负型感光性树脂组合物及图案、晶粒、装置的制法
【专利摘要】本发明提供一种负型感光性树脂组合物，其包括碱可溶性树脂(A)、光致产酸剂(B)、碱性化合物(C)、交联剂(D)以及溶剂(E)。碱可溶性树脂(A)包括丙烯酸酯系树脂(A-1)与酚醛清漆树脂(A-2)。丙烯酸酯系树脂(A-1)是由聚合用单体聚合而得，其中所述聚合用单体包括不饱和羧酸或不饱和羧酸酐的单体(a-1-1)与单体(a-1-2)，并且单体(a-1-2)包括具有三环癸烷或双环戊二烯结构的化合物(a-1-2-1)、式(1)所示的化合物(a-1-2-2)或上述两者的组合。酚醛清漆树脂(A-2)是由醛类化合物与芳香族羟基化合物聚合而得，其中芳香族羟基化合物包括二甲酚类化合物。
【专利说明】负型感光性树脂组合物及图案、晶粒、装置的制法
【技术领域】
[0001] 本发明是有关于一种感光性树脂组合物，且特别是有关于一种负型感光性树脂组 合物。
【背景技术】
[0002] 近年来，随着半导体工业、液晶显示器（liquidcrystaldisplay,LCD)以及有机 电激发光显不装置（organicelectro-luminescencedisplaydevice, 0ELD)的发展，伴随 而来对于尺寸缩小化的需求，使得微影（photolithography)工艺成为非常重要的议题。在 微影（photolithography)工艺中，必须将所需的光阻图案（pattern)微细化（finer),以达 到尺寸缩小化的目的。
[0003] -般而言，在半导体工艺中，金属图案（metallicpattern)可以剥离法（lift-off method)来制作。所述剥离法的步骤如下：首先，在基板上形成光阻图案。接着，在上面形 成有光阻图案的基板上蒸镀金属层。最后，剥离光阻图案与形成在光阻图案上的金属层来 形成金属图案。在剥离法中，由于光阻图案的剖面为逆锥状（reversedtaperedshape),因 此覆盖在基板上的金属层与覆盖在光阻图案上的金属层不连续，而易于移除。值得一提的 是，上述光阻图案存在有耐热性不佳、吸水性高等问题。
[0004] 另一方面，在有机电激发光显示装置中，通常是以光阻图案作为在第一电极层上 的隔离壁（rib),并且将有机电致发光媒体（organicelectro-luminescencematrix)涂 布经由隔离壁而暴露出的第一电极层上来形成画素层。接着，在隔离壁与画素层的整体表 面上蒸镀金属层来形成位于画素层上的第二电极层。值得一提的是，由于有机发光兀件 容易受到水份、溶剂等成分破坏，因此希望以吸水性低的材料作为隔离壁。又，为了除去 隔离壁中残留的水份与溶剂，通常在高温下对隔离壁与其他有机发光元件进行脱气处理 (deaerationtreatment)。然而，隔离壁却因此变形，而不利于使用。
[0005]日本特许3320397号揭示一种逆锥状光阻图案的形成方法，其是使用双酚类化合 物来作为负型感光性树脂组合物，并且以所述负型感光性树脂组合物来形成光阻图案。如 此一来，便可以蒸镀方式于光阻图案上形成金属图案，并且所述光阻图案亦可形成为耐热 性佳、吸水性低的隔离壁。然而，使用所述负型感光性树脂组合物来形成的光阻图案却存在 与基板之间剥除性不佳以及不耐蒸镀工艺的问题。
[0006] 于是，亟需发展一种负型感光性树脂组合物，其适于形成一种与基板之间的剥除 性佳，且耐蒸镀工艺的光阻图案。
【发明内容】
[0007] 本发明提供一种负型感光性树脂组合物，其用于形成一种与基板之间的剥除性 佳，且耐蒸镀工艺的光阻图案。
[0008] 本发明提供一种负型感光性树脂组合物，其包括碱可溶性树脂（alkai-soluble resin) (A)、光致产酸剂（photoacidgenerator) (B)、喊性化合物（basiccompound) (C)、 交联剂（cross-linking agent)(D)以及溶剂（E)。碱可溶性树脂（A)可包括丙烯酸酯 系树脂（acrylate resin) (A-I)与酚醒清漆树脂（novolac resin) (A-2)。值得注意的 是，丙烯酸酯系树脂（A-I)可由聚合用单体聚合而得，其中聚合用单体包括不饱和羧酸或 不饱和羧酸酐的单体（a-1-l)与单体（a-1-2)，并且上述单体（a-1-2)包括具有三环癸 烧（tricyclodecane)或双环戊二烯（dicyclopentadiene)结构的化合物（a-l-2-l)、式 (1)所示的化合物（a-1-2-2)或上述两者的组合。又，酚醛清漆树脂（A-2)是由醛类化合 物与芳香族羟基化合物聚合而得，其中芳香族羟基化合物包括二甲酚类化合物（xylenol compound)〇
