感光性树脂组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、有机el显示装置及液晶显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及一种感光性树脂组合物（W下有时简称为"感光性树脂组合物"或者 "本发明的组合物")。另外，本发明设及一种使用上述感光性树脂组合物的硬化膜的制造方 法、将感光性组合物硬化而成的硬化膜、使用上述硬化膜的各种图像显示装置。
[0002] 更详细而言，本发明设及一种适合于形成液晶显示装置、有机电致发光 (electroluminescence,EL)显示装置、集成电路元件、固体摄影元件等电子零件的平坦化 膜、保护膜或层间绝缘膜的感光性树脂组合物W及使用该组合物的硬化膜的制造方法。
【背景技术】
[0003] 在有机EL显示装置或液晶显示装置等中设置着形成有图案的层间绝缘膜。为了 形成该层间绝缘膜，就用于获得所需图案形状的工序数少，而且获得充分的平坦性等而言， 广泛使用感光性树脂组合物（例如专利文献1~专利文献3)。
[0004][现有技术文献]
[0005][专利文献]
[0006][专利文献1]日本专利特开平5-165214号公报
[0007][专利文献2]日本专利特开2008-256974号公报
[0008][专利文献3]日本专利特开平8-62847号公报
【发明内容】
[0009] 发明要解决的课题
[0010] 构成层间绝缘膜的感光性树脂组合物的重要特性可列举与基板的密接性。近年 来，随着显示装置高性能化、高精细化，而变得难W进行微细的图案加工，还要求提高硬化 后的层间绝缘膜材料的密接性。
[0011] 尤其，配线基板由于基板自身包含多种材料，故而形成于其表面的层间绝缘膜材 料还制定对多种基板的密接性。
[0012] 另外，上述层间绝缘膜由于会暴露于在层间绝缘膜形成后的透明电极膜的图 案形成时所使用的抗蚀剂的剥离液、或在液晶取向膜形成时所使用的N-甲基化咯烧酬 (N-met的Ipyrrolidone，NMP)中，故而需要具有对于该些层间绝缘膜中所使用的一般化学 品的充分耐性。
[0013] 此处，本申请发明人对现有技术进行了积极研究，结果可知，例如在专利文献3 中，虽揭示了通过在感光性组合物中调配1-环己基-3-(2-吗咐基己基）-2-硫脈，利用盐 酸系蚀刻剂进行的蚀刻中的密接性得到改良，但难W使在显影时W及其被制成硬化膜时的 状态下的对各种基板的密接性并存。另外，专利文献3中所揭示的感光性组合物由于对剥 离液或NMP等化学品的耐性（耐化学品性）不高，故而容易产生液晶显示装置中的显示不 良，因此谋求改善。
[0014] 本发明是为了解决上述课题而成，目的在于提供一种在显影时W及被制成硬化膜 时的状态下对各种基板的密接性优异、且耐化学品性也优异的硬化感光性树脂组合物。进 而，本发明的目的在于提供使用此种感光性树脂组合物的硬化膜的制造方法、硬化膜、有机 化显示装置W及液晶显示装置。
[0015] 解决问题的技术手段
[0016] 基于上述状况，本申请发明人进行积极研究，结果发现，通过使感光性树脂组合物 中含有；包含具有酸基的重复单元及具有交联性基的重复单元的聚合物W及在1分子内具 有包含配位原子的结构及硫脈结构的化合物，不仅感光性树脂组合物的显影时W及将感光 性树脂组合物制成硬化膜时的状态下对各种基板的密接性提高，而且将感光性树脂组合物 用于层间绝缘膜用途的情况下的耐化学品性也提高，从而完成本发明。
[0017] 具体而言，通过W下的解决手段<1〉，优选为通过<2〉~<17〉，来解决上述课题。
[0018] <1〉一种感光性树脂组合物，其含有：
[0019] (A)包含（al)具有酸基的重复单元及（a2)具有交联性基的重复单元的聚合物；
[0020] 炬）酿二叠氮化合物；W及
[0021] (C)在1分子内具有包含配位原子的结构及硫脈结构的化合物。
[0022] <2〉根据<1〉所述的感光性树脂组合物，其中上述（C)成分为包含至少一个W上的 氮原子作为上述配位原子的化合物。
