涂覆聚合物材料20来进行。在金属氧化物涂覆步骤S2，将金属氧化物230与光散射颗粒231混合，所述光散射颗粒231的折光率不同于金属氧化物230的折光率，然后将聚合物材料20用包括金属氧化物230和光散射颗粒231的混合物涂覆。例如，光散射颗粒231可以为S12,且金属氧化物230可以为Ti02。含有光散射颗粒231的金属氧化物230形成有机发光装置(于图11中的200)的内部光提取层，并且用来散射光(否则将于光波导模式中损失)，即扰乱光波导模式，从而改善光提取效率。
[0051 ]之后，玻璃料涂覆步骤S3通过用玻璃料浆料30涂覆金属氧化物230来进行。将省略对根据这个实施方式的玻璃料涂覆步骤S3的描述，因为其与根据前述实施方式的玻璃料涂覆步骤S2相同，除了玻璃料浆料涂覆的物品之外。
[0052]在金属氧化物涂覆步骤S2和玻璃料涂覆步骤S3，鉴于在热处理期间的收缩，优选控制玻璃料浆料30的厚度和金属氧化物230的厚度，以使将于下列工艺中形成的包括玻璃料基板(于图10中的110)和金属氧化物230的堆叠物的厚度范围为5至20μπι。
[0053]之后，如图10所示，热处理和分离步骤S4包括在聚合物材料20分解的温度下热处理，由此包括玻璃料基板110和金属氧化物230的堆叠物与支撑体10分离。在此，通过热处理来制作玻璃料基板110，藉此硬化玻璃料浆料30。在热处理和分离步骤S3，热处理可在范围为400至600°C的温度下进行。
[0054]当在聚合物材料20分解的温度下进行热处理时，聚合物材料20通过分解来去除，由此包括玻璃料基板110和金属氧化物230的堆叠物与支撑体10分离。当聚合物材料20施加于支撑体10上时，由于聚合物材料20形成高度平整的表面，已涂覆高度平整的表面的聚合物材料20的堆叠物的一个表面，即金属氧化物230的表面(S卩，提及图10时的金属氧化物230的上表面或外表面)，也形成高度平整的表面。金属氧化物230的外表面的表面粗糙度rms范围为0.4至5nm，其类似于或等于聚合物材料20的表面粗糙度。
[0055]堆叠物的另一个表面，即玻璃料基板110的表面(S卩，提及图1O时的玻璃料基板110的下表面或外表面)的表面粗糙度比金属氧化物230的外表面的表面粗糙度更高。
[0056]之后，如图11中所示，装置层形成步骤S5通过在堆叠物上的一个表面，即金属氧化物230的上表面上形成装置层120来进行。金属氧化物230的上表面是高度平整的，因为其已涂覆聚合物材料20。将省略根据这个实施方式的装置层形成步骤S5的详细描述，因为其与根据前述实施方式的装置层形成步骤S4大致上相同。
[0057]如上文所述的，根据该示例性实施方式的制造超薄有机发光装置的方法包括以下步骤:形成金属氧化物230，所述金属氧化物230形成有机发光装置200的内部光提取层。尽管根据这个实施方式的有机发光装置200的厚度可比根据前述实施方式的有机发光装置(于图6中的100)的厚度更大，但是与常规有机发光装置比较，根据这个实施方式的有机发光装置200超薄。由于由其中分散有光散射颗粒231的金属氧化物230组成的内部光提取层邻近有机发光层122布置，因此可进一步增强光提取效率。
[0058]关于附图已经呈现对本发明的特定示例性实施方式的前述描述。它们不意图是详尽性的或使本发明限于公开的精确形式，并且显而易见的是，许多修饰和改变对于本领域普通技术人员按照上述教义是可能的。
[0059]因此，期望本发明的范围不限于前述实施方式，而是由所附权利要求和其等效物限定。
【主权项】
