低OL邸模组1发射光中藍光 的强度。
[0047] 优选的，介质材料生长布拉格反射镜一般为多晶形态或非晶形态，不需要晶格匹 配，且上述的第一膜层311和第二膜层312的材质均可选用具有阻水氧特性的物质，女口 Si〇2、Si、SiC、SisN*、Ti〇2、Al2〇3、MgO、SiC、BeO、CaFz、ZnSe、MgFz 等中一种或多种组合，W使 得制备的DBR膜层具有阻碍水氧的特性，可进一步提高制备的器件结构的封装效果，W提 高制备器件的性能及其使用寿命。
[0048] 优选的，也可在DBR膜层3中还可设置光学微腔，W进一步的增强OL邸模组的共 振腔效应，进而提高制备的器件结构发射光线的色纯度。
[0049] 进一步的，为了使得制备的DBR膜层3与位于其下方的OL邸模组1更好的匹配，可 使得制备的DBR膜层3对于高能短波藍光的反射率大于0. 95,而为了降低对于出光率的影 响，可使得DBR膜层3的厚度要小于SOOnm ;尤其是在AMOL邸制程中，为了避免膜层数据过 多而带来的制程影响，可使得上述DBR膜层3中设置的折射单元31的个数在2~6之间； 如可设置2、4或6个的折射单元31，并使其依次叠置，进而使形成的DBR膜层3中，第一膜 层311与第二膜层312交替垂直排列，且在中间折射率层2上表面覆盖折射率较小的第一 膜层311，而位于最上层的则为折射率较大的第二膜层312, W保证达到布拉格镜面的效果 (即获取更高的反射率）。
[0050] 其中，上述的第一膜层311和第二膜层312之间的折射率差值越大，布拉格反射镜 的反射带宽越宽，相应的其所需设置的折射单元31的个数就越少。
[00川 实施例二
[0052] 本发明还提供一种制备有机发光器件结构的方法，其可应用于制备上述实施例一 中所记载的有机发光器件结构，即可基于上述实施例一及图1~2的基础上，该方法包括：
[0053] 首先，提供一 OL邸模组，该OL邸模组可基于传统的工艺制备的AMOL邸结构，可参 见图1所示的结构，该OL邸模组1可包括阳极（Anode) 11、设置于阳极（ITO/Ag/ITO) 11之 上的有机发光层12,设置于有机发光层12之上的阴极（Mg/Ag) 13,且该阴极13的上表面可 作为发光的正面，进而阳极11的下表面则可作为相对于上述正面的背面。
[0054] 其次，于上述的OL邸模组1的阴极13的正面之上制备中间折射率层2 (该中间折 射率层2的制备工艺也可采用常规的手段进行制备，故其具体的工艺在此便不予累述）。
[00巧]之后，在中间折射率层2之上继续制备DBR膜层3,进而形成见图1~2所示的器 件结构，W降低上述OL邸模组1发射的光线中藍光的强度。
[0056] 优选的，上述的DBR膜层3主要用于降低OL邸模组1发射的光线中高能短波藍光 的强度，如波长小于435nm的藍光等。
[0057] 优选的，为了避免制程中对于已经制备的器件结构（如OL邸模组1、中间折射率层 2等）造成损伤，W及二次电力干扰等不利因素，可采用低温化学气相沉积工艺制备上述的 DBR膜层3,例如在低于15(TC的温度环境中进行上述的化学清洗沉积工艺（CVD)。
[0058] 优选的，上述的DBR膜层3包括若干依次叠置的折射单元31，每个折射单元31均 包括位于下方的第一膜层311和位于该第一膜层311之上的第二膜层312,且第一膜层311 的折射率要小于第二膜层312的折射率，如可使得设置的第二膜层312的折射率减去第一 膜层311的折射率的值大于0. 5, W使得折射单元31能够有效的降低OL邸模组1发射光中 藍光的强度；在具体的制备工艺中，可通过采用具有不同折射率的两种材质交错生长，进而 形成上述的垂直交错排列的第一膜层311和第二膜层312。
[0059] 由于本实施例的方法可用于制备上述实施例一中所记载的有机发光器件结构，故 相应的实施例一中记载的结构及参数特征均可适用于本实施例，为了阐述简明，在此便不 予一一阐述。
[0060] 为了更好的说明本发明的所带来的有益效果，下面举例进行详细说明：
[0061] 首先，在采用本申请的方法进行工艺制备前，为了使得制备的DBR膜层与位于其 下方的OL邸膜层更好的匹配，可先利用公式[1]计算该DBR膜层的反射率，W确保制备的 DBR膜层的反射率大于0.95 ;
[00的]上述的公式山为：
[006引其中，R为DBR膜层的反射率，为衬底折射率，为第二膜层的折射率（即高折 射率），化为第一膜层的折射率（即低折射率），m为折射单元的层数，n,为阴极的折射率。
[0064] 继续设中必波长为A。，任意波长为入，相应的波长之比
，即可得反射带宽 公式凹为
