量高于在浮抛窑内未将含氯气体和含氟气体 喷雾到玻璃带表面上的浮法平板玻璃的氯或氟含量。
[0041] 另外，在本发明的浮法平板玻璃中，优选地，将距离所述顶面大于0. 05 iim且小于 等于10 ym深度处的氯含量变化的斜率设为[dCl]、将氟含量变化的斜率设为[dHF]时，具 有[dCl]或[dHF]为负的区域。
[0042] 另外，在本发明的浮法平板玻璃中，优选地，距离所述顶面大于0. 05 ym且小于等 于10 y m深度处的氯或氟含量高于距离所述顶面比10 y m深的部分的氯或氟含量。
[0043] 发明效果
[0044] 根据本发明的方法，在制造浮法平板玻璃时，通过在浮抛窑内进行在线处理，可以 从玻璃表面除去锡缺陷，从而得到平滑的表面。因此，在制造适合于Fro用玻璃基板的除去 锡缺陷后的表面平滑的浮法平板玻璃时，品质、成品率、生产率提高。
【附图说明】
[0045] 图1 (a)、（b)为对实施例1利用激光显微镜观察混合气体喷雾前后的玻璃样品表 面所得到的结果，图1(a)为气体喷雾前的观察结果，图1(b)为气体喷雾后的观察结果。
[0046] 图2为表示实施例1和2、比较例1的距离玻璃样品表面深度方向上的氯含量（重 量％ )分布的图。
[0047] 图3为将图1的图中从玻璃样品表面至深度3 ym放大后的图。
[0048] 图4为表示实施例1和2、比较例1的距离玻璃样品表面深度方向上的氟含量（重 量％ )分布的图。
[0049] 图5 (a)、（b)为对比较例1利用激光显微镜观察氮气喷雾前后的玻璃样品表面所 得到的结果，图5(a)为气体喷雾前的观察结果，图5(b)为气体喷雾后的观察结果。
[0050] 图6 (a)、（b)为对比较例2利用激光显微镜观察将HC1用氮气稀释后的气体喷雾 前后的玻璃样品表面所得到的结果，图6 (a)为气体喷雾前的观察结果，图6 (b)为气体喷雾 后的观察结果。
[0051] 图7 (a)、（b)为对比较例3利用激光显微镜观察将HC1用氮气稀释后的气体喷雾 前后的玻璃样品表面所得到的结果，图7 (a)为气体喷雾前的观察结果，图7 (b)为气体喷雾 后的观察结果。
[0052] 图8 (a)、（b)为对比较例4利用激光显微镜观察将HF用氮气稀释后的气体喷雾前 后的玻璃样品表面所得到的结果，图8 (a)为气体喷雾前的观察结果，图8 (b)为气体喷雾后 的观察结果。
[0053]图9 (a)、（b)为对比较例5利用激光显微镜观察将HF用氮气稀释后的气体喷雾前 后的玻璃样品表面所得到的结果，图9 (a)为气体喷雾前的观察结果，图9 (b)为气体喷雾后 的观察结果。
[0054]图10 (a)、（b)为对实施例2利用激光显微镜观察混合气体喷雾前后的玻璃样品表 面所得到的结果，图10(a)为气体喷雾前的观察结果，图10(b)为气体喷雾后的观察结果。
[0055] 图11 (a)、（b)为对实施例3利用激光显微镜观察混合气体喷雾前后的玻璃样品表 面所得到的结果，图11(a)为气体喷雾前的观察结果，图11(b)为气体喷雾后的观察结果。
【具体实施方式】
[0056] 以下，对于本发明的方法进行说明。
[0057] 在本发明的方法中，将含氯气体和含氟气体以满足以下所述条件的方式喷雾到在 浮抛窑中移动的玻璃带表面上。
[0058] 在本发明的方法中，如果以含氯气体为氯化氢（HC1)的情况为例，则通过以下反 应机理将以上部斑点的形式在玻璃带表面上存在的锡缺陷除去。
[0059] Sn+2HC1 - SnCl2+H2
[0060] 需要说明的是，含氯气体为氯化氢（HC1)以外的情况也利用与上述相同的反应机 理将锡缺陷除去。
[0061] 在本发明的方法中，上述反应机理之所以进行，是因为浮抛窑内保持高温。其原因 在于：温度越高，SnCl 2的蒸气压越高，因此，通过反应而生成的SnCl 2从玻璃带表面挥发。
