一种半透明釉质料及其制备方法与应用_3

文档序号:8216507阅读:来源:国知局
化钠12wt%,碳酸钾8wt %,碳酸钠8wt %,石灰石12wt %,钠长石35wt %,钾长石1wt %,娃灰石12wt%,透辉石3wt %,干法球磨混合,混合料细度至30目筛余为O ;
[0059]步骤02b,然后将上述原料组合在700°C下进行煅烧20小时,煅烧的过程中无明显液相出现,得到预制料;
[0060]步骤03b,将上述预制料56?1:%与钾长石12wt%,钠长石7wt%,粘土 13wt%,膨润土 5wt %,石英7wt %进行混合配料,再按照普通瓷质砖面料的制备工艺进行球磨、喷雾、干燥制粉,作为半透明釉质料;
[0061]步骤04b,将上述半透明釉质料与普通瓷质砖面料通过布料机进行随机混合布料,作为制备陶瓷砖的面料组合,并将该面料组合与普通瓷质砖坯体粉料的底料进行结合,其中面料层厚度为18_,底料层厚度为22_,经压机压制一体成型制成有釉还体;
[0062]步骤05b,对上述有釉坯体进行干燥,干燥温度140°C,干燥周期20分钟;
[0063]步骤06b,对干燥后的坯体在1250 °C下进行烧成,烧成周期55分钟,制成半成品;
[0064]步骤07b,对半成品进行打磨抛光处理得到最终具有半透明纹理的陶瓷砖成品。
[0065]其中步骤04b中普通瓷质砖坯体粉料的原料可以设置为实施例1步骤04中所述的原料。
[0066]该实施例产品的抗弯强度为37MPa,光泽度88光泽单位,坯体吸水率为0.08%,表面平整度0.32mm,耐磨等级4级,半透明相部分无明显气泡存在,且其与非透明相部分界限清晰,砖坯整体呈现良好的立体装饰效果,与实施例1相似,可以更加广泛满足墙面、地面装修的需要。
[0067]实施例4
[0068]步骤Old,首先对普通釉熔块原料进行混合,其中原料组分包括石英8wt %,氢氧化钠7wt %,氢氧化钙6wt %,碳酸钾7wt %,碳酸钠7wt %,石灰石4wt %,钠长石22wt %,钾长石16wt %,硅灰石15wt %,滑石5wt %,硼酸3wt %,干法球磨混合,混合料细度至30目筛余为O ;
[0069]步骤02d,然后将上述原料组合在800°C下煅烧30小时,煅烧的过程中无明显液相出现,得到预制料;
[0070]步骤03d,将上述预制料8(^1:%与钾长石5wt%,粘土 7wt%,膨润土 8?1:%进行混合配料,再按照普通瓷质砖面料的制备工艺进行球磨、喷雾、干燥制粉,作为半透明釉质料;
[0071]步骤04d,将上述半透明釉质料与普通瓷质砖面料通过布料机进行随机混合布料,作为制备陶瓷砖的面料组合,并将该面料组合与普通瓷质砖坯体粉料的底料进行结合,其中面料层厚度为12_,底料层厚度为25_,经压机压制一体成型制成有釉还体;
[0072]步骤05d,对上述有釉坯体进行干燥,干燥温度150°C,干燥周期25分钟;
[0073]步骤06d,对干燥后的坯体进行烧成,烧成温度1150°C,烧成周期65分钟,制成半成品;
[0074]步骤07d,对半成品进行打磨抛光处理得到最终具有半透明纹理的陶瓷砖成品。
[0075]其中步骤04d中普通瓷质砖坯体粉料的原料可以设置为实施例1步骤04中所述的原料。
[0076]该实施例产品的抗弯强度36MPa,光泽度84光泽单位,坯体吸水率为0.1 %,表面平整度0.33mm,耐磨等级4级,半透明相部分无明显气泡存在,且其与非透明相部分界限清晰,砖坯整体呈现良好的立体装饰效果,与实施例1相似,可以更加广泛满足墙面、地面装修的需要。
[0077]现有技术微晶石砖制备的前期需要很高温度制备熔块,耗能大;本发明预制料的制备是对普通釉熔块原料进行混合制得原料组合,对原料组合在700°C-950°C下进行煅烧,煅烧时间为4 -30小时,该煅烧温度较低,能耗小。现有技术熔块干粒在后期与其他瓷质材料混合布料,在烧成过程中容易产生气泡和针孔,烧成后容易出现裂缝,本发明半透明相部分无明显气泡存在。现有技术产品透明相纹理和不透明的普通瓷质坯体界限模糊、透明相不连续等问题,抛光后防污能力差、失光,装饰层次感不强,装饰效果差,本发明陶瓷砖经过抛光处理后,陶瓷砖表面变得平整光滑,半透明纹理和不透明相界面清晰,立体感强,具有很好的装饰效果。