[0065] 所W，可得反射带宽仅与第一膜层和第二膜层的折射率之间的差值有关，即折射 率差值越大，布拉格反射镜的反射带宽越宽，相应的其所需生长的折射单元就越少。
[0066] 进一步的，在选定好第一膜层和第二膜层的折射率差值后，可通过光学模拟软件 进行光谱、色标等的模拟；例如在DBR膜层设计时，选定第一膜层和第二膜层的厚度均为 lOOnm，第一膜层的材质为SiO,第二膜层的材质为SiC,折射单元为2个，并采用传统OLED 结构进行模拟后，即可得到图3及下表：
[0069] 参见上述的表格及图3可知，通过加入DBR膜层之后，藍光光谱右移，可使得波长 在435nm W下藍光的强度降低40%，而R/G色标的影响皆在误差范围内，且NTSC并没有减 小。
[0070] 综上所述，本发明的上述实施例中，通过在中间折射率层之上设置的布拉格反射 值BR)膜层，可大幅度地降低其发射的高能短波藍光的强度，进而有效的降低其发射的光对 人眼造成的损伤，且该DBR膜层还可与OL邸器件中的有机光学微腔匹配，还能增强OL邸器 件的共振腔效应，进而提高其发射光的色纯度；同时，采用具有隔离水氧特性的材质制备上 述的OBR膜层，还能优化OL邸模组的水氧阻隔特性，W进一步的增强OL邸的封装性能，有 效提高制备器件的性能及其使用寿命。
[0071] 对于本领域的技术人员而言，阅读上述说明后，各种变化和修正无疑将显而易见。 因此，所附的权利要求书应看作是涵盖本发明的真实意图和范围的全部变化和修正。在权 利要求书范围内任何和所有等价的范围与内容，都应认为仍属本发明的意图和范围内。
【主权项】
1. 一种有机发光器件结构，其特征在于，所述结构包括： OLED模组，具有用于发光的正面； 中间折射率层，设置于所述OLED模组的正面之上； DBR膜层，设置于所述中间折射率层之上，以降低所述OLED模组发射的高能短波蓝光 的强度； 其中，所述DBR膜层包括依次叠置的至少两层折射单元，且每层所述折射单元均包括 第一膜层和设置于该第一膜层之上的第二膜层；所述第一膜层和所述第二膜层交替排列设 置于所述中间折射率层之上，且所述第一膜层的折射率小于所述第二膜层的折射率。2. 如权利要求1所述的有机发光器件结构，其特征在于，所述第二膜层的折射率与所 述第一膜层的折射率之间的差值大于0. 5。3. 如权利要求1所述的有机发光器件结构，其特征在于，所述折射单元的层数为2~ 6〇4. 如权利要求1所述的有机发光器件结构，其特征在于，所述DBR膜层的材质具有阻水 氧特性。5. 如权利要求1所述的有机发光器件结构，其特征在于，所述DBR膜层的厚度小于 800nm，且该DBR膜层对于所述高能短波蓝光的反射率大于0. 95。6. 如权利要求1所述的有机发光器件结构，其特征在于，所述DBR膜层中设置有光学微 腔，以提高所述有机发光器件结构发射光的色纯度。7. 如权利要求1所述的有机发光器件结构，其特征在于，所述OLED模组包括： 阳极； 有机发光层，设置于所述阳极之上； 阴极，设置于所述有机发光层之上； 其中，所述中间折射率层设置于所述阴极之上，且所述有机发光层中设置有光学微腔。8. 如权利要求1所述的有机发光器件结构，其特征在于，所述高能短波蓝光的波长小 于 435nm〇9. 一种制备有机发光器件结构的方法，其特征在于，应用于制备如权利要求1~8中任 意一项所述的有机发光器件结构，所述方法包括： 提供一正面设置有中间折射率层的OLED模组； 于所述中间折射率层之上采用低温化学气象沉积工艺制备DBR膜层，以降低所述OLED 模组发射的高能短波蓝光的强度； 其中，所述DBR膜层包括依次叠置的至少两层折射单元，且每层所述折射单元均包括 第一膜层和设置于该第一膜层之上的第二膜层，且所述第一膜层的折射率小于所述第二膜 层的折射率。
【专利摘要】本发明提供一种有机发光器件结构及其制备方法，可基于传统OLED器件结构的基础上，通过在中间折射率层(Index？layer)之上设置一布拉格反射(DBR)膜层，以大幅度地降低其发射的高能短波蓝光的强度，进而有效的降低其发射的光对人眼造成的损伤，且该DBR膜层还可与OLED器件中的有机光学微腔匹配，以增强OLED器件的共振腔效应，进而提高其发射光的色纯度；同时，采用具有隔离水氧特性的材质制备上述的OBR膜层，还能优化OLED模组的水氧阻隔特性，以进一步的增强OLED的封装性能，有效提高制备器件的性能及其使用寿命。
【IPC分类】H01L51/56, H01L51/52
【公开号】CN105633294
【申请号】CN201410608464
【发明人】张明月, 邹忠哲, 施秉彝, 祝文秀
【申请人】上海和辉光电有限公司
【公开日】2016年6月1日
【申请日】2014年10月31日