1.一种用于制造超薄有机发光装置的方法，其包括: 用聚合物材料涂覆支撑体； 用玻璃料浆料涂覆所述聚合物材料； 在所述聚合物材料分解的温度下热处理所得的结构，以使通过所述热处理由所述玻璃料浆料形成的玻璃料基板与所述支撑体分离；以及 在已涂覆所述聚合物材料的玻璃料基板的一个表面上形成装置层，所述装置层包括顺序布置于所述玻璃料基板的所述一个表面上的第一电极、有机发光层和第二电极。2.根据权利要求1所述的方法，其中用所述玻璃料浆料涂覆所述聚合物材料，以使所述玻璃料基板的厚度范围为4mi至5μπι。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物材料包含选自由聚二甲基硅氧烷、光致抗蚀剂和聚酰亚胺组成的候选聚合物材料组中的一种。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述热处理所得的结构的温度范围为400°C至600?C。5.根据权利要求1所述的方法，其中在所述玻璃料基板与所述支撑体分离后，所述玻璃料基板的另一个表面的表面粗糙度比所述玻璃料基板的一个表面的表面粗糙度更高。6.根据权利要求5所述的方法，其中所述玻璃料基板的所述一个表面的表面粗糙度范围为0.4nm 至 0.5nm。7.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃料基板的厚度和所述装置层的厚度的总和为ΙΟμπι或更少。8.一种用于制造超薄有机发光装置的方法，其包括: 用聚合物材料涂覆支撑体； 用其中含有光散射颗粒的金属氧化物涂覆所述聚合物材料； 用玻璃料浆料涂覆所述金属氧化物； 在所述聚合物材料分解的温度下热处理所得的结构，以使包括通过所述热处理由所述玻璃料浆料形成的玻璃料基板和金属氧化物的堆叠物与所述支撑体分离；以及 在所述堆叠物已涂覆所述聚合物材料的一个表面上形成装置层，所述装置层包括顺序布置于所述金属氧化物的一个表面上的第一电极、有机发光层和第二电极。9.根据权利要求8所述的方法，其中用所述金属氧化物和所述玻璃料浆料涂覆所述聚合物材料，以使所述堆叠物的厚度范围为5μηι至20μηι。10.根据权利要求8所述的方法，其中涂覆所述支撑体的所述聚合物材料包含选自由聚二甲基硅氧烷、光致抗蚀剂和聚酰亚胺组成的候选聚合物材料组中的一种。11.根据权利要求8所述的方法，其中所述热处理所得的结构的温度范围为400°C至600?C。12.根据权利要求8所述的方法，其中，在所述堆叠物与所述支撑体分离后，所述堆叠物的另一个表面的表面粗糙度比所述堆叠物的一个表面的表面粗糙度更高。13.根据权利要求12所述的方法，其中所述堆叠物的所述一个表面的表面粗糙度范围为0.4nm至0.5nm。14.一种有机发光装置，其包括: 玻璃料基板;和 包括顺序布置于所述玻璃料基板上的第一电极、有机发光层和第二电极的装置层， 其中所述有机发光装置的厚度为ΙΟμπι或更少。15.根据权利要求14所述的有机发光装置，其中所述玻璃料基板的厚度范围为4μπ?至5μmD16.根据权利要求14所述的有机发光装置，其中所述玻璃料基板的一个表面邻接所述装置层，且所述玻璃料基板的另一个表面暴露于外部，所述玻璃料基板的所述另一个表面的表面粗糙度比所述玻璃料基板的所述一个表面的表面粗糙度更高。17.根据权利要求14所述的有机发光装置，还包含布置在所述玻璃料基板和所述装置层之间的内部光提取层，所述内部光提取层包含其中含有光散射颗粒的金属氧化物。
【专利摘要】提供了用于制造超薄有机发光装置的方法，所述装置的光提取效率可改善且厚度可显著减小。所述方法包括以下步骤：用聚合物材料涂覆支撑体，用玻璃料浆料涂覆聚合物材料，在聚合物材料分解的温度下热处理所得的结构以使通过热处理由玻璃料浆料形成的玻璃料基板与支撑体分离，以及在已涂覆聚合物材料的玻璃料基板的一个表面上形成装置层。装置层包括顺序布置于玻璃料基板的一个表面上的第一电极、有机发光层和第二电极。
【IPC分类】H05B33/10, H01L51/52
【公开号】CN105518896
【申请号】CN201480049647
【发明人】李柱永, 崔殷豪, 李贤熙
【申请人】康宁精密素材株式会社
【公开日】2016年4月20日
【申请日】2014年7月16日
【公告号】EP3024046A1, US20160172629, WO2015009059A1