专利名称：基板处理装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及在液晶显示装置的玻璃基板的制造等中使用的传送式的基板处理装置。
背景技术：
用于液晶显示装置的玻璃基板通过在作为素材的玻璃基板的表面上重复实施蚀刻、剥离等化学处理来制造。该处理装置大致分为干式和湿式，湿式又分为间歇式和叶片式。而且，叶片式被细分为旋转式和滚轮传送等的传送式。
在这些基板处理装置中，传送式的装置具有将基板大致向水平方向传送，同时对该基板的表面供给处理液的基本结构，由于效率高，所以从以前开始被用于蚀刻处理和剥离处理。
在用于蚀刻处理的传送式的基板处理装置中，从在基板传送线的上方矩阵状配置的多个喷射喷嘴中喷出蚀刻液，通过使基板在该蚀刻液中通过，向基板的整个表面供给蚀刻液。通过该喷淋处理，基板的表面除涂敷了掩模材料的部分被有选择地蚀刻。蚀刻结束，则继续通过喷淋进行清洗处理。用于剥离处理的也是基本相同地构成。
但是，液晶显示装置的玻璃基板在逐步大型化的同时电路逐步高精细化。作为该基板中使用的布线材料，以前大多使用Cr，但随着最近的高精细化，正在谋求向比电阻值较小的Al或Al/Mo转换。因此，即使是用于蚀刻的传送式基板处理装置，也开始使用Al用蚀刻液，而随着该蚀刻液的使用，已弄清产生以下的问题。
Al用蚀刻液与Cr用蚀刻相比为高粘度，对玻璃基板的表面的浸润性差。此外，比Cr用蚀刻液产生的Cr的蚀刻率高。因此，在喷淋处理开始时，对于干燥面来说，蚀刻液的细的液滴冲击过的部分成为处理不匀，即使其后的喷淋处理也不能消除，在蚀刻后残留处理不匀。
为了消除这种处理不匀，在喷淋处理前，使基板通过从缝隙喷嘴喷出的蚀刻液的膜中的液膜处理很有效。在使基板通过蚀刻液的膜中后，基板的表面无不匀地浸润。一旦无不匀地浸润，即使在其后受到喷淋处理，也会不产生液滴造成的处理不匀。
此外，即使蚀刻后接着进行水洗处理，为了迅速的液体置换，在喷淋处理前，使基板通过从缝隙喷嘴喷出的清洗水的膜中的液膜处理很有效。
但是，在喷淋处理前的这些液膜处理中，处理液强烈地冲击基板的表面，所以在基板的表面上等处理液扩散，有侵入到上游侧的处理部的危险。如果蚀刻液侵入到上游侧的处理部，则产生蚀刻等问题。此外，蚀刻液的损失增加，液体成本增大。如果清洗水侵入到上游侧的处理部、即侵入到蚀刻部，则蚀刻液被稀释，不能进行其循环使用，所以这种情况下液体成本增大。
如果增大从缝隙喷嘴至输入侧的处理部的距离，则可解决该问题，但产生设备大型化的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基板处理装置，可以防止在喷淋处理之前液膜处理中成为问题的向上游侧的液体飞散。
为了实现上述目的，本发明的基板处理装置，在将基板大致沿水平方向传送并通过多个处理部，在各处理部将处理液供给到基板的表面的传送式的基板处理装置中，在多个处理部中的至少一个处理部的入口部分，设置向基板宽度方向的整个区域膜状地喷出处理液的液膜式的缝隙喷嘴，将防止从该缝隙喷嘴喷出的处理液向入口侧飞散的遮挡部件设置在所述缝隙喷嘴中。
最好将所述缝隙喷嘴构成为可变更处理液的喷出方向。通过该结构，可以与基板的行进方向倾斜来喷出处理液，更有效地防止向上游侧的液体飞散。
从防止飞散效果等方面来看，所述遮挡部件最好被安装在处理液的喷出口附近而可与喷出方向倾斜地交叉，兼作使喷出液向远离入口的方向转向的导向板。
将所述缝隙喷嘴组合于从在基板的行进方向和与该行进方向成直角的方向上排列的多个喷射喷嘴向基板的整个表面供给处理液的喷淋组件的入侧，可特别发挥效力。
