1.一种超薄碳化钼材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)将催化剂置于钼源上，放置于反应炉管内，然后通入保护气氛；
(2)升温至900-1100℃，恒温0-30min，通入碳源后反应10-60min；
(3)降温至25℃，制得超薄碳化钼材料。
2.如权利要求1所述的一种超薄碳化钼材料的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述催化剂为铜箔，所述铜箔厚度为5-100μm。
3.如权利要求1所述的一种超薄碳化钼材料的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述钼源为钼箔、钼粉或氧化钼粉体中的一种。
4.如权利要求1所述的一种超薄碳化钼材料的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述保护气氛的通入速度为100-300sccm。
5.如权利要求1所述的一种超薄碳化钼材料的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述保护气氛由氢气与氩气按体积比2-4:1组成。
6.如权利要求1所述的一种超薄碳化钼材料的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述升温速率为1-300℃/min。
7.如权利要求1所述的一种超薄碳化钼材料的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述碳源的通入速度为0.5-5sccm。
8.如权利要求1所述的一种超薄碳化钼材料的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述碳源为甲烷、乙烯或乙炔中的一种。
9.如权利要求1所述的一种超薄碳化钼材料的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述降温速率为5-20℃/min。
10.由权利要求1-9任一项所述的一种超薄碳化钼材料的制备方法制备的超薄碳化钼材料。