[0023] <3〉根据<1〉或<2〉所述的感光性树脂组合物，其中上述（C)成分为下述通式（S) 所表示的化合物：
[0024] 通式做
[0025][化1]
[0026]
【主权项】
1. 一种感光性树脂组合物，其含有： (A) 包含（al)具有酸基的重复单元及（a2)具有交联性基的重复单元的聚合物； (B) 醌二叠氮化合物；以及 (C) 在1分子内具有包含配位原子的结构及硫脲结构的化合物。
2. 根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中所述（C)成分是包含至少一个以上 的氮原子作为所述配位原子的化合物。
3. 根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物，其中所述（C)成分为下述通式（S) 所表示的化合物。 通式（S)
(通式（S)中，R1表示包含至少一个以上的氮原子的基团，A表示2价连结基，R2表示 有机基）。
4. 根据权利要求3所述的感光性树脂组合物，其中所述通式⑶中，R 1为-NR 3R4 (R3及 R4分别为有机基，可相互键结而形成环）所表示的基团。
5. 根据权利要求3或4所述的感光性树脂组合物，其中所述通式（S)中，R1为5元环 或者6元环的环状基。
6. 根据权利要求3至5中任一项所述的感光性树脂组合物，其中所述通式（S)中，R1 为吗啉基。
7. 根据权利要求3至6中任一项所述的感光性树脂组合物，其中所述通式（S)中，在R2 的末端具有径基。
8. 根据权利要求1至7中任一项所述的感光性树脂组合物，其中所述构成单元（al)为 具有羧基和/或酚性羟基的重复单元。
9. 根据权利要求1至8中任一项所述的感光性树脂组合物，其中所述构成单元（a2)含 有包含选自由环氧基、氧杂环丁基以及-NH-CH 2-O-R(R为氢原子或者碳数1~20的烷基） 所表示的基团所组成的组群中的至少一个的构成单元。
10. 根据权利要求1至9中任一项所述的感光性树脂组合物，其中相对于所述感光性 树脂组合物中的全部固体成分，所述感光性树脂组合物中的所述成分（B)的调配量超过10 质量％且为40质量％以下。
11. 根据权利要求1至10中任一项所述的感光性树脂组合物，其中所述感光性树脂组 合物为正型感光性树脂组合物。
12. -种硬化膜的制造方法，其包括： (1) 将根据权利要求1至11中任一项所述的感光性树脂组合物涂布于基板上的工序； (2) 从所涂布的所述感光性树脂组合物中去除溶剂的工序； (3) 利用光化射线对去除了溶剂的所述感光性树脂组合物进行曝光的工序； (4) 利用水性显影液对经曝光的所述感光性树脂组合物进行显影的工序；以及 (5) 将经显影的所述感光性树脂组合物进行热硬化的后烘烤工序。
13. 根据权利要求12所述的硬化膜的制造方法，其中在所述显影工序后且所述后烘烤 工序前包括（6)将经显影的所述感光性树脂组合物进行全面曝光的工序。
14. 根据权利要求12或13所述的硬化膜的制造方法，其包括对具有所述后烘烤工序中 进行热硬化而获得的硬化膜的基板进行干式蚀刻的工序。
15. -种硬化膜，其利用根据权利要求12至14中任一项所述的硬化膜的制造方法而形 成。
16. 根据权利要求15所述的硬化膜，其为层间绝缘膜。
17. -种有机电致发光显示装置或者液晶显示装置，其具有根据权利要求15或16所述 的硬化膜。
【专利摘要】本发明提供一种硬化感光性树脂组合物，其在显影时以及被制成硬化膜时的状态下对各种基板的密接性优异，且耐化学品性也优异。本发明的感光性树脂组合物含有：(A)包含(al)具有酸基的重复单元及(a2)具有交联性基的重复单元的聚合物、(B)醌二叠氮化合物、以及(C)在1分子内具有包含配位原子的结构及硫脲结构的化合物。
【IPC分类】G02F1-1333, G03F7-023, H01L51-50, H05B33-22, G03F7-004
【公开号】CN104871089
【申请号】CN201380067676
【发明人】霜山达也
【申请人】富士胶片株式会社
【公开日】2015年8月26日
【申请日】2013年12月24日
【公告号】WO2014103997A1