1.一种硅片表面自动清洗装置，包括：清洗槽和升降装置，所述升降装置设置在清洗槽内部，其特征在于，所述清洗槽中间设置有隔板，将清洗槽分隔成上层和下层，所述升降装置包括升降机、限位开关和密封箱体，所述升降机底端连接在下层底部，上端穿过隔板延伸到上层顶部，所述限位开关设置在下层侧壁上，所述密封箱体设置在升降机顶部，所述密封箱体内设置有振打装置，顶部设置有硅片存储机构，所述硅片存储机构通过螺栓与密封箱体相连接。
2.根据权利要求1所述的硅片表面自动清洗装置，其特征在于，所述隔板为带有中空结构的双层耐腐蚀钢板。
3.根据权利要求1所述的硅片表面自动清洗装置，其特征在于，所述硅片存储机构包括底部框架，所述底部框架两侧内壁设置有向下延伸的导向槽，所述导向槽底部设置有位于底部框架内的固定板。
4.根据权利要求3所述的硅片表面自动清洗装置，其特征在于，所述固定板上表面设置有与导向槽宽度相同的固定槽。
5.根据权利要求1所述的硅片表面自动清洗装置，其特征在于，所述振打装置包括驱动电机和连接在驱动电机上的凸轮。
6.根据权利要求1所述的硅片表面自动清洗装置，其特征在于，所述密封箱体内壁四周设置有与凸轮相对应振打锤。
7.根据权利要求6所述的硅片表面自动清洗装置，其特征在于，所述振打锤通过橡胶棒与密封箱体连接。