[0009]
【权利要求】
1. 一种负型感光性树脂组合物，其特征在于，包括： 碱可溶性树脂（A); 光致产酸剂（B); 碱性化合物（C); 交联剂（D);以及 溶剂（E)， 其中所述碱可溶性树脂（A)包括丙烯酸酯系树脂（A-I)与酚醛清漆树脂（A-2); 所述丙烯酸酯系树脂（A-I)是由聚合用单体聚合而得，其中所述聚合用单体包括不饱 和羧酸或不饱和羧酸酐的单体（a-1-l)与单体（a-1-2)，并且所述单体（a-1-2)包括具有三 环癸烷或双环戊二烯结构的化合物（a-l-2-l)、式（1)所示的化合物（a-1-2-2)或两者的组 合，
式（1)中，m为O至2的整数； 所述酚醛清漆树脂（A-2)是由醛类化合物与芳香族羟基化合物聚合而得，其中所述芳 香族羟基化合物包括二甲酚类化合物。
2. 权利要求1所述的负型感光性树脂组合物，其特征在于，其中，所述丙烯酸酯系树脂 (A-I)的所述聚合用单体更包括具有羟基的单体（a-1-3)。
3. 权利要求1所述的负型感光性树脂组合物，其特征在于，其中，所述光致产酸剂（B) 包括鎗盐化合物、含齒化合物、砜化合物、磺酸化合物、磺酰亚胺化合物或上述化合物的组 合。
4. 权利要求1所述的负型感光性树脂组合物，其特征在于，其中，所述碱性化合物（C) 包括脂肪族伯胺、脂肪族仲胺、脂肪族叔胺、胺基醇、芳香族胺、季铵氢氧化物、脂环族胺或 上述化合物的组合。
5. 权利要求1所述的负型感光性树脂组合物，其特征在于，其中，基于所述碱可溶性树 脂（A) 100重量份，所述光致产酸剂（B)的使用量为0. 5至6重量份；所述碱性化合物（C) 的使用量为〇. 3至3重量份；所述交联剂（D)的使用量为5至35重量份，且所述溶剂（E) 的使用量为100至1000重量份。
6. 权利要求1所述的负型感光性树脂组合物，其特征在于，其中，基于所述丙烯酸酯 系树脂（A-I)与所述酚醛清漆树脂（A-2)的总使用量为100重量份，所述丙烯酸酯系树脂 (A-I)的使用量为10至70重量份，且所述酚醛清漆树脂（A-2)的使用量为30至90重量 份。
7. -种光阻图案的形成方法，其特征在于，包括： 于基板上涂布负型感光性树脂组合物，所述负型感光性树脂组合物如权利要求1至6 中任一项所述；以及对所述负型感光性树脂组合物进行处理步骤，以形成光阻图案。
8. 权利要求7所述的光阻图案的形成方法，其特征在于，其中，所述光阻图案为隔离 壁。
9. 一种金属图案的形成方法，其特征在于，包括： 于基板上形成光阻图案，其中，所述光阻图案是以权利要求7所述的方法而形成； 于所述基板上以及所述光阻图案上形成金属层；以及 移除所述光阻图案以及位于所述光阻图案上的所述金属层，以形成金属图案。
10. -种发光二极体晶粒的制造方法，其特征在于，包括： 于基板上形成半导体层；以及 于所述半导体层的至少其中一侧形成金属图案，以作为电极层，其中，所述金属图案是 以权利要求9所述的方法形成。
11. 一种有机发光二极体显示装置的制造方法，其特征在于，包括： 于基板上形成第一电极层； 于所述基板上涂布负型感光性树脂组合物，其中，所述负型感光性树脂组合物如权利 要求1至6中任一项所述； 对所述负型感光性树脂组合物进行处理步骤，以形成隔离壁； 于所述隔离壁所定义的区域内形成有机层；以及 于所述有机层上形成第二电极层。
【文档编号】G03F7/038GK104345557SQ201410371583
【公开日】2015年2月11日 申请日期:2014年7月31日 优先权日:2013年8月8日
【发明者】蔡宇杰 申请人:奇美实业股份有限公司