氯或者氟 的含量显示出高于距离上述顶面比10ym深的部分的氯或氟含量的值。
[0123] (比较例1)
[0124] 代替将HC1和HF用氮气进行稀释使得各自的浓度达到500ppm而得到的混合气 体，使用氮气以流速（线速度）〇.5cm/s喷雾80分钟（4800s)，除此以外，实施与实施例1相 同的步骤。
[0125] 气体的喷雾结束后，冷却至常温后，利用激光显微镜确认玻璃样品表面的结果是， 锡缺陷未被除去（图5(a)、（b))。
[0126] (比较例2)
[0127] 将仅将HC1用氮气稀释使得浓度达到5%而得到的气体以流速（线速度）20cm/s 喷雾10秒钟，除此以外，实施与实施例1相同的步骤。该HC1的喷雾条件满足上述式（1)。
[0128] 气体喷雾结束后，冷却至常温后，利用激光显微镜确认玻璃样品表面的结果是，锡 缺陷被除去，但是在曾经存在锡缺陷的部位观察到凹部（图6(a)、（b))。
[0129] (比较例3)
[0130] 将仅将HC1用氮气稀释使得浓度达到0. 1 %而得到的气体以流速（线速 度）0. 5cm/s喷雾60秒钟，除此以外，实施与实施例1相同的步骤。该HC1的喷雾条件不满 足上述式（1)。
[0131] 气体喷雾结束后，冷却至常温后，利用激光显微镜确认玻璃样品表面的结果是，锡 缺陷未被除去（图7 (a)、（b))。
[0132] (比较例4)
[0133] 将仅将HF用氮气稀释使得浓度达到0. 1%而得到的气体以流速（线速度）0.5cm/ s喷雾60秒钟，除此以外，实施与实施例1相同的步骤。该HF的喷雾条件不满足上述式 ⑵。
[0134] 气体喷雾结束后，冷却至常温后，利用激光显微镜确认玻璃样品表面的结果是，锡 缺陷未被除去（图8 (a)、（b))。
[0135] (比较例5)
[0136] 将仅将HF用氮气稀释使得浓度达到0. 1 %的而得到的气体以流速（线速 度）0.5cm/s喷雾20分钟（1200s)，除此以外，实施与实施例1相同的步骤。该HF的喷雾条 件满足上述式（2)。
[0137] 气体喷雾结束后，冷却至常温后，利用激光显微镜确认玻璃样品表面的结果是，锡 缺陷未被除去（图9 (a)、（b))。
[0138] 本申请基于2013年4月24日申请的日本专利申请2013-091133,其内容作为参照 并入本文。
【主权项】
1. 一种浮法平板玻璃制造方法，其中，在浮抛窑内的500~1200°C的还原气氛中，将含 氯气体和含氟气体以分别满足下述式（1)、（2)所示的条件的方式喷雾到玻璃带表面上， (6.92ul+15. 8)cltl ? exp (-4303/T1)>r (I) 式（1)中，cl为含氯气体的氯浓度[体积％ ]，ul为含氯气体的流速（线速度）[cm/ s]，tl为含氯气体的喷雾时间[s]，Tl为玻璃带的表面温度[K]，r为玻璃带表面上存在的 锡缺陷的半径[ym]; (6. 92u2+15. 8)c2t2 ? exp(-4303/T2)>r (2) 式（2)中，c2为含氟气体的氟浓度[体积％]，u2为含氟气体的流速（线速度）[cm/ s]，t2为含氟气体的喷雾时间[s]，T2为玻璃带的表面温度[K]，r为玻璃带表面上存在的 锡缺陷的半径[y m]。2. 如权利要求1所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，在将制造的玻璃的玻璃化转变 温度设为Tg时，在浮抛窑内的Tg+30°C~Tg+300°C的还原气氛中，将所述含氯气体和所述 含氟气体喷雾到所述玻璃带表面上。3. 如权利要求1或2所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氯气体为氯化氢 (HCl)〇4. 如权利要求1或2所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氟气体为氟化氢 (HF)。5. 如权利要求1~4中任一项所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氯气体的氯 浓度cl [体积％ ]与所述含氟气体的氟浓度c2 [体积％ ]的合计cl+c2大于5 [体积％ ]。