[0062] 需要说明的是，浮抛窑内的温度根据其部位而不同，但是保持在500~1200°C。另 外，为了防止熔融锡的氧化，浮抛窑内形成充满氢气（通常4~10体积％ )与氮气（通常 90~96体积％ )的混合气体的还原气氛。
[0063] 在本发明的方法中，作为含氯气体，可以使用：氯化氢（HC1)、氯气（Cl2)、四氯化硅 (SiCl 4)、二氯化硫（C12S)、二氯化二硫（S2C12)、三氯化磷（PC1 3)、五氯化磷（PC15)、三氯化 碘（I2C16)、三氯化氮（NC1 3)、氯化碘（IC1)、氯化溴（BrCl)、三氟化氯（C1F3)等。
[0064] 在这些之中，从成本方面、操作方法等众所周知的理由考虑，氯化氢（HC1)是优选 的。
[0065] 通过上述反应机理除去锡缺陷时，在玻璃带表面中在存在锡缺陷的部位残留凹 部。
[0066] 在本发明的方法中，通过喷雾含氟气体，蚀刻玻璃带整个表面，从而使玻璃带表面 平坦化。
[0067] 在本发明的方法中，浮抛窑内保持在高温，因此利用含氟气体喷雾的玻璃带表面 的蚀刻会迅速进行。
[0068] 在本发明的方法中，作为含氟气体，可以使用：氟化氢（HF)、氟利昂（例如，氯氟烃 (CFC)、氟碳化合物（FC)、氢氯氟烃（HCFC)、氢氟烃（HFC))、卤代烷（halon)、氢氟酸（HF)、氟 单质（F 2)、三氟乙酸（CF3C00H)、四氟化碳（CF4)、四氟化硅（SiF 4)、五氟化磷（PF5)、三氟化磷 (PF3)、三氟化硼（BF 3)、三氟化氮（NF3)、三氟化氯（C1F3)等。
[0069] 在这些之中，从成本方面、操作方法等众所周知的理由考虑，氟化氢（HF)是优选 的。
[0070] 在本发明的方法中，以满足下述式（1)所示的条件的方式将含氯气体喷雾到玻璃 带表面上。
[0071] (6. 92ul+15.8)cltl ? exp(-4303/T1)>r (1)
[0072] 式⑴中，cl为含氯气体的氯浓度[体积％ ]，ul为含氯气体的流速（线速度） [cm/s]，tl为含氯气体的喷雾时间[s]，T1为玻璃带的表面温度[K]，r为在玻璃带表面上 存在的锡缺陷的半径[ym]。
[0073] r优选为15 ym以下，更优选为10 ym以下，进一步优选为5 ym以下。
[0074] 在含氯气体的喷雾条件不满足上述式（1)的情况下，有可能不能够充分除去以上 部斑点的形式在玻璃带表面上存在的锡缺陷。
[0075] 在本发明的方法中，以满足下述式（2)所示的条件的方式将含氟气体喷雾到玻璃 带表面上。
[0076] (6. 92u2+15. 8) c2t2 ? exp (-4303/T2) >r (2)
[0077] 式⑵中，c2为含氟气体的氟浓度[体积％ ]，u2为含氟气体的流速（线速度） [cm/s]，t2为含氟气体的喷雾时间[s]，T2为玻璃带的表面温度[K]，r为在玻璃带表面上 存在的锡缺陷的半径[ym]。
[0078] r优选为15 ym以下，更优选为10 ym以下，进一步优选为5 ym以下。
[0079] 在含氟气体的喷雾条件不满足上述式（2)的情况下，有可能不能使玻璃带表面充 分平滑化。
[0080] 在本发明的方法中，含氯气体和含氟气体可以分别以单一气体的形式喷雾到玻璃 带表面上，但是从防止用于喷雾这些气体的喷嘴等设备的腐蚀的观点出发，优选使用氮气 或稀有气体等惰性气体作为载气，制成与这些载气的混合气体并进行喷雾。
[0081] 另外，含氯气体和含氟气体可以从各自的喷嘴进行喷雾，也可以制成两者的混合 气体并从同一喷嘴进行喷雾。
[0082] 另外，在将两者从各自的喷嘴进行喷雾的情况下