流嘴进入惰性气体保护的密封容器腔室,落在铍液滴离心轴托的梯形斜面上;高速旋转的轴托将其梯形斜面上的液态金属铍甩出,液态金属铍在表面张力的作用下形成球形铍液滴,铍液滴在惰性气体保护的密封容器腔室内下落过程中快速冷却凝固,形成铍小球,在真空腔室的底部收集。
[0024](六)惰性保护气体选用具有较高热导率的高纯氦气,为提高冷却效果,可以增加氦气压但不超过lOMpa。
[0025](七)铍小球的球径主要由轴托的转速控制,转速在2000转/分钟一10000转/分钟之间。
[0026]该方法也可用于制备铍合金,包括Be12M和Be17M5 (M为Ti,W,V,Ta,Zr等金属,M元素在铍合金中的原子百分比在5% -30% );根据铍合金的铍与M元素的质量比备料,在熔融炉加热得到液态铍合金。
[0027]附图给出了该装置【具体实施方式】,它由镁热还原炉或铍及铍合金熔融炉2、惰性气体保护的密闭容器腔室4、以及将从镁热还原炉或铍及铍合金熔融炉2流出的液态金属通过旋转离心力甩成大小均匀的铍液滴离心轴托I构成,所述熔融炉2位于所述密闭容器腔室4的上部,所述离心轴托I穿过所述熔融炉2,所述离心轴托I上端与电机驱动系统7连接,所述离心轴托I下端制有梯形斜面并位于所述密闭容器腔室4内,所述熔融炉2下端设有可通过阀门控制的引流嘴3并且引流嘴3位于所述密闭容器腔室4内;所述密闭容器腔室4内上制有惰性保护气的进气口 5和惰性保护气的出气口 6。所述熔融炉2的炉腔为环筒状。所述离心轴托I通过一根贯穿所述熔融炉2内筒环的旋转离心轴与电机轴承连接;铍液滴离心轴托I和熔融炉2之间有隔热保护层;铍液滴离心轴托I由耐高温的钽合金制成;铍液滴离心轴托I为圆锥台体构型,圆锥台的梯形斜面与台面法线的夹角小于等于45度。
【主权项】
1.一种旋转离心雾化制备铍及铍合金微球的装置,其特征是该装置由镁热还原炉或铍及铍合金熔融炉(2)、惰性气体保护的密闭容器腔室(4)、以及将从熔融炉(2)流出的液态金属通过旋转离心力甩成大小均匀的铍液滴离心轴托(I)构成,所述熔融炉(2)位于所述密闭容器腔室(4)的上部,所述离心轴托(I)穿过所述熔融炉(2),所述离心轴托(I)上端与电机驱动系统(7)连接,所述离心轴托(I)下端制有梯形斜面并位于所述密闭容器腔室(4)内,所述熔融炉(2)下端设有可通过阀门控制的引流嘴(3)并且引流嘴(3)位于所述密闭容器腔室(4)内;所述密闭容器腔室(4)内上制有惰性保护气的进气口(5)和惰性保护气的出气口 (6) ο
2.根据权利要求1所述的装置,其特征是所述熔融炉(2)的炉腔为环筒状。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征是所述离心轴托(I)通过一根贯穿所述熔融炉(2)内筒环的旋转离心轴与电机轴承连接;离心轴⑴和熔融炉(2)之间有隔热保护层;离心轴托⑴由耐高温的钽合金制成;离心轴托⑴为圆锥台体构型,圆锥台的梯形斜面与台面法线的夹角小于等于45度。
【专利摘要】本实用新型提出了一种旋转离心雾化制备铍及铍合金小球的装置,该装置由镁热还原炉或铍及铍合金熔融炉、惰性气体保护的密闭容器腔室、以及将从熔融炉流出的液态金属通过旋转离心力甩成大小均匀的铍液滴离心轴托构成,所述熔融炉位于所述密闭容器腔室的上部,所述离心轴托穿过所述熔融炉,所述离心轴托上端与电机驱动系统连接,所述离心轴托下端制有梯形斜面并位于所述密闭容器腔室内,所述熔融炉下端设有可通过阀门控制的引流嘴并且引流嘴位于所述密闭容器腔室内。本实用新型相比熔融气雾化工艺,制备的铍小球球形度高,球径均匀可控;相比等离子辅助旋转电极雾化工艺,由于无需采用热等静压工艺制备铍电极,降低了铍小球的生产成本。
【IPC分类】B22F9-10
【公开号】CN204276912
【申请号】CN201420717277
【发明人】张建利, 罗天勇
【申请人】张建利, 罗天勇
【公开日】2015年4月22日
【申请日】2014年11月25日
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