6. 如权利要求5所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氯气体的氯浓度cl [体 积％ ]为2[体积％ ]以上。7. 如权利要求5所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氟气体的氟浓度c2[体 积％ ]为2[体积％ ]以上。8. 如权利要求1~7中任一项所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氯气体的氯 浓度cl [体积％ ]与所述含氯气体的喷雾时间tl [s]的乘积cl X tl与所述含氟气体的氟浓 度c2 [体积％ ]与所述含氟气体的喷雾时间t2[s]的乘积c2Xt2之和（clXtl) + (c2Xt2) 大于120 [体积％ Xs]。9. 如权利要求1~7中任一项所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氯气体的喷 雾时间tl[s]或所述含氟气体的喷雾时间t2[s]中的任意一者少于10[s]。10. -种浮法平板玻璃，其为通过权利要求1~9中任一项所述的浮法平板玻璃制造方 法而得到的浮法平板玻璃，其中， 在将浮法平板玻璃的距离与在浮抛窑内与熔融金属接触的面相对的顶面0. 05 ym深 度处的氯含量设为Cl 1 [重量％ ]、并将距离所述顶面大于0. 05 y m且小于等于10 y m深度 处的氯含量的最小值设为C12 [重量％ ]时，C1DC12 ; 在将距离所述顶面〇. 05 y m深度处的氟含量设为Fl [重量％ ]、并将距离所述顶面大于 0. 05 y m且小于等于20 y m深度处的氟含量的最小值设为F2 [重量％ ]时，F1>F2。11. 一种浮法平板玻璃，其中， 在将浮法平板玻璃的距离与在浮抛窑内与熔融金属接触的面相对的顶面0. 05 ym深 度处的氯含量设为Cl 1 [重量％ ]、并将距离所述顶面大于0. 05 y m且小于等于10 y m深度 处的氯含量的最小值设为C12 [重量％ ]时，C11>C12 ; 在将距离所述顶面〇. 05 y m深度处的氟含量设为Fl [重量％ ]、并将距离所述顶面大于 0. 05 y m且小于等于20 y m深度处的氟含量的最小值设为F2 [重量％ ]时，F1>F2。12. 如权利要求11所述的浮法平板玻璃，其中，所述浮法平板玻璃为通过在浮抛窑内 使含氯气体和含氟气体与所述浮法平板玻璃的玻璃表面接触而进行表面处理而制造的浮 法平板玻璃。13. 如权利要求11或12所述的浮法平板玻璃，其中，具有如下区域：距离所述顶面大 于0. 05 y m且小于等于10 y m深度处的氯或氟含量高于在浮抛窑内未将含氯气体和含氟气 体喷雾到玻璃带表面上的浮法平板玻璃的氯或氟含量。14. 如权利要求11~13中任一项所述的浮法平板玻璃，其中，将距离所述顶面大于 0. 05 ym且小于等于10 ym深度处的氯含量变化的斜率设为[dCl]、并将氟含量变化的斜率 设为[dHF]时，具有[dCl]或[dHF]为负的区域。15. 如权利要求11~14中任一项所述的浮法平板玻璃，其中，距离所述顶面大于 0. 05 y m且小于等于10 y m深度处的氯或氟含量高于距离所述顶面比10 y m深的部分的氯 或氟含量。
【专利摘要】本发明提供一种利用浮法制造平板玻璃时，通过在线处理从玻璃表面除去锡缺陷而得到平滑的表面的浮法平板玻璃制造方法。本发明涉及一种浮法平板玻璃制造方法，其中，在浮抛窑内的500～1200℃的还原气氛中，将含氯气体和含氟气体以各自满足规定条件的方式喷雾到玻璃带表面上。
【IPC分类】C03C15/02, C03B18/02
【公开号】CN105143132
【申请号】CN201480023330
【发明人】安田兴平, 林泰夫, 井川信彰, 市川龙麻, 宫坂聪史
【申请人】旭硝子株式会社
【公开日】2015年12月9日
【申请日】2014年4月23日
【公告号】WO2014175362A1