本发明的基板处理装置可应用于蚀刻装置，但也可以应用于剥离装置。在蚀刻装置中，所述缝隙喷嘴在蚀刻部和水洗部中十分有效。剥离装置是在对基板的表面供给剥离液后，对该表面进行水洗的结构，但在供给剥离液的剥离部和水洗部之间，有夹置置换部的情况和不夹置置换部的情况。置换部是在剥离液与水混合产生问题的情况下，将基板表面上的剥离液暂时置换成不产生问题的药液的部分。剥离装置中的缝隙喷嘴在剥离部和水洗部中是有效的，而在它们之间夹置置换部的情况下，对于该置换部也有效。
作为与水混合产生问题的剥离液，例如有MEA(单乙醇胺)、或MEA和DMSO(二甲基亚砜)的混合液等。如果MEA与水混合，则变为强碱，对设备等产生损伤。对此，水系剥离液不产生问题，不需置换。作为置换液，对于上述两种剥离液来说，通常使用DMSO。对于其他的剥离液，可使用IPA(异戊二烯乙醇)等。
如以上说明，本发明的基板处理装置通过在处理部的入口部分设置遍及基板宽度方向的整个区域膜状地喷出处理液的缝隙喷嘴，可以防止在药液处理部中处理不匀，在接续药液处理部的水洗部中，可以迅速停止药液处理。此外，通过将防止从缝隙喷嘴喷出的处理液向入口侧飞散的遮挡部件设置在缝隙喷嘴中，可以防止在使用缝隙喷嘴的液膜处理中成为问题的向上游例的液飞散，能够解决药液造成的设备蚀刻问题和药液中混入清洗水所造成的药液成本增大的问题等。
图1是表示本发明的一实施例的传送式基板处理装置的俯视图。
图2是该基板处理装置的主要部分的侧视图。
图3是设置于该主要部分的缝隙喷嘴的纵剖侧视图。
具体实施例方式
以下根据附图来说明本发明的实施例。图1是表示本发明一实施例的水平传送式基板处理装置的俯视图，图2是该基板处理装置的主要部分的侧视图，图3是配置于该主要部分的缝隙喷嘴的纵剖侧视图。
本实施例的水平传送式基板处理装置用于液晶显示装置的玻璃基板100(以下简单地称为基板100)的Al蚀刻处理。如图1所示，该基板处理装置采用将直线状的第1传送线A、与第1传送线A直角连接的第2传送线B、与第2传送线B直角连接并与第1传送线并列的第3传送线C组合的U转向形式的布局。
第1传送线A形成为将接受部10、液体遮挡部20及蚀刻部30直线状连接的结构。第2传送线B是水洗部40。第3传送线C形成为将移载装置50、选择取样器60、移载装置70及取出部80直线状连接的结构。
第1传送线A和第2传送线B包括在传送方向上按规定间隔并排排列的多个传送滚轮，以便沿传送线的纵向方向传送基板100。各传送滚轮是与传送方向成直角的水平滚轮。在第2传送线B、即水洗部40的入口部中，设置将基板100的行进方向变更90度的转向机构41。
接受Al蚀刻处理的基板100由传送装置90运入到接受部10。该基板100通过滚轮传送从液体遮挡部20被运入到蚀刻部30，在通过该部期间受到蚀刻处理。通过蚀刻部30的基板100通过接着的滚轮传送进入到水洗部40，将行进方向变更90度并在水洗部40中移动，在该移动期间接受水洗处理。
移动至水洗部40的出口部的基板100通过移载装置50从水洗部40被传送到选择取样器60。在选择取样器60中结束了干燥的基板100由移载装置70从选择取样器60被传送到取出部80，而且通过传送装置90被传送到装置外。
在本实施例的水平传送式基板处理装置中，在蚀刻部30和水洗部40中具有特别大的特征。
如图2所示，蚀刻部30包括将基板100沿水平方向传送的多个传送滚轮31，在基板100的传送线的上方，沿基板100的行进方向依次设置缝隙喷嘴33和喷淋组件34，以便对基板100的表面供给蚀刻液。此外，为了从基板100的表面除去蚀刻液，在喷淋组件34的后方设置缝隙式的空气喷嘴36。
如图3所示，传送滚轮31包括水平驱动轴31a、安装于驱动轴31a的轴方向多处的大直径的支撑滚轮31b。支撑滚轮31b在这里配置在基板100的两侧边缘部、中央部这三个地方，用这三个地方来水平地支撑并移动基板100。