【主权项】
1.一种半透明釉质料的制备方法,其特征在于包括如下步骤: 1)预制料的制备:对普通釉熔块原料进行混合制得原料组合,将所述原料组合在7000C - 950°C下进行煅烧,煅烧时间为4 - 30小时,得到预制料; 2)半透明釉质料制备:以质量百分比计,将30- 80%所述预制料、5 - 36%的长石类材料、15 - 30%的粘土类材料和O - 7%的石英类材料按照普通瓷质砖面料的制备工艺进行球磨混合、喷雾干燥,得到半透明釉质料。
2.根据权利要求1所述的半透明釉质料的制备方法,其特征在于,以质量百分比计,所述的普通釉熔块原料组分包括石英类材料O - 10wt%、碱金属和/或碱土金属氢氧化物10 - 15wt%、碳酸盐类材料18 - 28wt%、长石类材料38 - 45wt %、碱土娃酸盐类材料10 - 20wt%J|]酸或硼砂 O - 5wt%。
3.根据权利要求2所述的半透明釉质料的制备方法,其特征在于,所述长石类材料是钠长石、钾长石中的一种或者多种的组合;所述碱金属和/或碱土金属氢氧化物是氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化钙中的一种或多种的组合。
4.根据权利要求2所述的半透明釉质料的制备方法,其特征在于,所述碱土硅酸盐类材料是硅灰石、滑石、透辉石中的一种或者多种的组合。
5.根据权利要求2所述的半透明釉质料的制备方法,其特征在于,所述碳酸盐类材料设置为石灰石、方解石、碳酸钠、碳酸钾中的一种或多种的组合。
6.根据权利要求1所述的半透明釉质料的制备方法,其特征在于,所述原料组合在7000C - 950°C下进行煅烧的过程中无明显液相出现,所述原料组合在所述煅烧的整个过程中不熔融。
7.根据权利要求1所述的半透明釉质料的制备方法,其特征在于,所述对普通釉熔块原料进行混合为干法球磨混合,混合料细度至30目筛余为O。
8.一种半透明釉质料,其特征在于,其由权利要求1 - 7任一项所述制备方法制得。
9.权利要求8所述半透明釉质料在制备陶瓷砖的应用,其特征在于,将所述半透明釉质料与普通瓷质砖面料通过布料机进行随机布料,得到作为制备陶瓷砖的面料组合,将所述面料组合与普通瓷质砖坯体粉料的底料进行结合,其中所述面料组合构成的面料层厚度为10 - 18mm,所述底料构成的底料层厚度为10 - 25mm,面料层位于底料层上部,经压机压制一体成型制成有釉坯体,对所述有釉坯体进行干燥,干燥后按照陶瓷砖生产工序制成成品;所述有釉坯体面料组合中所述半透明釉质料与所述普通瓷质砖面料随机交叉叠加。
10.根据权利要求9所述半透明釉质料在制备陶瓷砖的应用,其特征在于,所述陶瓷砖生产工序为:对干燥后的坯体进行烧成,烧成温度为1100°C - 1300°C,烧成周期35 - 65分钟,制成半成品,然后对半成品进行打磨抛光处理。
【专利摘要】本发明公开了一种半透明釉质料及其制备方法与应用。该制备方法先对普通釉熔块原料进行混合然后在700‐950℃下进行煅烧4‐30小时,得到预制料;以质量百分比计,将30‐80%所述预制料、5‐36%的长石类材料、15‐30%的粘土类材料和0‐7%的石英类材料进行球磨混合、喷雾干燥、制粉得到半透明釉质料。将该半透明釉质料与其他面料原料进行随机布料,再将其与底料结合,按照陶瓷砖后续生产工序制备得到含有半透明釉质纹理的陶瓷砖,其中半透明相釉质部分无明显气泡,且其与不透明陶瓷相部分界限清晰,立体装饰效果好,抗弯强度、耐磨性比微晶石陶瓷砖好,可应用于各种室内墙地面装饰。
【IPC分类】C04B41-86
【公开号】CN104529546
【申请号】CN201510011556
【发明人】王正旺, 饶平根, 黎友海, 储璐, 赵威
【申请人】广东天弼陶瓷有限公司
【公开日】2015年4月22日
【申请日】2015年1月9日
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