缝隙喷嘴33是与基板100的行进方向成直角的横向的水平喷嘴，在蚀刻部30的入口部分，配置于喷淋组件34之前的位置。该缝隙喷嘴33包括将Al用蚀刻液形成膜状来喷出的喷嘴本体33a、以及安装于喷嘴本体33a的前端部的遮挡部件33b。
喷嘴本体33a将从供给管33c供给的蚀刻液从缝隙33d在基板100的表面行进方向的一部分上遍及整个宽度直线状地供给。喷嘴本体33a的前端部的前后面倾斜，以便向前端变薄。而且，喷嘴本体33a以可在中心转动那样支撑在前端附近，以便能够变更缝隙33d与水平面的倾斜角度。
遮挡部件33b是宽度与喷嘴本体33a大致相等的横长的板材，由耐蚀刻的PVC等构成。该遮挡部件33b向基板100的行进方向倾斜，被安装在喷嘴本体33a的前端部，更具体地说，通过螺栓33e安装于前端部的倾斜的前表面，以便斜向横切缝隙33d的前端侧。由此，从缝隙33d膜状喷出的蚀刻液冲击遮挡部件33b，沿遮挡部件33b的表面变更到基板100的行进方向。即，遮挡部件33b在这里兼用作蚀刻液的导向板。
喷淋组件34包括在平行于基板100的行进方向及与该行进方向成直角的水平方向上按规定间隔矩阵状(包括锯齿状)排列的多个喷射喷嘴34a，在比基板100的表面宽的范围内喷射Al用蚀刻液。
多个喷射喷嘴34a在与基板100的行进方向成直角的方向上并排排列，各个喷射喷嘴朝下方安装在沿基板100的行进方向延伸的多个集水管34b上。各喷射喷嘴34a细液滴圆锥形状地喷射Al用蚀刻液，在相邻的喷嘴之间，各喷嘴的喷射范围重叠。这时的蚀刻液的供给量以在基板100的表面上可进行充分的置换来设定。
缝隙式的空气喷嘴36配置于蚀刻部30的出口部分，通过在基板100的表面的行进方向的一部分上遍及整个宽度直线状地喷吹空气，来从其表面除去蚀刻液。
水洗部40包括将基板100的行进方向变更90度的转向机构41、以及接续其后的多个传送滚轮，在这些滚轮的上方设置缝隙喷嘴42及喷淋组件43，以便喷吹基板100的表面清洗水。
缝隙喷嘴42配置在水洗部40的入口部分、特别是与蚀刻部30的连接部附近。该缝隙喷嘴42与配置于蚀刻部30的入口部分的缝隙喷嘴33同样，具有在膜状地喷出清洗水的喷嘴本体中安装遮挡部件的构造。
喷淋组件43沿基板100的行进方向配置多个。各喷淋组件43与设置于蚀刻部30的喷淋组件34同样，从在平行于基板100的行进方向的水平方向和与其行进方向成直角的水平方向上按规定间隔排列成矩阵状(包括锯齿状)的多个喷射喷嘴中喷出清洗水，对通过下方的基板100的表面从上方散射清洗水。
在这样构成的本实施例的基板处理装置中，从液体遮挡部20进入到蚀刻部30的基板100首先从缝隙喷嘴33的喷嘴本体33a喷出的Al用蚀刻液的液膜中通过，从前端部对其表面上依次供给蚀刻液。接着，从喷淋组件34喷出的Al用蚀刻液中通过，对基板100的整个表面供给Al用蚀刻液，进行规定的蚀刻。
如果突然对基板100的干燥的表面喷淋Al用蚀刻液，则最初接受液滴的部分成为处理不匀而残留，但通过事先在蚀刻液的膜中通过，对该表面均匀地供给蚀刻液，随着蚀刻液的喷淋处理，可防止处理不匀。
这里，从缝隙喷嘴33的喷嘴本体33a喷出的Al用蚀刻液强烈冲击基板100的表面，产生飞散，但通过安装于喷嘴本体33a的遮挡部件33b，可防止对上游侧的飞散，并且将蚀刻液的喷出方向转向到基板100的行进方向，使蚀刻液从前方倾斜地冲击到基板100的表面。因此，可有效地防止蚀刻液向上游侧的飞散，防止上游侧的设备受到蚀刻液的蚀刻。此外，可避免蚀刻液的损失。
在喷淋组件34的下方通过的基板100从空气喷嘴36的下方通过，在从其表面除去蚀刻液后，进入到水洗部40。在进入水洗部40时，基板100从缝隙喷嘴42的下方通过。通过从缝隙喷嘴42的下方通过，表面从药液瞬时置换成清洗水，停止进行蚀刻。
从缝隙喷嘴42的喷嘴本体喷出的清洗水强烈地冲击基板100的表面，产生飞散，但由于在喷嘴本体中设置液体导向槽，所以有效地抑制向蚀刻部30的飞散。因此，蚀刻部30可防止清洗水混入蚀刻液。
通过缝隙喷嘴42的下方进入到水洗部40内的基板100在方向转换后，在喷淋组件43喷出的清洗水中通过而受到规定的清洗处理。
在缝隙喷嘴中，喷嘴本体的中心线与遮挡部件的倾斜角度θ1最好为15～45度。如果该倾斜角度小，则有不能充分防止对入口侧的液飞散的危险。相反，如果该倾斜角度大，则有在对基板表面的液供给上产生阻碍的危险。
喷嘴本体的中心线与基板表面的倾斜角度以相对于垂直线向上游侧的前倾斜角度θ2表示，最好在±30度以下。如果该倾斜角度小，则设置空间小即可。相反，如果该倾斜角度大，则设置空间大，设备增大。
上述实施例的基板处理装置为Al蚀刻装置，但也可以应用于其他蚀刻装置，而且不限于蚀刻装置，也可以应用于剥离装置等。在应用于剥离装置的场合，在剥离部和水洗部中设置带有遮挡部件的缝隙喷嘴是有效的，在两者间夹置置换部的场合，在该置换部中设置带有遮挡部件的缝隙喷嘴也是有效的。
通过在该剥离部的入口部分设置带有该遮挡部件的缝隙喷嘴，可防止对上游侧的剥离液的飞散，防止上游侧的设备中的剥离液造成的蚀刻等，同时可避免剥离液的损失。此外，通过在置换部的入口部分设置带有遮挡部件的缝隙喷嘴，可防止对上游侧的剥离部的置换液的飞散，防止在剥离部中置换水混入剥离液，防止在置换部中置换液的无效浪费。而且，通过在水洗部的入口部分设置带有该遮挡部件的缝隙喷嘴，可防止清洗水混入剥离部或置换部，可避免剥离液或置换液的稀释造成的损失。
权利要求
1.一种基板处理装置，在将基板大致沿水平方向传送并通过多个处理部，在各处理部将处理液供给到基板的表面的传送式的基板处理装置中，其特征在于，在多个处理部中的至少一个处理部的入口部分，设置向基板宽度方向的整个区域膜状地喷出处理液的液膜式的缝隙喷嘴，将防止从该缝隙喷嘴喷出的处理液向入口侧飞散的遮挡部件设置在所述缝隙喷嘴中。
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，为变更处理液的喷出方向，将所述缝隙喷嘴可绕水平轴转动地支撑。
3.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，所述遮挡部件被安装在处理液的喷出口附近而可与喷出方向倾斜地交叉，兼作使喷出液向远离入口的方向转向的导向板。
4.如权利要求1、2或3所述的基板处理装置，其特征在于，在所述缝隙喷嘴的喷出口侧，设置从在基板的行进方向和与该行进方向成直角的方向上排列的多个喷射喷嘴向基板的整个表面供给处理液的喷淋组件。
5.如权利要求1、2、3或4所述的基板处理装置，其特征在于，多个处理部包括蚀刻部和水洗部，蚀刻部和水洗部将所述缝隙喷嘴安装于入口部分。
6.如权利要求1、2、3或4所述的基板处理装置，其特征在于，多个处理部包括剥离部和水洗部，剥离部和水洗部将所述缝隙喷嘴安装于入口部分。
7.如权利要求1、2、3或4所述的基板处理装置，其特征在于，多个处理部包括剥离部、置换部和水洗部，剥离部、置换部和水洗部将所述缝隙喷嘴安装于入口部分。
全文摘要
本发明涉及一种基板处理装置，在使用因蚀刻液和剥离液等药液而受到浸蚀的基板的情况下，防止在该基板的背面因局部浸蚀而发生污点。在药液处理部的入口部分设置浸泡槽(37)。浸泡槽(37)被配置于基板(100)的传送线的下方，使药液溢出来接触基板(100)的整个背面。一旦与该药液的接触，则基板(100)的背面均匀地浸润后，只要其背面不干燥，通过药液的回入和与传送滚轮的接触，即使药液局部附着于基板(100)的背面，也不发生污点。
文档编号G03F7/26GK1391138SQ0212183
公开日2003年1月15日 申请日期2002年6月7日 优先权日2001年6月8日
发明者菅长大辅, 藤根修, 关口明 申请人:住友精密工业株式会社